Intel stopt met ontwikkelen van 157nm lithografiescanner

Intel heeft aangekondigd dat ze voor hun toekomstige 45nm-proces geen gebruik zal maken van 157nm-lithographiescanners. Intel hoopte eerder dat het zowel 193nm en 157nm-scanners kon inzetten voor het fabriceren van 45nm-chips, maar een aantal problemen met de 157nm-technologie hebben ervoor gezorgd dat Intel hiervoor alleen 193nm-scanners zal toepassen. Dit is een grote klap voor Intel's leveranciers van lithografiescanners, waaronder het Nederlandse ASML:

In its new roadmap, which was disclosed today (May 22), Intel plans to deploy 193-nm scanners for three nodes: 90-, 65-, and 45-nm. The primary candidate for the 32-nm node, which is slated for 2009, is EUV, Silverman. �Intel will continue to monitor other potential lithography technologies,� he said.

The company has not ruled out using 157-nm tools for the 32-nm node, but the technology is on the outside looking in at Intel. One of the problems with 157-nm tools is obtaining and growing the required calcium-fluoride materials for the lithography lens, Silverman said. �The material is very expensive and the supply is very low,� he said.

There are other issues. Photoresists and pellicles for 157-nm tools remain immature--if not non-existent. And researchers found unsuspected high levels of intrinsic birefringence in the lens materials, which will severely affect lens design and images at the wafer level in 157-nm tools.

Reacties (7)

[Pantagruel]

MMM da's minder voor ASML. Klaarblijkelijk vindt Intel de 'yield' (= opbrengst) te laag en dus de kosten te groot.

De hete adem van AMD in hun nek betekend deze keer geen technologie sprong vooruit.

Als je dan leest dat de andere ondersteunende stoffen ( photoresist en pellicles) niet echt bestaan of nog in de ontwikkel fase zitten, dan is het dus nog te vroeg voor 157 nm en is de stap van Intel om niet voor 157 nm te gaan een slimme keuze. Intel zit er niet op te wachten om als beta-tester te fungeren.

Wachten tot de foto-chemie spullen wel op orde zijn en dan weer op naar nog smallere spoortjes op de wafer.

[Olaf van der Spek]

Waar wordt over yield gesproken?

[Verwijderd]

ze stoppen de productie niet de technologie...

als ze ooit ik zeg maar iets 2.25nm banen willen maken zullen ze die kunnen gebruiken

[Oeboema]

De titel klopt niet: Intel heeft nooit een lithografiescanner ontwikkelt, dus kunnen ze ook niet stoppen. Ze hebben alleen 157nm van hun roadmap afgegooid voor de 45 nm node. Die willen ze nu met 193nm immersion lithografie gaan doen.

[mhzeater]

Nu maar hopen dat AMD hiervan kan profiteren.

Misschien stom idee maar er zit al een hoop geld en dus kennis in de technologie. Dus misschien kan AMD goedkoop aan die kennis komen. relatief goedkoop althans.

Wat doen die scanner eigenlijk? Ik reageer wel maar ik weet niet waar het precies over gaat. Het zal mijn instinkt wel zijn. Die neemt het altijd op voor de underdog.

[-bolio-]

Waarom reageer ergens waar je niet weet waar je over praat Zo een machine is dus om chips te maken. Gaat een wafer (plak zand ) in dat ding en door een lithografisch proces worden hier chips in ge-etst. Waar ze het hier over hebben is de precisie (grote) waarmee die chips ge-etst kunnen worden: kleinere lijntjes = kleinere chips = minder hitte = meer kloksnelheid om het simpel te houden.

[Verwijderd]

@ Olaf: ze hebben het er pas in het laatste deel over dat eventueel ook technische problemen roet in het eten kunnen gooien, teriwjl in het eerste gedeelte alleen werd gesproken over een te lage aanvoer van benodigde onderdelen (calciumfluoride bijvoorbeeld)... dat verklaart denk ik de opmerking over de te lage "yield" (en an dus niet in de zin van een te lage opbrengst PER WAFER maar meer een productiecapaciteitsprobleem). Hope that helps you out.