De Nederlandse chipmachinebouwer ASML heeft het eerste exemplaar van zijn high-NA-extreme ultraviolet-lithografiesystemen geleverd aan chipfabrikant Intel. De high-NA-euv-machines moeten het mogelijk maken om kleinere, snellere halfgeleiders te produceren.
De high-NA-euv-systemen kosten elk meer dan 300 miljoen dollar en worden verscheept in 250 afzonderlijke kratten. Naar verwachting worden de machines vanaf 2026 of 2027 gebruikt in de commerciële chipproductie. Rond 2027 of 2028 wil ASML jaarlijks twintig high-NA-systemen leveren.
ASML deelde een foto van de eerste levering op het sociale medium X. Intel is de eerste, maar niet de enige die een bestelling plaatste voor de high-NA-systemen van het Veldhovense ASML. Onder meer TSMC, Samsung, SK hynix en Micron hebben de nieuwe euv-machines besteld, meldt Reuters.
De high-NA-systemen zijn de volgende generatie van ASML's euv-machines, met een hogere numerieke apertuur om de chipdichtheid te verhogen. Uiteindelijk moet hyper-NA volgen, een systeem met een nog hogere numerieke apertuur om nog kleinere chips te produceren. Tweakers sprak eerder dit jaar met cto Martin van den Brink over de toekomstdoelen van ASML.