Cookies op Tweakers

Tweakers maakt gebruik van cookies, onder andere om de website te analyseren, het gebruiksgemak te vergroten en advertenties te tonen. Door gebruik te maken van deze website, of door op 'Ga verder' te klikken, geef je toestemming voor het gebruik van cookies. Wil je meer informatie over cookies en hoe ze worden gebruikt, bekijk dan ons cookiebeleid.

Meer informatie

Door , , 23 reacties
Bron: InternetNews

InternetNews meldt dat Intel een financiŽle injectie heeft gegeven aan Cymer. Dit bedrijf mag twintig miljoen dollar spenderen aan de ontwikkeling van EUV-lithografie. EUV staat voor 'extreem-ultraviolet'; de term wordt in de chipindustrie gebruikt voor golflengtes van iets meer dan 10 nanometer. De huidige machines werken op basis van DUV of diep-ultraviolet, wat neerkomt op 193nm. Intel was van plan eerst over te stappen naar 157nm voor EUV in beeld kwam, maar die plannen zijn vorig jaar gewijzigd.

De eerste commerciŽle EUV-scanners zullen waarschijnlijk in 2009 worden geÔntroduceerd. Daarmee loopt Intel voor op de International Technology Roadmap for Semiconductors (ITRS), die de technologie pas in 2013 op de agenda heeft staan. De scanners zullen gebruikt worden voor het 32-nanometerprocťdť - voor 45 en 65 nanometer zullen de huidige DUV-machines worden gebruikt. Voor de chipfabrikanten is het te hopen dat de prijs van EUV-scanners nog wat daalt: de prijs voor het lithografiegedeelte bedraagt op dit moment ongeveer dertig miljoen dollar, terwijl voor elke zogeheten cel - waarvan de producent er waarschijnlijk meer dan een nodig heeft - een slordige vijftig miljoen mag worden neergeteld.

EUV Extreme Ultraviolet Lithography
Moderatie-faq Wijzig weergave

Reacties (23)

Goeie zaak. Er moet nu flink worden geinvesteerd in Nanotechnologie, want niet alleen het etsen wordt steeds meer een probleem, maar het lekken en nare quantummechanische bijeffecten, zoals halfgeleiders die geleiders worden. Het zal steeds lastiger worden.
Er zijn allerhande instituten/bedrijven/universiteiten volop bezig met de ontwikkeling van onderdelen van deze technologie.
Op het bedrijf waar ik stage liep, het FOM voor Plasmafysica Rijnhuizen, worden zowel lichtbronnen (EUV laserplasma's, ook te zien in de illustratie) als coating-machines voor spiegels die voor dergelijke toepassingen gebruikt zullen worden ontwikkeld.
O.a. ASML is hier natuurlijk ook mee bezig
(niet met de vroege ontwikkeling, ok). De volgende generatie wafersteppers wordt gewoon uitgerust met EUV lichtbron en optiek. Lenzen zijn hiervoor trouwens niet te gebruiken (teveel absorptie) maar spiegels wel. Dit is trouwens een van de hoofdredenen waarom EUV-wafersteppers grofweg twee keer zo duur zullen worden als de huidige DUV-steppers; de spiegels die gebruikt moeten worden zijn heel moeilijk om te maken (reflectie-record dat tot nu toe gehaald is voor 13,5 nm ligt onder de 70 %).

