GlobalFoundries start een vijfjarig project om euv-technologie bij de productie van chips in te zetten. De fabrikant wil euv-chipproductiemachines van ASML gebruiken voor het 7nm-procedé. Met het project is een bedrag van 500 miljoen dollar gemoeid.
Het project omvat de oprichting van een Advanced Patterning and Productivity Center in de staat New York, dat de invoering van de extreme ultraviolet-lithografie voor daadwerkelijke productie moet versnellen. GlobalFoundries werkt samen met het Suny Polytechnic Institute en daarnaast zijn IBM en Tokyo Electron betrokken. GlobalFoundries nam in 2014 de chipdivisie van IBM over.
Het onderzoekscentrum gaat onder andere een NXE:3300B-scanner van ASML gebruiken. Bij het Suny Polytechnic Institute zelf is onlangs ook al zo'n machine geplaatst. Het project zal zich onder andere richten op het verhogen van de productie. ASML maakte vorig jaar bekend dat de productiecapaciteit van de NXE:3300B op meer dan duizend belichte wafers per dag ligt. Eind januari berichtte het bedrijf dat de productiesnelheid bij de NXE:3350B op 1250 wafers per dag ligt.
Intel hoopt euv 'ergens na de start van de 7nm-productie' in te kunnen zetten, zei William Holt, executive vice-president bij Intel onlangs tegen EETimes. De inzet kan dan mogelijk de kosten voor de 7nm-productie flink verlagen: tot euv ingezet kan worden moeten chipfabrikanten multi-patterning bij de huidige immersielithografie-technologie toepassen, om de kleine structuren op de wafer aan te brengen. Hiervoor zijn meerdere stappen en maskers nodig waardoor de productietijd en kosten toenemen.
Euv is de beoogde opvolger van immersie om de minuscule lijntjes voor chips op wafers aan te brengen. De euv-machines maken gebruik van licht met een golflengte van 13,5nm, waarmee in een enkele stap de kleine structuren aangebracht kunnen worden. Het techinstituut Imec becijferde vorig jaar dat 34 lithografiestappen nodig zijn voor 7nm via immersie en 9 via euv.