Intel heeft vandaag te kennen gegeven dat het SRAM-chips met een 65 nanometer-procédé heeft gebakken op wafers met een doorsnede van 300mm. Hoewel geheugens minder eisen stellen aan de productiemethode dan processors, is deze aankondiging toch een goede indicatie van hoe ver Intel ondertussen is met het ontwikkelen van de technologie. De eerste 90 nanometer SRAM-cel werd in maart 2002 getoond. Het bedrijf verwacht in 2005 te kunnen beginnen met massaproductie van producten zoals processors met behulp van dit procédé.
De SRAM-chips die zijn gemaakt hebben een capaciteit van vier megabit. Iedere cel (bit) bestaat uit zes transistors en neemt slechts 0.57µm² in beslag. Hierdoor is het mogelijk om op een vierkante millimeter maar liefst 10 miljoen transistors te plaatsen, wat overeenkomt met een 1,66Mbit SRAM-geheugen. Dit is twee keer zoveel als wat er met het huidige 90nm-procédé kan worden bereikt. Uiteraard wordt er gebruik gemaakt van de allerlaatste technische snufjes, zoals strained silicon, koperen verbindingen en low-k dielectric.
