Cookies op Tweakers

Tweakers maakt gebruik van cookies, onder andere om de website te analyseren, het gebruiksgemak te vergroten en advertenties te tonen. Door gebruik te maken van deze website, of door op 'Ga verder' te klikken, geef je toestemming voor het gebruik van cookies. Wil je meer informatie over cookies en hoe ze worden gebruikt, bekijk dan ons cookiebeleid.

Meer informatie

Door , , 17 reacties
Bron: Silicon Strategies, submitter: Jurroon

Het net opgestarte bedrijfje Molecular Imprints Inc. (MII) heeft het nog kleiner produceren van siliciumchips weer een stap dichterbij gebracht. Het eerste product dat men op de markt brengt, S-FIL, dat staat voor 'step and flash imprint lithography' maakt het mogelijk om op 0,10 micron-niveau te etsen. Het bedrijfje uit Austin, Texas, beweert zelfs al een prototype mogelijkheid te hebben om op 20 nanometer te werken, ofwel 0,02µ. MII zal zijn kleine nieuweling presenteren op de Nanoimprint and Nanoprint Technology Conference (NTT) die binnenkort in San Fransisco plaatsvindt:

The Imprio 100 is not a conventional photolithography scanner, but rather the tool is an 'electron-beam replicator' that utilizes ultraviolet (UV) and liquid emersion technologies to enable or 'imprint' patterns on a wafer. MII's S-FIL technology takes a bi-layer approach to chip manufacturing, by using a low-viscosity, UV-curable liquid to 'imprint' patterns on a circuit.

Intel wafer (200 pixels breed) MII's tool is also not designed to process mainstream silicon-based ICs. Initially, it will be used for processing compound semiconductors, MEMS, photonics, and optical communications components, said Norman Schumaker, president and CEO of MII.

"What we're announcing next week is the world's first step-and-flash lithography tool," Schumaker said. "Our tool has exceptional resolution. We can process devices down to a few nanometers," he told SBN.

Bij Silicon Strategies vind je meer informatie over de nieuwe techniek.

Moderatie-faq Wijzig weergave

Reacties (17)

MAPPER Technology, ook een bedrijfje dat relatief kort bestaat (in Delft(!)), heeft een technologie die wel heel erg op deze 'lithografietool' van Molecular Imprints Inc. lijkt. MAPPER werkt namelijk ook met gecombineerde elektronlithografie en fotolithografie.

Ik zie niet in waarom MII wel succes zal hebben om de markt te betreden waar de giganten ASML, Nikon en Canon de dienst uitmaken. Zoals hier al opgemerkt heeft ASML bijv. al grote orders van Intel voor EUV-wafersteppers. Er zijn door zowel producenten als afnemers al grote investeringen/toezeggingen gedaan, dus nieuwe technologieėn zoals die van MII en MAPPER komen gewoon te laat. Erg jammer, omdat er een hoop geld mee bespaard had kunnen worden, maar grote bedrijven als Intel zitten hier niet mee, omdat ze genoeg poen hebben, en ze liever sneller 0,09 mu CPU's in hun fabrieken willen kunnen maken dan nog te wachten tot er betere en meer cost-effective technologie klaar is.
OK dan; als intel dus zou wachten totdat er een betere technologie voor handen is (je vergelijkt het zelfs met 0.02 micron :? ) dan zitten we de komende paar jaar zonder snellere procs of snelle procs die absoluut onbetaalbaar zijn voor particulieren. Jouw redenering klopt niet echt. Ze kiezen heus niet voor EUV i.p.v. e-beam "omdat ze genoeg poen hebben". En meer cost effective technology? Intel is een bedrijf en probeert op de markt in te spelen om voort tebestaan, best cost effective lijkt mij Intel is de grootste chipfabrikant van deze planeet, rmember
Hmm, nog meer slechte tijden in de toekomst voor ASML?
En serieuze concurrentie voor de EUV-lithografie.
Als ze nou een half jaartje eerder waren geweest, hadden ze misschien Intel wel als klant gehad (zie: http://www.tweakers.net/nieuws/21529 )
MII is voor ASML geen echte concurrent; ASML maakt steppers, waarbij een gebied in een keer wordt belicht. Dit proces duurt minder dan een minuut voor een complete wafer. MII maakt schrijvers, welke dan nu wel zijn 'opgevoerd', maar het duurt nog altijd een uur om een plak te beschrijven, da's dus nog minstens 60* langzamer dan de ASML steppers. Voor kleine series is het een heel aardige tool en uit het verhaal op siliconstratagies.com, blijkt dit ook de doelmarkt te zijn. Voor grote series, noem een intel of AMD, gaat dit (op dit moment) nog te langzaam en zullen ze dus EUV-litho.
Ik denk dat de Wet van Moore niet zo heel lang meer zal gelden. Naar mate de computers kleiner worden volgens de wet van Moore, zullen de PC's ook sneller worden. Snellere PC's leiden tot snellere ontwikkelingen binnen de chipbakkers-industrie, en zal dus exponentiele versnelling leveren in de ontwikkeling van snellere processoren, wat dan weer versnelling levert in de processoren die daarna gemaakt gaan worden. Met andere woorden: een dubbel-exponentiele versnelling in de nabije toekomst i.p.v. de rechtlijnige ontwikkeling volgens de Wet van Moore. (is trouwens officieel geen wet, maar goed...) ;)

