Cookies op Tweakers

Tweakers maakt gebruik van cookies, onder andere om de website te analyseren, het gebruiksgemak te vergroten en advertenties te tonen. Door gebruik te maken van deze website, of door op 'Ga verder' te klikken, geef je toestemming voor het gebruik van cookies. Wil je meer informatie over cookies en hoe ze worden gebruikt, bekijk dan ons cookiebeleid.

Meer informatie

Door , , 11 reacties
Bron: The Inquirer, submitter: Soar

De Duitse geheugengigant Infineon weet volgens The Inquirer een doorbraak te melden in de verfijning van Etreme Ultra Violet (EUV) lithografie. Het bedrijf zegt namelijk dat zijn onderzoekers voor het eerst succesvol een patroon in een dunne di-electrische film op silicoon hebben gebracht, doormiddel van een experimenteel systeem dat EUV-lithografie gebruikt. Dat deze technologie een grote toekomst heeft mag duidelijk zijn, ondanks het feit dat de huidige optische technologie niet voldoende verfijnt is voor het gebruik op chips, aangezien deze techniek een veel te grote golflengte gebruikt.

Infineon LogoEén van de grootste problemen van chipbakkers is dat ze tegen de limiet van de huidige lithografie-technologieën aanlopen. Dit houdt in dat dit de verdere verkleining van chips tegenhoudt. Infineon zegt de bovengenoemde doorbraak in Sandia National Labs te hebben behaald door zijn systeem op een experimentele 120 nanometer dunne weerstand hebben gericht, waaronder het di-electrische stukje film lag. Men verwacht rond 2007 deze technologie op grote schaal toe te kunnen passen, om zo chips kleiner dan 50 nanometer te kunnen produceren.

Moderatie-faq Wijzig weergave

Reacties (11)

Dat deze technologie een grote toekomst heeft mag duidelijk zijn ...
Beetje ongenuanceerde uitspraak. |:(

EUV is gewoon de volgende logische stap om kleinere proc.architecturen te kunnen maken.

Wat veel belangrijker is, is dat EUV waarschijnlijk helemaal niet zo'n goed toekomstperspectief heeft. EUV betekent enorme ontwikkelingskosten van de waferstepperfabrikanten (ASML, Canon, Nikon) en enorme investeringen (zowat het dubbele v/d prijs v/d huidige wafersteppers) van chipbakkers (Intel, IBM, Philips noem maar op).

Het stomme is dat EUV het bereik van de wafersteppers helemaal niet zo veel groter maakt. De golflengte kan niet veel kleiner gemaakt (uiteindelijk mis) worden omdat overal tegen fysische en technologische barrières opgelopen wordt.

EUV komt in de buurt van zachte Röntgenstraling, waarbij lenzen bijvoorbeeld niet meer bruikbaar zijn om te gebruiken in een waferstepper. In de huidige wafersteppers zit ong. de helft van de kosten in de optische kolom (bij machines van ASML bijvoorbeeld uitbesteed aan een gerenommeerd bedrijf als Zeiss). Bij EUV is een (erg dure) truc bedacht om alsnog de 'lichtbundel' te kunnen focusseren met een spiegelconstructie.

EUV zit dus gewoon aan de grens van het mogelijke, en is daarom vanzelfsprekend erg duur.

Mijns inziens zijn er betere alternatieven die voor een veel betere prijs gerealiseerd kunnen worden, en ook nog eens een veel beter toekomstperspectief hebben. De MAPPER (Multi-Aperture Pixel-by-Pixel Enhancement of Resolution) technologie van het Delftse MAPPER Lithography, is een uitermate veelbelovende technologie. Eenvoudig uitgelegd is deze technologie zo interessant, omdat deze niet met veel moeite het onderste uit de kan van de huidige technologie (fotolithografie met steeds kleinere golflengte) probeert te halen. De MAPPER technologie begint juist op een hoger niveau, namelijk met Elektronlithografie. Hiermee kunnen nóg veel lagere golflengten worden bereikt en dus een hogere resolutie. De 'maskers' (een soort sjablonen of blauwdrukken) voor de circuits die nu op Siliciumschijven gemaakt worden, worden hier ook mee gemaakt. MAPPER combineert elektronlithografie met fotolithografie, omdat elektronlithografie veel te langzaam is voor het massaproductie-tempo van een waferstepper. Ook zeer interessant is dat bij deze technologie de maskers uiteindelijk digitale vorm aan zullen kunnen nemen. MAPPER Maskless lithography maakt de zeer kostbare maskers overbodig m.b.v. computers en glasvezeltechnologie (technologie uit de moderne telecommunicatie).

