Bij ElectronicNews lezen we dat het Nederlandse bedrijf ASML en het Zweedse Micronic Laser Systems een samenwerkingsverband zijn aangegaan. Tezamen zullen zij een joint venture starten, die zich richt op het ontwikkelen van een nieuw lithografiesysteem voor het maken van chips. Preciezer gezegd zal het gaan om "optical maskless lithography", letterlijk vertaald optische maskerloze lithografie. In tegenstelling tot oudere methodes is deze techniek minder duur in geval van kleine hoeveelheden en snel veranderende ontwerpen, wat tegenwoordig steeds vaker het geval is. In het vierde kwartaal van dit jaar moet het nieuwe bedrijf operationeel zijn:
The venture is planed to develop an optical maskless lithography system combining ASML's lithography technology with Micronic's mask pattern generator technology based on its Spatial Light Modulator. The companies originally proposed the joint venture in 2001. At that time it was said Veldhoven, Netherlands-based ASML would loan Taby, Sweden-based Micronic about $30 million in a three-year, interest-free loan that could be converted into 1 million shares of Micronic stock, upon ASML's request. No financial details were given in today's formal announcement. But the move follows ASML's Q2 results, which call for an 11 percent workforce reduction and profitable on unit shipments.