Onze Nederlandse trots in de microelektronicaindustrie, ASML heeft als eerste lithografiebedrijf in de wereld een immersion lithographie systeem verkocht, de Twinscan XT:1250i. Het gelukkige bedrijf dat het apparaat in het derde kwartaal van volgend jaar in ontvangst mag nemen is de grootste foundry ter wereld: Taiwan Semiconductor Manufacturing Company (TSMC).
In een immersion tool zit er tussen de lens van de belichtingseenheid en de silicium wafer vloeistof. Hierdoor is er een andere brekingsindex tussen lens, vloeistof en silicium dan wanneer er gewoon lucht wordt gebruikt. Dit heeft volgens ASML een positief effect op de depth of focus. Dit betekent dat er bij het scherp stellen van het masker op de wafer meer marge is om fouten te maken wat het productieproces uiteraard ten goede komt en er dus met een constantere kwaliteit kan worden geproduceerd.