High-NA-machines van ASML maken in de komende maanden hun eerste echte chips

ASML's high-NA-euv-machines zullen 'in de komende maanden' hun eerste producten belichten. Dat zei ASML-ceo Christophe Fouquet tijdens een conferentie. Dat is een grote mijlpaal: de machines deden al aan testproductie, maar werden nog niet gebruikt om 'echte' chips te maken.

Dit nieuws in het kort

  • De nieuwe high-NA-euv-machines van ASML zullen binnenkort hun eerste 'echte' chips maken.
  • Tot nu toe maakten de machines alleen teststructuren, maar nog geen werkende producten.
  • Het gaat vooralsnog om pilotproductie; high-NA wordt later pas op grote schaal gebruikt door fabrikanten als TSMC en Intel.

"In de komende maanden zullen de eerste productwafers voor geheugen- en logicachips belicht worden met high-NA-systemen", zei Fouquet tijdens ITF World in Antwerpen, waarbij ook Tweakers aanwezig was.

Het is een belangrijke stap. High-NA is de afgelopen jaren al uitgebreid gebruikt in het lab, maar daarbij werden eerder alleen niet-functionele teststructuren geprint. 'Echte' werkende logic- en geheugenchips rolden niet eerder uit deze nieuwe chipmachines. Daar moet binnenkort dus verandering in komen. Welke fabrikanten deze werkende chips precies gaan belichten, is niet duidelijk.

ASML high-NA-euv-machine
Een high-NA-machine. Bron: ASML

Grootschalige productie volgt later

Het zal geen productie op grote schaal zijn. "Een aantal van onze klanten gaat High NA testen op echte productwafers", zei de ceo in april tegen aandeelhouders. Die testruns moeten aantonen dat ze de nieuwe machines kunnen gaan gebruiken voor het maken van echte producten, vertelde hij daarbij.

In de komende jaren zal high-NA op grote schaal toegepast worden in nieuwere procedés, al verschilt de planning daarvoor per chipmaker. Intel heeft als eerste grote fabrikant high-NA op zijn openbare roadmap staan. Zijn '1,4nm'-procedé, Intel 14A, gaat high-NA optioneel gebruiken. Dat moet vanaf 2028 in productie gaan.

High-NA naar de praktijk

High-NA is de volgende generatie van ASML's belangrijke euv-chipmachines. Die kunnen minuscule patroontjes afbeelden en zijn daarom onmisbaar voor het maken van de allerbeste chips. Alle grote chipfabrikanten, zoals TSMC, Samsung en Intel, gebruiken die machines van ASML daarom in hun fabrieken.

De nieuwere high-NA-varianten voeren een aantal verbeteringen door, die chips in de toekomst nóg krachtiger moeten maken. Er is tien jaar lang gewerkt aan deze nieuwe high-NA-tools. Vorig jaar werd de eerste machine geleverd die in theorie geschikt is voor commerciële productie. Die machines worden nu dus klaargestoomd voor de praktijk.

Terugkijken: ASML leverde eerder dit jaar een high-NA-machine aan Belgische onderzoeksinstelling imec. Tweakers mocht daarbij een kijkje achter de schermen nemen.

Door Daan van Monsjou

Nieuwsredacteur

21-05-2026 • 13:48

28

Lees meer

Reacties (28)

Sorteer op:

Weergave:

DexterDee Moderator General Chat 21 mei 2026 14:10
Goed om ook even technisch uit te leggen wat High-NA is, want dat staat dan weer niet in dit artikel:

ASML’s High-NA machines gebruiken nog steeds EUV-licht met een golflengte van 13,5 nanometer, maar vergroten de zogeheten Numerical Aperture (NA) van 0,33 naar 0,55. Die NA bepaalt hoeveel licht onder verschillende hoeken door het optische systeem kan worden opgevangen: hoe hoger de NA, hoe fijner de details die op de wafer geprojecteerd kunnen worden. Daardoor wordt de minimale lijnbreedte kleiner en kunnen transistoren dichter op elkaar worden geplaatst. Om dat mogelijk te maken moesten de spiegelsystemen volledig opnieuw ontworpen worden, omdat EUV-licht niet door gewone lenzen gaat maar alleen via extreem precieze multilayer-spiegels wordt gereflecteerd. Ook de wafer-stage moet veel nauwkeuriger bewegen, met positioneringsfouten van slechts enkele picometers tijdens hoge snelheden. Technisch gezien verschuift High-NA dus de grens van optische resolutie, zodat chipfabrikanten kleinere structuren kunnen printen zonder complexe multi-patterning stappen.
Nog één van de funfacts van high NA, is het volgende:
Er wordt gebruik gemaakt van anamorphic optics. Simpel gezegd: een standaard veld wat per keer maximaal belicht kan worden was 26x33mm. Dat is nu in één richting gehalveerd, waardoor het 26x16,5mm is. Dit is omdat high-NA grotere spiegels heeft en daardoor het licht in een grotere hoek op het reticle projecteert, waardoor dat licht niet zou reflecteren.

