Cookies op Tweakers

Tweakers maakt gebruik van cookies, onder andere om de website te analyseren, het gebruiksgemak te vergroten en advertenties te tonen. Door gebruik te maken van deze website, of door op 'Ga verder' te klikken, geef je toestemming voor het gebruik van cookies. Wil je meer informatie over cookies en hoe ze worden gebruikt, bekijk dan ons cookiebeleid.

Meer informatie

Door , , 63 reacties

Het in Veldhoven gevestigde lithografiebedrijf ASML zou de exclusieve leverancier kunnen worden voor Intels volgende productienode op 22 en 20 nanometer. Voor de huidige 32nm-structuren viste ASML echter achter het net.

Concurrent Nikon levert de benodigde apparatuur om wafers met een procestechnologie van 32nm te produceren. Intel hanteerde in het verleden een strategie waarbij twee leveranciers van steppers en scanners werden benaderd om de voor chipproductie benodigde apparatuur te leveren. De chipfabrikant kon die twee leveranciers dan tegen elkaar uitspelen en zo voor zichzelf de laagste prijs garanderen. Bovendien kan Intel dan bij leveringsproblemen op een tweede leverancier terugvallen.

De benodigde lithografische apparatuur voor de 45nm-procestechnologie werd nog door Nikon en ASML geleverd. Sinds de stap naar een 32nm-procedé lijkt Intel echter van deze strategie te zijn afgestapt. Nikon levert als enige de benodigde lithografische apparatuur voor de 32nm-node. De volgende procesverkleining, naar 22 en 20nm, zou echter voor 50 tot 100 procent met apparatuur van ASML gerealiseerd gaan worden, zo verwacht het Nederlandse bedrijf. Mogelijk speelt de pionierende rol die ASML in immersielithografie speelt mee bij de keus voor ASML als leverancier; die techniek wordt vanaf 32nm gebruikt.

ASML TwinScan XT:1700Fi lithografiemachine met HydroLith immersietechnologie

Gerelateerde content

Alle gerelateerde content (25)
Moderatie-faq Wijzig weergave

Reacties (63)

Even een kanttekening, Immersielithografie wordt als vanaf de 45 nanometer nodes gebruikt, en niet pas vanaf 32 nanometer.
http://www.asml.com/asml/...863e13&ctx=6735&rid=11746

Tevens heeft zowel ASML als Nikon nog geen technieken om deze producten op de markt te brengen, het is allemaal nog speculeren dit. Zowel Nikon en ASML zijn hier nog heel veel research naar aan het doen, en zij zijn beiden nog vooral bezig om kinderziektes uit de 32nm nodes te halen.

Natuurlijk wordt er veel onderzoek gedaan naar dit soort toekomstige nodes. Maar om nu al te gaan claimen dat ze de exclusieve leverancier voor 22nm gaan worden, dat lijkt me heel erg voorbarig.
"Tevens heeft zowel ASML als Nikon nog geen technieken om deze producten op de markt te brengen, het is allemaal nog speculeren dit."

En de nieuwe NXT dan? En Double Patterning? En double-double patterning? Volgens mij roep je maar wat.

http://www.asml.com/asml/show.do?ctx=6720&rid=36951

[Reactie gewijzigd door Franske123 op 17 juni 2010 17:27]

De nieuwe NXT is op het moment slechts geschikt voor 32nm nodes, en dat is door gebruik te maken inderdaad van onder andere double patterning.

Het probleem is echter dat ook nog steeds voor deze machine gebruik gemaakt wordt van 193nm UV licht. ASML wilde voor 32nm en lager gebruik maken van EUV (extreme UV) technologie. Helaas is het niet gelukt deze techniek goed genoeg werkende te krijgen voor de 32nm node. Dit is een van de redenen waarom Nikon de 32nm contracten voor Intel heeft gekregen.

Er wordt bij ASML veel onderzoek gedaan naar EUV lithografie, maar men is nog steeds niet in staat dit succesvol toe te passen in volumes die commercieel wenselijk zijn. Dit komt met name doordat er voor EUV geen lenzen meer gebruikt kunnen worden zoals bij UV lithografie, en men gebruik moet maken van Spiegels. Ook voor het gebruik van de masks, kan men geen conventionele masks toepassen maar dient men een spiegelende mask te gebruiken.

Het probleem hierbij is dat deze spiegels tot op atomair niveau vlak moeten zijn omdat anders de gewenste resolutie al niet meer haalbaar is, het kleinste stofdeeltje zorgt dan al voor een probleem (en ja zelfs in een vacuüm kan je daar last van krijgen, aangezien we op aarde geen 100% vacuüm kunnen creëren).

Omdat EUV licht ook nog eens door praktisch alle materialen (dus ook de spiegels) geabsorbeerd wordt. Is het licht wat je na focussering overhoud slechts 30% van de lichtintensiteit die je voor focussering gebruikt. Hiervoor is dus erg veel energie nodig, wat nog eens lastiger wordt als je bedenkt dat voor het creëren van het EUV licht gebruik gemaakt wordt van een plasma van hoge temperatuur.

Als ASML toevallig deze problemen de afgelopen twee weken heeft opgelost, dan is het inderdaad reëel dat ze de techniek kunnen leveren, zo niet dan lijkt het me op zijn minst optimistichs om nu al te claimen dat ze dat gaan leveren.

