Het Nederlandse bedrijf ASML heeft vandaag aangekondigd dat het een overeenkomst bereikt heeft met Intel over het gebruik van verschillende lithografiepatenten. Intel kan hierdoor gebruikmaken van de lithografietechnologie van ASML om geavanceerde etsmaskers te ontwerpen en te produceren. Het gaat hierbij om technologieën als de 'Scattering Bar Technology' waarmee prestaties en kwaliteit verbeterd kunnen worden om meer bruikbare chips per wafer te produceren. In januari vorig jaar had Intel al fors geïnvesteerd in Extreme Ultraviolet Lithografie om in augustus het eerste commerciële systeem op basis van deze technologie voor te stellen. Sommigen zijn overigens van mening dat de lithografietechnieken zoals deze de dag van vandaag gebruikt worden niet bruikbaar zullen blijven, door problemen in de overgang van 130nm naar 90nm.