Dat is op zich niet zo gek, maar doordat de machine maar halve velden projecteert, is de snelheid verhoogt. En dát betekent weer dat het reticle versnellingen ondervindt van wel 32G. Dat is zo'n ACHT keer de G-krachten die je ervaart in de Goliath achtbaan. Maar dan zonder door elkaar te schudden, wél met nanometer precisie. Het komt ook overeen met het optrekken naar 100km/uur in minder dan 0,1 seconde.
DexterDee Moderator General Chat @Nas T21 mei 2026 15:50
De lithografiemachines van ASML zitten vol met fun facts.

Als je een toegepaste Carl Zeiss spiegel zou opschalen naar de grootte van Nederland (~300km) dan zou de maximale tolerantie van het oppervlakte minder dan 0,02mm zijn. Dat is dunner dan een menselijke haar!
Als ik het goed begrepen heb wordt deze meest hoogwaardige spiegel technologie in de VS gemaakt en is die bedrijf/onderdeel van ASML onmisbaar er is geen andere in de wereld.
AuteurAverageNL Nieuwsredacteur @litebyte21 mei 2026 14:34
De spiegels komen uit Duitsland (Zeiss SMT, waar ASML wel een minderheidsbelang in heeft)! De lichtbron wordt wel gemaakt in de VS, bij het voormalige Cymer (tegenwoordig inderdaad onderdeel van ASML, onder de naam ASML San Diego) :)
En het voormalige Berliner Glass (ASML Berlin) maakt een hoop ander ‘glaswerk’.
Dank, ik dacht dat Cymer ook verantwoordelijk was voor de spiegels zelf.
Cymer uit de US maakt de tin-laser, Zeiss uit Duitsland maakt de lenzen.
Cymer uit de US maakt de tin-laser, Zeiss uit Duitsland maakt de lenzen.
En Cymer is vervolgens weer onderdeel van de ASML-groep (https://www-asml-com.translate.goog/en/company/about-asml/cymer?_x_tr_sl=en&_x_tr_tl=nl&_x_tr_hl=nl&_x_tr_pto=rq&_x_tr_hist=true)
Maar blijft inerlectueel eigendom van de US volgens hunnie wetten.
DexterDee Moderator General Chat @litebyte21 mei 2026 14:33
Voor zover ik weet worden de spiegels niet in de VS gemaakt maar in Duitsland door Carl Zeiss. De SMT divisie van het bedrijf is hier verantwoordelijk voor. Wel klopt het dat Carl Zeiss vrijwel de enige partij in de hele wereld is die de spiegels met de vereiste precisie kunnen produceren.
👍🏽

[Reactie gewijzigd door dano2504 op 24 mei 2026 13:23]

Neen Source-mirror wordt bij Zeiss in Duitsland gemaakt.

Die spiegel die groeit ! Er word op atomair niveau elke keer weer een laagje materiaal aangegroeid. Anders kan de laag gelijkheid niet goed sturen. En hb je dus afwijkingen. die spiegel wordt ook niet meer gepoets of gelept. Ivm met mogelijke krassen. maar wordt bij vervuiling in zeer speciale machines na gebruik gereingd
Veritasium heeft er een interesante video over YouTube: The World's Most Important Machine
Leuk detail is dat de hoofdredacteur/presentator van Veritasium de Nederlandse Casper Mebius is. Studeerde bedrijfskunde in Rotterdam en natuurkunde in Delft.
Fijne presentator! Ik hoorde wel IETS in zijn accent, maar zou niet gedacht hebben dat hij een Nederlander was!
Voor zover ik weet maakt de Duitse firma Trumpf de lasers voor ASML. Ik heb vorig jaar bij hoge uitzondering een rondleiding door de fabriek in Ditzingen gehad. Was voor ons als toeleverancier voor ASML klanten zeer leuk en indrukwekkend.

