Samsung heeft zijn faciliteiten voor het maken van chips op 5nm met euv gereed. De chipfabrikant kan nu beginnen met het maken van de eerste chips. Productie op grote schaal moet ergens volgend jaar beginnen. Er komt ook een 6nm-node met euv.
Volgens Samsung zijn chips die op het 5nm-procedé met euv gemaakt worden 20 procent zuiniger en bieden ze 10 procent betere prestaties dan vergelijkbare chips die op het huidige 7nm-procedé met euv gemaakt worden. Ook resulteert het 5nm-procedé in kleinere chips.
Nu Samsung zijn faciliteiten gereed heeft voor productie op 5nm met euv, kunnen klanten hun chipontwerpen aanleveren en kan de testproductie beginnen. Alle productie met euv vindt plaats in Samsungs S3-faciliteit in de Zuid-Koreaanse stad Hwaseong. Die faciliteit wordt momenteel uitgebreid en in de tweede helft van 2019 moet de nieuwe euv-lijn gereed zijn. Vanaf volgend jaar kan de productie op grote schaal beginnen.
Samsung zegt ook samen met klanten te werken aan een 6nm-node, waarbij ook gebruikgemaakt wordt van euv. De eerste tape-out van een 6nm-chip is al gemaakt. Wanneer de massaproductie van 6nm-chips op gang komt is nog niet duidelijk.
Eind vorig jaar begon Samsung met de productie op zijn 7nm-procedé met euv. Dat was het eerste proces waarbij Samsung euv-machines inzette. Begin dit jaar is de massaproductie op dit proces van start gegaan. Hierbij worden alleen voor de meest kritische lagen euv gebruikt. Bij het 5nm-procedé zal Samsung voor meer lagen euv inzetten.
Ook TSMC heeft zijn faciliteiten voor productie op 5nm met euv gereed. De concurrent van Samsung gebruikt voor veertien lagen euv bij zijn 5nm-procedé. Hoeveel dat er bij Samsung zijn, is niet bekend. Processors gemaakt op 5nm met euv zullen volgend jaar in consumentenproducten verschijnen, als de massaproductie op gang is. Dit jaar worden bijvoorbeeld nieuwe high-end socs voor smartphones waarschijnlijk gemaakt op de 7nm-procedés met euv en verbeterde iteraties daarvan.
Door de overstap van immersielithografie naar euv-lithografie zijn kleinere structuren mogelijk. Bij euv-productie wordt gebruikgemaakt van extreem ultraviolet licht met een golflengte van 13,5nm. Immersielithografie werkt met licht met een golflengte van 193nm. Het Nederlandse ASML maakt de machines die nodig zijn voor chipproductie met euv. In de tweede helft van dit jaar begint de levering van de NXE:3400C, een machine die 170 wafers per uur kan afhandelen.
Samsungs euv-productiefaciliteit. Links de huidige situatie.