Hoewel de golflengte weer een stapje omlaag gaat, heeft dit nog steeds niets met nanotechnologie te maken. Gewoon een vergissing van de schrijver van dit artikel.
waarom zijn die dingen eigelijk zo onwijs duur?
Met deze technologie is het mogelijk om pak 'm beet 100 miljoen transistors op een oppervlak van zeg maar 10 cm2 te krijgen.
Hoe die dingen gemaakt worden is trouwens ook best interessant; heb ik net de afgelopen weken op school gehad.
Op dit plaatje is een model van een MOS transistor te zien:
http://www.mse.cornell.edu/courses/engri111/images/trans1.gif
De breedte van de gate die daar te zien is, is de lengte die wordt gebruikt in de naamgeving van het proces; op het moment dus 90nm.
Licht gaat ongeveer van 400nm-900nm; het is dus onmogelijk om met wat voor (met licht werkende) apparatuur dan ook zo'n enkele mosfet te zien, simpelweg omdat die gigantische fotonen niet tegen een zo'n ding apart aan kunnen knallen en gereflecteerd kunnen worden.
Wat er gebeurt in het proces is ongeveer het volgende:
Er wordt ontzettend zuiver silicium gemaakt, wat wordt gesmolten. Vervolgens wordt er een klein stukje monokristallijn silicium aan een draadje gehangen en door die zuivere siliciumstroop getrokken.
Dan worden er ontzettend platte plakjes gemaakt van zo'n staaf; de wafers.
Dit wordt bekogeld met bv. borium en fosfor atomen om N en P silicium gemaakt. Dan wordt er een isolator overheen gelegd, voor het gedeelte tussen gate en drain/source. Dan wordt de gate eropgelegd, steeds worden bepaalde delen weggeetst. Om verbindingen te maken wordt er weer een isolator overheen gelegd, waarin gaatjes 'geboord' worden, aluminium erover, weer etsen, zodat er stukjes aluminium overblijven. Dan weer aluminium erover, gedeeltelijk wegetsen, zodat er verbindingsbaantjes overblijven. Dit wordt een paar keer herhaald voor verschillende lagen van verbindingen.
Die verbindingslaagjes enzo zouden geloof ik 8 atoomlagen plus of min een kwart atoomlaag dik mogen zijn.
Het totale proces bestaat uit zo'n 100 stappen.
Hmm... hoe zou het komen dat die machines zo duur zijn?
Beetje lang verhaal geworden... en het zou kunnen dat het niet helemaal klopt, maar dit geeft toch een aardige indicatie denk ik.
Met de huidige technologie kan je al > 100 miljoen transistors op 1cm2 krijgen, dus ik denk dat je je ergens vergist. (Zoek maar eens op hoeveel transistors er in een Pentium 4 zitten)
Omdat er weinig bedrijven zijn die deze apparaten kunnen leveren :-|
Ik denk dat voornamelijk het probleem is dat weinig bedrijven ze willen hebben. Hierdoor heb je weinig afzet waarover je je research kosten kan verdelen.
En dat komt omdat het zo lastig is om lenzen te maken voor (zachte) roentgenstraling. Alleen met hele speciale materialen lukt dat. Het schijnt ook niet makkelijk te zijn om hier "lampen" voor te maken.
In EUV machines zitten geen lenzen maar spiegels. EUV 'licht' gaat namelijk niet meer door de lenzen heen. Evengoed is het maken van die spiegels ontzettend moeilijk. Ze moeten tot op het atoom perfect zijn!
Omdat onderzoek naar dit soort technologien stervens duur is.

Kostbare apparatuur (probeer jij maar even controller software te ontwikkelen en bij behorende controllers om die spiegeltjes zo voor mekaar te krijgen dat het licht wat je gebruikt stabiel op je wafer terecht komt....... elke minieme afwijking zorgt voor desastreuze resultaten: Een kapotte chip).

De fout toleranties in dit soort apparatuur is duizelingwekkend...... of eerder het gebrek aan toleranties/speling ...
Zonder mensen te belediggen,
ik vind het verhaal wat onduidelijk naar mijn gevoel is de nieuwspost niet af, ik kan er weinig duidelijke info uit halen, en kan me moeilijk voorstellen wat voor voordelen dit voor de toekomst heeft.
ligt dit aan mij???

edit: overbodig? dus voor alle andere bezoekers van tweakers.net is dit wel een duidelijk verhaal??
Het verhaal strookt niet echt met de topic titel. Dat ben ik met je eens....

Waar ik bij denk aan nanotechnologie zijn kleine machines op nano-schaal en niet chips die met nog kleinere baantjes gemaakt worden.

Op zich is de samenvatting wel redelijk duidelijk, maar de titel is in mijn ogen ietwat ongelukkig. Als het hele artikel gaat over Extreme Ultra-Violet lithografie, noem het dan ook zo, en niet "nano-technologie". Brengt echt andere associaties op. Was al helemaal blij van "w00t! Intel gaat iets doen aan nano mechanica?"