{off topic]
Niet echt een bijdragende first post, Jopiek...
[/off topic]
Het probleem is niet alleen kleinere chips, maar ook alles daarbij gepaard.. dus meer hitte ontwikkeling en straling.
En dus krijg je telkens grote vertragingen bij elke verkleining
Die zal ongeveer gelden tot 2010 a 2015, daarna is het fysiek gewoonweg niet mogelijk om nog kleinere functionerende transistors te maken :'(
:? :? Klok.... en hoe heete dat andere nou? [/flame]
Helaas gaat de Wet van Moore niet over de snelheid van de processor of over de grootte van de computer :? maar over het aantal transistors dat toegepast wordt in een processor. Dat heeft dus zeker geen een op een relatie met de snelheid.
Bovendien zou met de logica die je toepast op dit moment de ontwikkeling van de snelheid van processors ook al 'dubbel exponentieel' toenemen?
[beetje off-topic]
\[oops, ook beetje dubbelpost]
Eens te meer : Moore heeft (had) het over het aantal transistoren op n chippie en zegt (zei) njet niks niemandal over de snelheid en/of grootte van deze transistoren.
Men zou kunnen stellen dat men binnenkort steeds meer moeilijkheden zal krijgen bij het verkleinen van de circuits, en bijgevolg de cpubakkers misschien wel sneller meer transistoren op n chip gaan zetten om zo meer functionaliteit te verkrijgen. Op deze manier zouden ze de prestaties verder kunnen laten schalen zonder elk jaar een kleiner produktieproces te introduceren.
(dit alles in afwachting van een de doorbraak van een echt revolutionaire techniek natuurlijk)
Count Grishnackh:
Het ging erom dat die EUV-wafersteppers nu 2x zoveel gaan kosten als de steppers die ze nu nog gebruiken. Die iets nieuwere technologie van MAPPER en MII is veel vooruitstrevender en zal ook langer meegaan. EUV zit aan de grens van wat mogelijk is met fotonen, want na verder dan EUV kun je namelijk niet want met rƶntgenstraling is lithografie niet mogelijk. Bij EUV moeten allerlei trucs toegepast worden om het toch nog te laten werken, waardoor de steppers dus zo'n 2x zo duur worden (van 20 mln $ naar 35-40 mln $).
Bovendien zal de MAPPER technologie waarschijnlijk een kostenbesparing van zo'n 50% opleveren, aangezien bij deze technologie de peperdure maskers die gebruikt worden voor fotolithografie overbodig worden. In plaats hiervan wordt een soort digitaal aangestuurde 'microlichtbronnenmatrix' (techniek afkomstig uit de moderne communicatietechniek; glasvezel enzo) gebruikt die dan weer een elektronenbron bestraalt voor de emissie van elektronen.

