Op de aankomende SPIE Microlithography conferentie in California zal de hoofdspreker een voorspelling uitspreken betreffende het einde van de wet van Moore. Deze wet zegt dat het aantal transistors in een processor elke 18 maanden zal verdubbelen, en werd bedacht door Gordon Moore, destijds lid van het management team van Intel. Moore zal maandag zelf in San Francisco spreken op de International Solid-State Circuits conferentie. Hij zal het hierbij hebben over de lange weg die afgelegd is met betrekking tot halfgeleiders, terwijl hij ook zal uitleggen waarom Moore's wet nog zeker tien jaar stand zal houden. Met spanning wachten we ondertussen af wie van de twee gelijk zal gaan krijgen. Verder komen op de Microlithography conferentie ook nog technische ontwikkelingen aan de orde:
SPIE, which takes place from Feb. 23-28 in Santa Clara, will also feature papers and presentations on a number of hot lithography-related topics. Among those include several next-generation lithography (NGL) technologies, such as electron-beam projection (EPL), extreme ultraviolet (EUV), immersion, nano-imprint, among others.
For example, ASML Holding NV of the Netherlands will give an update on its EUV program, while rival Nikon Corp. of Japan is expected to present the first details of its own, home-grown EUV technology.