[edit]
Hmm tja, ok, dan heb ik het ook niet helemaal bij het rechte eind gehad wat betreft de terminologie. Mea culpa
Ik geloof dat de topic titel al is gewijzigd maar ik wil toch even reageren.
Waar ik bij denk aan nanotechnologie zijn kleine machines op nano-schaal en niet chips die met nog kleinere baantjes gemaakt worden.
Dit is toch echt een denkfout van jou! nano technologie is een verzamelnaam voor alle toepassing die gaan komen die te maken hebben met het bewerken van materialen op nanometer schaal. Dus niet alleen mechanica. Sterker nog de eerste toepassingen zien we in de electronica en waarschijnlijk met euv lithografie of een opvolger hiervan.
Brengt echt andere associaties op. Was al helemaal blij van "w00t! Intel gaat iets doen aan nano mechanica?"
Hier zeg je het precies goed nano mechanica is dus niet nano technologie. Dat is slechts een onderdeel hiervan. Dus als de topic titel over nano technologie ging klopt dit wel degelijk.

edit:
Ik zie pas na het posten dat tweakerbee sneller heeft gereageerd. (verhaal typen duurde even) Sorry voor de dubbel post
nanotech is toch wel degelijk alles wat gemaakt wordt met baantjes in de orde van grootte van nanometers.
tis mij duidelijk
kern van het verhaal is dat intel geinvesteerd heeft in een nieuwe techniek van maken van chips.
dat staat er.
simpel toch :)
Betkend dit dat ASML/ASMI, de nederlandse chipmachine bouwer, hiermee gepasseerd wordt ?
dat vraag ik me dus ook af ja.. asml neemt de silicon valley group over, krijgt bij deze overname als klant erbij: Intel... maar nu wordt er dus geen woord gerept over asml ? :/ vaeg..
Het antwoord is nee. ASML is een system integrator die alle afzonderlijke onderdelen samenbouwt tot een werkend systeem. De techniek die nu wordt ontwikkeld is ook voor ASML interessant.

Bovendien kost de R&D voor de ontwikkeling van de EUV-technologie naar schatting anderhalf miljard euro. Dat bedrag is dusdanig groot dat heleboel ondernemingen en onderzoeksinstituten samenwerken om de technologie te ontwikkelen. Ontwikkeling van EUV-lithografie is daarom in eerste instantie alleen maar gunstig voor ASML.
ASML is hier al ongeveer 1,5 jaar mee bezig....
en Intel is zeer geintresseerd in die ASML machines

http://www.asml.com/NASApp/asmldotcom/show.do?ctx=5869&rid=6319
Voor de chipfabrikanten is het te hopen dat de prijs van EUV-scanners nog wat daalt: de prijs voor het lithografiegedeelte bedraagt op dit moment ongeveer dertig miljoen dollar, terwijl voor elke zogeheten cel - waarvan de producent er waarschijnlijk meer dan een nodig heeft - een slordige vijftig miljoen mag worden neergeteld.
Als je nagaat wat de gains zijn als de huidige processoren hiermee gemaakt zouden worden, is dat natuurlijk een schijntje.
Moesten ze eigenlijk ook een zonnebankje van maken. Klaar in 10 seconden en mooier dan J.Lo.
Uhm, extreme ultraviolet wordt ook wel zachte roentgenstraling genoemd. Je weet wel die straling waarmee foto's van je botten en dergelijke worden gemaakt. Lenzen voor dit type straling zijn tamelijk lastig te maken, wat deze technologie vrij prijzig maakt.
In een zonnebank lijkt het me tamelijk ongezond.
Met het licht wat ze gebruiken voor de EUV machines kun je echt geen foto's maken van botten e.d., dat licht wordt zelfs tegengehouden door lucht dus ik denk dat je niet veel zult zien op die foto's.

Op dit item kan niet meer gereageerd worden.



Apple iOS 10 Google Pixel Apple iPhone 7 Sony PlayStation VR AMD Radeon RX 480 4GB Battlefield 1 Google Android Nougat Watch Dogs 2

© 1998 - 2016 de Persgroep Online Services B.V. Tweakers vormt samen met o.a. Autotrack en Carsom.nl de Persgroep Online Services B.V. Hosting door True