Imec heeft de eerste yieldresultaten met ASML's high-NA-euv-machines gepubliceerd. Die machines worden in de komende jaren gebruikt voor de nieuwste chipproductieprocessen van bedrijven als Intel. Imec noteerde een 'elektrische yield' van ruim 90 procent op een enkele laag.
Belgische onderzoeksinstelling imec voerde onlangs 'elektrische tests' met een high-NA-euv-machine uit en presenteerde de resultaten daarvan tijdens een SPIE-lithografieconferentie in Californië. Daarvoor werden structuren met metalen lijntjes afgebeeld met een onderlinge afstand van 20 nanometer. Daarna werd bekeken welk percentage daarvan functioneel was.
Imec printte twee verschillende soorten structuren met een high-NA-machine. Er werden meander-structuren afgebeeld, die aangeven of metalen lijntjes ergens een breuk bevatten. Daarnaast werden ook fork-fork-structuren geprint. Die worden gebruikt om na te gaan of nabijgelegen lijntjes onbedoeld contact met elkaar maken. Dergelijke breuken en 'bruggen' zijn soorten 'stochastische defecten' die kunnen optreden tijdens het productieproces.
Bij die structuren werd volgens imec een yield van meer dan negentig procent opgemerkt. Dat wil zeggen dat ruim negentig procent van de afgebeelde structuurtjes daadwerkelijk functioneel was. Dat percentage geldt overigens voor een enkele laag, bevestigt imec tegenover Tweakers. Moderne chips bevatten tientallen lagen en bij iedere laag kunnen defecten optreden. De yields die chipmakers als TSMC en Intel communiceren bij hun procedés, zijn afhankelijk van alle lagen samen.
High-NA-euv zal overigens niet gebruikt worden voor al die tientallen lagen. Naar verwachting wordt high-NA bij introductie beperkt tot een klein aantal lagen van een chip. De 'gewone' euv-machines van ASML maakten hun debuut in TSMC's N7+-procedé uit 2019. Bij dat procedé werd euv gebruikt voor maximaal vier lagen. Voor de rest werden minder geavanceerde 'duv'-machines gebruikt.
Imec noemt de high-NA-yields van ruim negentig procent in ieder geval een goed resultaat. De tests geven chipfabrikanten en hun leveranciers inzichten over hoe stochastische defecten als lijnbreuken en bruggen in de toekomst verder beperkt kunnen worden.
High-NA is de tweede generatie euv van Nederlandse chipmachinemaker ASML. Deze machines hebben een hogere 'numerieke apertuur', wat betekent dat de optiek van de machines meer licht kan opvangen en scherpstellen. In theorie kunnen chipmakers daardoor kleinere transistors maken met een enkele belichting. ASML zegt dat de theoretische resolutie 13nm betreft voor low-NA, maar met high-NA wordt dat verlaagd naar 8nm, waarbij een lager getal beter is.
ASML levert de eerste high-NA-euv-machine voor grootschalige productie 'in de komende maanden', bevestigde ceo Christophe Fouquet in januari tegenover Tweakers. Die machine wordt dan geleverd aan Intel. Dat bedrijf ontving eerder al high-NA-testmachines en heeft daar inmiddels ruim 30.000 wafers mee belicht. Intel wil high-NA-euv grootschalig gaan gebruiken voor zijn 14A-procedé, dat in de loop van volgend jaar beschikbaar moet komen.