Een bijzondere samenwerking tussen chipfabrikanten en Amerikaanse research laboratoria heeft een vinding opgeleverd waarmee circuits geproduceerd met een grootte van 10 nanometer. Dit is achtien keer zo klein als de circuits die worden geproduceerd met de huidige 0,18 micron technologiën. Gisteren presenteerde het EUV LCC consortium, waar ondermeer Intel, IBM en Motorola in deelnemen, een prototype van een lasergestuurde chipmachine waarmee dergelijke circuits geproduceerd kunnen worden. De machine maakt gebruik van spiegels en extreem ultraviolette (EUV) laserstralen. De huidige technologie gebruikt lenzen om de chips te branden. EUV lithografie komt naar verwachting in 2005 op de markt. De technologie maakt kloksnelheden mogelijk van 30GHz op chips met miljarden transistors:
With current lithographic techniques, circuit patterns are reduced through a series of lenses and then get printed onto a silicon wafer. In EUV lithography, the pattern bounces off a series of highly polished mirrors during the reduction process.[...] The conversion will also cost a lot of money. EUV LLC has spent approximately $250 million to get to this point. To develop machines for the commercial market will take another $250 million to $750 in research, Chou said.
[...] Converting to new forms of lithography, though, is inevitable. Current optical lithography methods are close to their physical limits. The images simply can't be made much sharper, which limits how small manufacturers can shrink chip features.
 |
Meer informatie vind je in dit artikel van News.com.
)
:strip_icc():strip_exif()/u/14521/usericon.jpg?f=community){kind=small}
