ASML heeft in een test met een euv-systeem 1488 wafers op een dag belicht. Het gemiddelde over een periode van drie dagen bedroeg veertienhonderd belichte wafers. De fabrikant van machines voor de chipproductie heeft daarmee het doel van vijftienhonderd wafers per dag in zicht.
Dat doel hoopt ASML eind dit jaar bereikt te hebben, waarbij het om een aanhoudende output gaat. De uitschieter van 1488 wafers werd bij ASML zelf op een testsysteem voor euv-lithografie behaald. Bij partners als Intel en TSMC staan ook al euv-systemen. Bij een van de partners is daarbij twaalfhonderd wafers per dag gehaald, heeft ASML volgens het FD tijdens de Semicon West-conferentie in San Francisco bekendgemaakt.
Anderhalf jaar geleden bereikte ASML een piek van 1022 wafers binnen 24 uur, het doel voor 2015 was aanhoudend dagelijks duizend wafers kunnen belichten. Het structureel via euv kunnen belichten van grote hoeveelheden wafers is cruciaal om de technologie bij de productie kostenefficiënt in te kunnen zetten.
Een andere factor die hierbij van belang is, is de tijd dat de euv-machines ook daadwerkelijk lange tijd achter elkaar functioneren. In San Francisco zei ASML dat de machines die bij vijf klanten staan 80 procent van de tijd hun werk naar behoren doen, met uitschieters tot 89 procent. Het bedrijf is hier nog niet tevreden over.
Met de euv-lithografietechniek wordt gebruikgemaakt van extreem ultraviolet licht, dat door de kleinere golflengte voor kleinere structuren bij de chipproductie kan zorgen dan met immersie-lithografie. Momenteel gebruiken chipfabrikanten nog machines van ASML op basis van immersie-lithografie, maar met die technologie kunnen ze binnenkort niet meer op kleinere procedés overstappen. Het overstappen op kleinere procedés vormt de basis voor het kunnen maken van zuinigere en snellere chips. Euv wordt al jaren genoemd als beloofde methode om kleinere nodes mogelijk te maken, maar ASML had grote moeite om de technologie geschikt te maken voor massaproductie.
Demotool van euv-machine bij ASML uit 2010