Het Belgische onderzoeksinstituut imec en de Duitse fabrikant van optische elektronica Zeiss hernieuwen hun samenwerkingsverband voor nog eens vijf jaar. De partijen werken samen aan het doorontwikkelen van high-NA-euv-lithografie.
Voor het 'strategische partnerschap' levert Zeiss onder meer optische meettechnologie die voor het lithografische chipproductieproces gebruikt wordt, zo meldt imec in een persbericht. Naast het leveren van deze apparatuur, die gebruikt wordt in de onlangs door ASML beschikbaar gestelde halfgeleidermachines, draagt Zeiss volgens imec ook bij aan onderzoeksprojecten. De ceo van het onderzoeksinstituut, Luc van den Hove, noemt de samenwerking met en technologische kennis van Zeiss 'essentieel voor het onderzoeken en ontwikkelen van geavanceerde halfgeleidertechnologieën'.
Tevens investeert het Duitse bedrijf een onbekend bedrag in de zogenoemde NanoCL-pilotlijn van imec. Met deze testopstelling worden sub-2nm-chips ontwikkeld en getest. Imec kreeg halverwege 2024 een investering van 2,5 miljard euro voor deze testopstelling.