TNO rondt de bouw van zijn belichtings- en analysefaciliteit EBL-2 af en schijnt voor het eerst met een euv-bron op een testmonster in de belichtingskamer. De chipindustrie kan van de faciliteit gebruikmaken om het effect van euv-belichting op materialen te onderzoeken.
Onder andere de duurzaamheid en de mate van 'vervuiling' door blootstelling aan euv zijn te analyseren met de EBL-2-faciliteit, meldt TNO. De faciliteit bestaat uit twee delen: er is een belichtingsonderdeel, dat op zijn beurt uit een euv-lichtbron, een lichtbundelingseenheid en een belichtingskamer bestaat. Daarnaast is er een systeem voor de chemische analyse van oppervlakken van testmonsters. Deze werkt op basis van x-ray photoelectron spectroscopy, of xps. Beide systemen opereren in een vacuüm.
Volgens de organisatie kunnen alle bedrijven in de euv-industrie er gebruik van gaan maken, zoals toeleveranciers van ASML als Zeiss. ASML is het verst gevorderd met de implementatie van euv-lithografie voor machines om chips te maken. Zo verwachten Samsung en GlobalFoundries de ASML-machines bij de productie van 7nm-chips in te kunnen zetten, wat op zijn vroegst eind 2018, begin 2019 gebeurt. TSMC verwacht euv pas bij de overstap naar 5nm in te kunnen zetten. Ook ASML's concurrent Nikon werkt aan euv-machines en daarnaast is onderzoeksinstituut IMEC er mee bezig.
Met de euv-lithografietechniek wordt gebruikgemaakt van extreem ultraviolet licht, dat door de kleinere golflengte voor kleinere structuren bij de chipproductie kan zorgen dan met immersielithografie. Momenteel gebruiken chipfabrikanten nog machines op basis van immersielithografie maar de grenzen van die methode komen in zicht.