https://www.trumpf.com/nl_NL/newsroom/persberichten-wereldwijd/persbericht-detailpagina/release/asml-honors-trumpf-for-new-euv-laser-9838/

[Reactie gewijzigd door Mike70 op 21 mei 2026 20:26]

Trumpf maakt de lasers voor de EUV source die weer van Cymer komt (wat ondertussen ASML is). Daarnaast maakt Cymer ook laser lichtbronnen voor DUV machines maar die maakt Trumpf dan weer niet.
Nee zo zit het niet in elkaar!

Trumpf is een Duitse machinebouwer en produceert naast de Drive laser (CO2) ook zetbanken en snijgereedschappen voor de zware scheepsbouw ed. Info kan je vinden op de Trumpf site

In die machines zit een True-Coax laser die versterkt wordt dmv een aantal zeer speciale power-amplifiers
Dat aldus verkregen laserlicht gaat naar de Cymer source waar het EUV licht wordt gemaakt en naar binnen wordt gestuurd naar de exposure unit.
In de ASML machine gebeurt de rest. Naast Trumpf is er ook nog GigaPhoton, die ook dergelijksoort laser opstellingen maakt, alleen zijn deze meen ik op Fluor basis en hebben dus een ander soort golflengte.
Ik schreef dat Trumpf lasers maakt voor de EUV source. Het is de source die EUV licht produceert inderdaad. De lasers van Trumpf zijn de zogenaamde drive lasers waarmee in de source op de tindruppels wordt geschoten waardoor die druppels verdampen en daarbij komt EUV licht vrij.

Cymer maakt ook lasers (lichtbron) voor DUV machines net zoals Gigaphoton. Bij DUV machines van ASML koopt de klant zelf de lichtbron en die kunnen ze bij Gigaphoton of bij Cymer bestellen. Bij EUV machines wordt de source bij de lithografie machine geleverd want ASML is de enigste leverancier.

Mij is niet helemaal duidelijk wat er nu niet klopte in mijn eerste post.
Waarom de titel niet gewoon:

High-NA-machines van ASML belichten in de komende maanden hun eerste echte chips

Nu staat er maken en dat houdt bij veel mensen het idee in stand dat ASML machines chips maken. Dit doen ze niet. Ze belichten, als onderdeel van het productieproces om chips te maken.
De vraag is of je dat nog licht kunt noemen...
Ja waarom niet. Ja over de efficientie van te disccusieren. Het is eigenlijk de meest dure projector lamp ooit ontworpen. Maar er komt toch echt licht uit. Je kan het alleen niet zien. En het verstrooit wel degelijk in de normale omgeving. Daarom staan de machines onder hoogvacuum en wordt er flink gespoeld met oa. waterstof om de boel van binnen zo extreem schoon mogelijk te houden.

Dit concept heeft zich bewezen. en zal in de loop van de tijd gewoon door evolueren.
Gaat om de golflengte 13 nm is niet echt licht in de zin van zichtbaar ...
Ik ben wel echt benieuwd of TSMC dezelfde kapitale fout maakt (of iig een vergelijkbare) als Intel dat deed met EUV. Ze zeggen wel leuk dat ze verder kunnen met de bestaande apparatuur en dat de nieuwste machines te duur zijn, maar precies die gedachte zorgde er uiteindelijk voor dat Intel op het beruchte 14nm-procedé (++++, zo u wilt) bleef haken...
Ik denk dat het onwaarschijnlijk is dat ze dezelfde fout maken als intel, omdat er bij intel veel meer fout ging dan niet overstappen op andere machines. Ze wilden op te veel gebieden tegelijk teveel vooruit, en als je 100 dingen verandert is het veel lastiger te troubleshooten waar het precies fout gaat. Dit terwijl tmsc veel kleinere maar beheersbaardere stapjes maakt
Exact, want zowel Intel als TSMC zijn beiden betrokken in dit project.
En die zullen op het hoger overleg echt wel hun wensen beschikbaar hebben gemaakt.

Op dit item kan niet meer gereageerd worden.