Nadat eerder Infineon, United Microelectronics en Numerical Technologies al een licentie namen op ASML's 'scattered bar'-technologie, heeft nu ook Samsung bekend gemaakt in zee te zijn gegaan met het in Veldhoven gevestigde bedrijf. De technologie verbetert de imaging-prestaties van huidige en toekomstige lithografie-apparatuur. Samsung liet weten dat de technologie gelicenseerd is voor de levensduur van het patent. Het is niet bekend hoeveel geld er met de licentie gemoeid is. Volgens ASML wordt scattering bar-technologie steeds meer geaccepteerd door mainstream chipbakkers:
The scattering bar is an interference pattern introduced on the photomask to compensate for interference effects caused by the desired structures written into
the photomask. The specific benefits from using the technology are improved depth of focus, increased process latitude, better critical dimension uniformity and higher manufacturing yields, ASML said.