Het Nederlandse ASML heeft dinsdag in San Francisco een nieuwe 'Numerical Aperture'-machine voor grootschalige chipproductie gepresenteerd. De XT1700i zou in de tweede helft van 2006 aan diverse klanten geleverd worden. Het bedrijf reageert hiermee op Nikons introductie, vorige week, van een vergelijkbaar 'hyper NA immersion system' dat meer dan 130 wafers per uur kan produceren. ASML's Martin van den Brink benadrukte dat ASML's machine het experimentele stadium is ontgroeid: 'Het apparaat is net zo snel en betrouwbaar als onze huidige TwinScan-modellen, maar het kan veel kleinere details produceren, wat belangrijk is voor bijvoorbeeld geheugenfabrikanten'. Eerder leverde ASML al enkele prototypes met de nieuwe techniek aan boord.
De immersion-techniek moet het mogelijk maken om chips op minder dan 40nm te bakken, waar de huidige technieken niet onder de 65nm komen, een verbetering van meer dan dertig procent. De techniek behelst het aanbrengen van een vloeistoflaag tussen lens en wafer, waardoor een etsmasker met grotere nauwkeurigheid kan worden aangebracht. Normaal gesproken bedraagt de 'numerical aperture' maximaal 1,0; de nieuwe machines van Nikon hebben een NA van 1,07 en ASML schroeft de waarde met de XT1700i op naar 1,2. Het Nederlandse bedrijf spreekt dan ook van een 'grote sprong voorwaarts' en 'de belangrijkste verbetering in jaren.' De nieuwe techniek maakt het in theorie mogelijk dat Moore's Law, die stelt dat het aantal transistoren op een chip elke anderhalf jaar verdubbelt, nog een aantal jaren geldig blijft. De nieuwe machine zal voor rond de dertig miljoen euro op de prijslijst worden gezet.
