IBM heeft bekendgemaakt dat het de grenzen van chiplithografie weer wat verder heeft opgerekt. Met de bestaande methode, waarbij details in een chipwafer worden geëtst met behulp van zichtbaar licht, waren volgens het bedrijf details van minder dan 32 nanometer nog niet haalbaar. Door gebruik te maken van ultraviolet licht behoren lijntjes met een dikte van 29,9nm, net iets minder dan een derde van de huidige generatie micro-elektronica, inmiddels tot de mogelijkheden. Het nieuws is volgens IBM's Robert Allen vooral belangrijk omdat het nieuwe fabricageproces voortborduurt op bestaande technieken: 'We hebben ons ten doel gesteld om optische lithografie zo lang mogelijk te blijven gebruiken, zodat het gebruik van dure en riskante alternatieven als röntgenstraling zo lang mogelijk uitgesteld kan worden. Met uv-licht kunnen we nog zeker zeven jaar vooruit.' Voordat de ultraviolette etstechniek op grote schaal toepasbaar is, zal minstens drie en mogelijk vijf jaar verstreken zijn. De introductie van in massa geproduceerde 32nm-chips staat overigens al voor 2009 op het programma.
