Intel ziet geen heil meer in EUV-technologie voor 32nm

Volgens EETimes zal Intel geen EUV-technologie voor de massaproductie van chips met een detail van 32nm gaan gebruiken. De chipgigant wil in 2009 starten met de massaproductie van chips die geproduceerd worden met behulp van een 32nm-proces. Het had gehoopt dat de EUV-technologie tegen die tijd volwassen genoeg was om deze voor de massaproductie te gebruiken. Op dit moment is er echter nog geen scanner commercieel beschikbaar die gebruikmaakt van EUV-technologie. Daar het ontwikkelen van een nieuw productieproces enkele jaren tijd in beslag neemt, kan Intel er niet meer op wachten om in 2009 klaar te zijn. De microelectronicafabrikant heeft er dan ook voor gekozen om de huidige 193nm-scanners aan te passen zodat ze gebruikt kunnen worden op de 32nm-node.

Ondertussen werken ASML, Canon en Nikon hard aan de ontwikkeling van EUV-lithografie. ASML loopt hierin voorop en zou dit jaar nog met twee EUV-lithografiemachines op de markt komen. Met de kanttekening dat het dan wel om heel vroege alphaversies gaat om de technologie te demonstreren. Nikon zal waarschijnlijk in 2007 ook een dergelijke eerste versie tonen. Hoever Canon ondertussen is, is echter niet bekend. Een van de problemen waar alledrie de makers van lithografiemachines mee kampen is de levensduur van de condenser. Deze bestaat uit een aantal spiegels die ervoor moeten zorgen dat licht van een bepaalde golflengte op het masker wordt gereflecteerd. Reststraling van de EUV-lichtbron kan echter de spiegels langzaam vernietigen. Het resultaat is dat condensers op dit moment maar een levensduur van ongeveer een maand hebben, terwijl er gestreefd wordt naar een levensduur van vier jaar.

Reacties (23)

[TD-er]

Ik blijf het apart vinden dat ze objecten kunnen maken/afbeelden die (een stuk) kleiner zijn dan de gebruikte golflengte van het licht wat ze gebruiken.

[ATS]

Waarom denk je dat ze dat doen? Want volgens mij kan dat namelijk helemaal niet, tenzij mijn optica colleges wel heel erg ver weggezakt zijn...

[TD-er]

Waarom ik dat denk... omdat iemand die in Eindhoven werkt aan software voor het optimaliseren van ontwerpen voor dit soort apparaten dat vertelde in een lezing. (Takumi Technology)
Hij had het over de ze al een orde 5 ongeveer onder de golflengte zaten te werken, maar ik weet niet meer om welk proces het ging (45nm of 32nm)

Het helemaal reproduceren van het verhaal kan ik helaas niet.

Hetgeen wat zij deden aan de ontwerpen was de ontwerpen zo aanpassen dat bij het maken van de maskers voor de verschillende layers rekening gehouden wordt met de afrondingen bij scherpe hoeken, waardoor de geprojecteerde objecten dus kleiner worden en mogelijk zelfs wegvallen.

en soms zelfs gewoon herindelen van het ontwerp.

[phsdv]

Want volgens mij kan dat namelijk helemaal niet
Om de nieuste 65nm Pentium chips te maken gebruikt Intel een 193nm lichtbron. Het kan dus wel degelijk! Waarschijnlijk waren de technieken om dit te doen nog niet bekend toen jij je colleges volgde...

Ze gebruiken verschillende technieken om dit te bereiken, waaronder OPC (optical proximity correction), "scatter bars" en "phase shift masks". Een heleboel van deze technieken worden ook al in de 130nm node gebruikt, dus echt nieuw is het niet.

[djexplo]

Zie ook wikipedia, Photomask

Eigenlijk gebruiken deze technieken om tot een kwart golflengte te komen twee verschillende effecten:

1e effect is near-field. Voorbeeld in de kern van de glasvezel loopt de golf, maar in de mantel van glasvezel is de intensiteit van het licht exponentieel afnemend, dus niet langer meer een golf. (Wiskundig gezien komt dit effect voor uit continuiteit op de overgang tussen mantel en kern, valt veel over op internet te vinden )

2e effect en meest gebruikte is interferentie, dit effect kent iedereen van geluid, waarbij er buiken plekken waar geluidsgolven elkaar versterken en knopen waar de geluidsgolven er kaar uit doven. Het zelfde kan men toepassen met twee of meer lichtstralen, waarbij er dus knopen en buiken onstaan en er een resolutie van 1/4 golflengte kan worden gehaald

[Verwijderd]

Men dacht inderdaad lange tijd dat je geen details kon afbeelden kleiner dan de golflengte van het gebruikte licht.

Door echter een soort van hologram te maken, en gebruik te maken van interferentie tussen de golven kan je het lichtvlekje wat normaliter de breedte van de halve golflengte heeft weer een beetje uitdoven op z'n randen.

De te behalen winst is ongeveer een factor 2.

[Verwijderd]

Er zijn verschillende technieken mogelijk om dit te bereiken:

1) Je maakt een "contactafdruk" ttz je plaatst het masker tegen het te belichten object. Hier speelt het "near field", dus je hebt niet veel last van het golfgedrag van het licht. Voornaamste nadelen:
- maken van het masker is zeer lastig en tijdrovend, aangezien het masker even groot is als het te maken patroon en je kan uiteraard het masker niet aanmaken met dezelfde techniek (kip en ei...)
- masker verslijt snel door manipulatie

2) Je werkt met projectie.
Dan kan je een combinatie van factoren toepassen die het afgebeelde patroon minimaal maken:
- Je vergroot de numerieke apertuur (NA) door onder zo'n groot mogelijke hoek te belichten
- Je verkleint de fysische golflengte door het licht door een medium met hogere brekingsindex te sturen (immersie)
- Je gebruikt een nauwkeurig etsproces dat met geringe contrastverschillen toch betrouwbare scherpe patronen kan maken

Een factor 5 à 6 lijkt mij echt ongeveer wel het onderste uit de kan, maar ja de wegen van Moore zijn moeilijk te
doorgronden...