Het is nog maar de vraag of MAPPER Lithography er in zal slagen om een marktaandeel te veroveren (vrijwel onmogelijk in een markt met 3 enorme concurrenten (ASML, Canon, Nikon)). Desalniettemin lijkt mij dat haar technologie ontegenzeggelijk veel vooruitstrevender is dan EUV-technologie.

Dus duimen voor dit bedrijf, omdat haar wafersteppers minder dan de helft van de prijs van die van de concurrentie zullen gaan kosten. :)
Ik ken de MAPPER technologie niet, maar zoals je het hier beschrijft lijkt het alsof iedere chip die je produceert helemaal "getekend" moet worden met die elektronen straal. Da's natuurlijk veel te langzaam en dus veel te duur...
Als je het goed gelezen had, wist je dat de MAPPER-technologie elektronlithografie combineert met fotolithografie. Elektronlithografie zorgt voor de precisie, en fotolithografie voor de snelheid.
Ik ben daar misschien eeen beetje te beknopt over geweest, en ik ben trouwens ook vergeten de link naar MAPPER Lithography te geven. Daar staat een heldere uitleg over de technologie (met animaties en al), en ook een aantal erg interessante persberichten over het bedrijf(je). Het is wel de moeite waard om er even naar te kijken (informatief maar niet te uitgebreid/ontoegankelijk).
Mensen kijk eens naar de andere mogelijkheden, niet alleen cpu's worden kleiner. Je kunt gaan denken aan zeer geavanceerde medische toepassingen. Chips die onderhuids je volledige gesteldheid bijhouden bijvoorbeeld.
Dat betekend?
Dat we dus kleinere cores krijgen en dus minder warmte? :?
Over 4 jaar heb je 4x zoveel transistors in een cpu dus of de core echt kleiner wordt?
Als de procede meer als 4x zo klein is als nu dan wel maar anders niet.
Het energie verbruik zou ik niet echt zo snel weten of dat ook zo veel afneemt bij een kleiner procede..
Als er een kleiner productie procede wordt "uitgevonden" betekent niet dat de energiebehoefte en uitstoot wordt verminderd, het betekent alleen dat de fabrikant meer transitoren kwijt kan op dezelfde oppervlakte.

Daardoor worden er meer feature's in de core gestopt en kan het cache geheugen worden uitgebreid. Een goed voorbeeld is de Northwood van Intel, door de verkleining naar 0,13 micron kon het L2 cache vergroot worden en zijn dingen als HTT mogelijk.

Maar daardoor zal de energie behoefte dus niet dalen, maar ongeveer gelijk blijven mits er geen technieken worden gebruikt om de warmte afgifte te beperken.

Daarnaast wordt de kloksnelheid vaak verhoogt en dat zogt er ook weer voor dat de warmteafgifte ongeveer gelijk blijft.

Daardoor stoot een Northwood op 0,13 micron ongeveer evenveel warmte af als een Willamette op 0,18 micron.
Ik zeg niet dat ze kleinere cores krijgen, maar als ze op dezelfde hoeveelheid transistors zouden blijven, dan zouden het kleinere cores worden. Daarbij als de afstand tussen de transistors afneemt, doormiddel van 50nanometer sporen, tja ik neem dan aan dat het stroom verbruik, alsmede de warmte ontwikkeling afneemt.

Dit zal waarschijnlijk weer gebalanceerd gaan met meerdere transistors en hogere snelheden, zodat de afmetingen en temperaturen op dezelfde waardes zullen blijven als nu. Denk ik :Y)
Kleinere cores, waardoor ze weer de snelheden kunnen opvoeren omdat ze meer transistor enz. op dezelfde afmetingen kunnen gebruiken, en de warmte hetzelfde blijft, of afneemt :) hopelijk :)
Ze gaan geen chips maken die kleiner zijn dan 50nm, da's wel errug klein. De kleinste strukturen op een chip hebben de afmeting 50nm.
Vergeet ook niet het feit dat er dan meer chips uit een wafer gehaald kunnen worden, waardoor de materiaalkosten afnemen. :)

Op dit item kan niet meer gereageerd worden.



Apple iOS 10 Google Pixel Apple iPhone 7 Sony PlayStation VR AMD Radeon RX 480 4GB Battlefield 1 Google Android Nougat Watch Dogs 2

© 1998 - 2016 de Persgroep Online Services B.V. Tweakers vormt samen met o.a. Autotrack en Carsom.nl de Persgroep Online Services B.V. Hosting door True