Voor een duidelijker verhaal, kijk op de website van MAPPER Lithography
Kijk ook even naar de gerelateerde nieuwspostings:
www.tweakers.net/nieuws/23904

Dat Intel heel lang zou moeten wachten op steppers met deze nieuwe technologie is natuurlijk ook niet helemaal waar. Als ze er iets in hadden gezien, dan hadden ze gewoon inveesteerder van MAPPER kunnen worden. Het is nu nog maar een klein bedrijfje met tot nu toe 1 grote sponsor (elektronicafabrikant) uit Amerika. Als er meer geld (en mensen) beschikbaar komt, kun je er donder op zeggen dat er eerder een werkend prototype klaar is dat niet te langzaam is om te gebruiken in de fabrieken van Intel ea.

Ik vind wel dat Intel door EUV te gebruiken op safe speelt, en mogelijk onnodig veel geld over de balk gooit. Het is natuurlijk zo dat Intel de snelste cpu's moet kunnen blijven maken om geen marktaandeel te verliezen, maar het zou toch blijk geven van meer durf als Intel openlijk zou laten zien dat zij dus bereid zijn om (tijdelijk) een stukje marktaandeel te verliezen om terug te komen met betere cpu's en betere equipment in de fab's. Intel zal nu waarschijnlijk 100en miljoenen dollars gaan besteden om in de loop van de tijd de huidige steppers te vervangen door EUV-steppers. Als er daadwerkelijk 'betere' steppers van MAPPER (of MII) voor de helft van de kosten aangeschaft zouden kunnen worden lijkt mij dit zeker het overwegen waard.

Ik weet haast wel zeker dat de tijd die nodig is om een EUV-stepper te ontwikkelen niet veel korter zal zijn dan een stepper van het MAPPER principe. ASML heeft duizenden werknemers, en MAPPER nu 20 oid. Het heeft dus met name te maken met (human) resources. Elektronlithografie is geen quantumcomputing die pas over 25 jaar oid echt in de praktijk toegepast kan worden. MAPPER combineert elektronlithografie met allerlei bestaande technieken, en heeft al met al naar mijn inzicht een zeer goede potentie om met succes gebruikt te worden in wafersteppers. * 786562 benji1146
Ze halen steeds gecompliceerdere trucjes uit om het leven van de siliciumchips nog wat te verlengen.
Toch kan het nooit lang meer duren voor we puur met moleculen gaan werken.

[edit]
like this
Die nanotubes zijn tig keer sterker dan diamand. Klinkt toch een stukje beter dan silicium :)
Tja, en toch is de relatief geringe stevigheid van silicium (die absoluut niet laag is; silicium vindt naast elektrische ook veel mechanisch-elektrische toepassingen) helemaal niet zo van belang in het IC ontwerp :)
als je het mij vraagt is dat nog ver van men bed.....
Wat heb je aan een Athlon op 0,02µ :? Niets dus, de architectuur zal dan toch ook iets moeten veranderen (i.v.m. storing van de signalen). Het zal alleen minder stroom verbruiken en dus koeler blijven (dus meer MHz).

En dat lang duren valt best mee, volgens mij is er toch ongeveer 1× per jaar wel een schaalverkleining. Het kan best zijn dat de 0,02µ techniek al over een jaar of 2 geschikt is voor algemene toepassingen.

Maar wat ik me afvraag: had Intel niet al prototypes op 0,9 micron :? :?
ja,.....Intel zit al op 0,9 micron.

Je leest het waarschijnlijk verkeerd.

Ze hebben het hier over 4,5 tot 9 keer kleiner dan waar Intel mee werkt.
0,9 micron? 15 jaar geleden misschien... de T-breds zijn toch ook niet op 1,3 micron gebakken :)

Op dit item kan niet meer gereageerd worden.



Apple iOS 10 Google Pixel Apple iPhone 7 Sony PlayStation VR AMD Radeon RX 480 4GB Battlefield 1 Google Android Nougat Watch Dogs 2

© 1998 - 2016 de Persgroep Online Services B.V. Tweakers vormt samen met o.a. Autotrack en Carsom.nl de Persgroep Online Services B.V. Hosting door True