[gp500]

Uv gaat tot 1 nm dus dat is niet zo.
Maar het begint bij 400 nm daarom lijkt het zo.
http://colossalstorage.net/atomic_switch_roadmap.ppt

uv-straling is wel redelijk desastreus voor die spiegels dus.
Spiegels hebben meestal een aluminium laagje.
Dat laagje zal wel snel vernield worden door die straling.

[siepeltjuh]

Sua om het als een hollander te benaderen:
Ze moeten alleen even een goedje ontwikkelen voor op die spiegel.

Mwoah, moet toch te fixxen zijn.

[Verwijderd]

Euh, een beetje spiegel heeft een zilver laagje (aan de voorkant).

[XanderDrake]

Als Intel niet deze techniek aanschaft, dan neemt AMD het toch ? Zo als het er uit ziet, kan AMD efficientere CPU's maken op 90nm dan Intel. Stel dat deze techniek wat later komt, te laat voor Intel, dan kan AMD mooi op tijd instappen!

[kahm-jai]

Aangezien AMD samen met IBM op de technologiestoel zit, en IBM dit recentelijk heeft laten ontvallen:

nieuws: IBM verlegt grenzen chiplithografie

Betekent dat voor mij zoveel als dat AMD deze techniek wel gaat gebruiken. Of dit betere chips oplevert is natuurlijk een heel ander verhaal.

[Metal Baron]

Zoals Apple pijnlijk heeft kunnen ondervinden weet IBM niet altijd te leveren wat ze beloven. Even afwachten dus maar.

[arjankoole]

Zoals Apple pijnlijk heeft kunnen ondervinden weet IBM niet altijd te leveren wat ze beloven. Even afwachten dus maar.

vandaar dat Apple de IBM productie lijn voor de powerpc momenteel nog even helemaal vol geplanned heeft zitten he?

IBM kan meer chips produceren dan wij met z'n allen kunnen consumeren, ik vermoed dat het eerder een prijstechnisch conflict is geweest tussen Big Blue en Big Apple, waarbij Intel de deal won voor de toekomst.

[Verwijderd]

re arjankoole:

Nog anders: Apple is voor IBM maar een klein klantje geweest en IBM kon daar dus niet veel geld in steken. Nu Apple standaard producten van een leverancier betrekt, hebben ze het synergie voordeel dat die producten wél flink ontwikkeld worden. De reden dat Apple is gaan shoppen is dus niet gebrek aan productie bij IBM maar gebrek aan verkoop bij Apple.

Gebrek is hier wel een beetje een misleidende term, zo slecht doen ze het niet verder.

[Verwijderd]

AMD maakt veelal gebruik van IBM's techniek, en die heeft in een eerder Tweaker artikel al een soortgelijk bericht gedaan, waarbij ze bestaande lithografische technieken tot het uiterste brengen alvorens over te schakelen op nieuwe.

[familyman]

...lenses that reduce the image to one quarter its original size...

-> van het plaatje onder punt 3.

Dat zou dan betekenen dat de mask 64 of 128 nm is? Nog niet heel lang geleden was dat al een prestatie voor het eindproduct.

[windancer]

Dat betekent inderdaad dat het masker 128 nm is. Maar die worden met een heel ander productieprocess gemaakt.

[Verwijderd]

Men kan met electronen litografie details van iets van 10nm maken.

Ze konden een paar jaar geleden met zo'n 10MHz pixeltjes schrijven. Dat zal ondertussen wel 100MHz zijn. Als je een chip van 1cm x 1cm wil maken, heb je dan voor iedere maskerstap zo'n 27 uur nodig. Als je uitgaat van de snellere 100MHz, slechts 2.7 uur. Daar heeft Intel dus helemaal niks aan.

Maar een masker maken waar daarna duizenden chips mee belicht kunnen worden is geen probleem.

[kingmob]

Het masker is eigenlijk altijd geavanceerder dan het eindproduct. daarom wordt er ook een masker gebruikt, zodat je eenmalig (of iig veel minder vaak) de kosten en moeite moet gebruiken voor het veel betere masker, wat je daarna kan gebruiken om goedkoper de chips te produceren.

[windancer]

Wel jammer, ASML heeft net lijntjes geschoten met hun EUV machine : http://www.eetimes.com/ne...onid=?articleID=180205728

Volgens mij zijn ze daarin de eerste van de grote 3 (ASML, Nikon en Canon).

[drZymo]

Uhm dat staat toch ook al in het artikel

Ondertussen werken ASML, Canon en Nikon hard aan de ontwikkeling van EUV-lithografie. ASML loopt hierin voorop en zou dit jaar nog met twee EUV-lithografiemachines op de markt komen. Met de kanttekening dat het dan wel om heel vroege alphaversies gaat om de technologie te demonstreren.

[Aham brahmasmi]

Dat betekent inderdaad dat het masker 128 nm is. Maar die worden met een heel ander productieprocess gemaakt.

Met electron beam lithografie als het goed is.