Hoe ik aan deze informatie kom (en waarom ik dus niet zomaar wat roep), is dat ik twee weken geleden een Paper heb ingeleverd op de TU Delft, waarin ik met anderen de voor en nadelen (en technische problemen) van enkele mogelijk toekomstige lithografie methoden heb vergeleken. Bekeken technieken daarbij zijn onder andere, nano imprint lithografie (een soort stempelen van circuits), electron beam lithografie, en exteme-uv lithografie (EUV)
Fijne paper, maar je kraamt de grootste onzin uit. Spiegels zijn het probleem niet, het is de bron die nog aandacht verdient. 32 nm met bijvoorbeeld dubbel patterning is kippetje voor NXTs. Oh...en bij Intel gaan de Nikon scanners retour afzender en komen de NXTs naar binnen. Als je echt wil weten hoe het zit, bezoek dan ASML eens.

[Reactie gewijzigd door Pe Nis op 17 juni 2010 21:13]

Heb jij toevallig enig idee waarom de rest van de industrie zo blase is over volledig doorzichtige pixel maskers? Intel is de enige die hier groot op inzet, de rest zit alleen een beetje rond te neuken in de marges met gelimiteerde masker optimalisatie met vaste structuren (en source, maar dat is nog meer geneuk in de marge).

Voorzover ik kan zien zijn pixel maskers de meest realistische optie bij 22nm op het moment ... als de rest van de industrie moet gaan concurren met multipatterning (>2) heeft Intel een gigantisch voordeel.
De NXT is gemaakt om standaard 32nm te halen. Met double patterning ga je nog lager.
Double patterning kan je nog verdubbelen. Dan krijg je dubbel double patterning en daarmee valt momenteel 5nm mee te bereiken. Deze techniek is alleen erg duur en wordt daarom alleen in speciale gevallen door bedrijven toegepast. Om dit te vervangen zijn ze inderdaad met EUV bezig omdat dit een veel kostenefficientere oplossing is.

Dat probleem met die spiegels waar je het over hebt is al tijden opgelost. Dat was idd 1 van de kinderziektes. Een van de grootste oorzaken is het schieten van een tindruppel met de laser, zodat het EUV-licht ontstaat. Dit gaf idd een hoop tin-brokstukjes en rommel maar dit is nu afgevangen door een sterk magnetisch veld alles weg te laten trekken.
Het mask-probleem was ook een kinderziekte. Dat heeft een ander bedrijf (ik dacht Zeiss) opgelost in samenwerking met ASML.

De eerste EUV machine is inmiddels een feit maar nog niet geschikt voor verkoop. Hij wordt zelfs bij exclusieve klanten getest in hun fab. Het lijkt alsof jouw onderzoek gebaseerd is op gedateerde gegevens.

[Reactie gewijzigd door Franske123 op 18 juni 2010 14:12]

Ze moeten wel erg zeker zijn dat het contract binnen komt, anders zijn ze gewoon dom om dit nu al te verkondigen. Heb al veel gevallen gezien waarbij de concurrentie dan opeens uit onverwachte hoek kwam en met de deal wegliep.
Waarschijnlijk is dit ook een berichtje voor de aandelhouders.
Ik denk dat men aardig op de hoogte is van de concurrentie, en er wel over na heeft gedacht of het verstandig is om naar buiten te brengen.
22 en 20 nanometer?
Dat is inderdaad zeer klein.. Hoe lang zal dit verkleinen mogelijk zijn? Gaan we ooit over naar picometers, of wisselen we toch eerder van stof wafer, zoals grafeen?

In ieder geval mooi dat ASML zou mogen doen! Ze verdienen het.
In ieder geval mooi dat ASML zou mogen doen! Ze verdienen het.
En of die lui verdienen.

ASML profiteert van basisbehoefte computer
ASML hoopt recordomzet 2010

Wat ik wil zeggen is: hebben ze het echt verdient, of vind je het gewoon mooi dat een Nederlands bedrijf zo groot is in de high-tech industrie? Voor mij geldt dat laatste in elk geval.

[Reactie gewijzigd door 84hannes op 17 juni 2010 16:22]

Ik vind dat ze het ook verdient hebben .. ze hebben eigenlijk een best fundamentele rol gehad voor de ontwikkeling en massa productie van cpu's en gpu's de afgelopen paar jaar.

Mbv hun machines (niet als enige idd) en technieken worden 'onze' cpu's en gpu momenteel vervaardigd.

Even van nu.nl
De situatie voor ASML staat in groot contrast met dezelfde periode een jaar geleden, toen het bedrijf een dieptepunt bereikte door de crisis. De chipmachinemaker haalde toen maar acht orders binnen, waarvan vier nieuwe. Het verlies lag toen op 117 miljoen euro.
Zo zie je dat ze ook harde klappen krijgen als het even niet lekker loopt, want zo groot zijn ze eigenlijk niet: ze zijn voornamelijk goed en hebben (erg) grote klanten.

[Reactie gewijzigd door Atmosphere op 17 juni 2010 18:56]

Muah... zie volgende info over ASML Holding NV:
Nettowinst -150,93 miljoen
Omzet 1,60 miljard
Uitstaande aandelen 432,62 miljoen
Marktkapitalisatie 10,38 miljard

Dividend rendement 0,83%
Dividend 0,20
Pay Out Ratio -57,32%

Eigen vermogen per aandeel 4,10
Eigen vermogen 1,77 miljard
Balanstotaal 3,73 miljard

Werknemers 6500
bron: binck.nl

Als je die getallen leest, dan valt die 117miljoen nog wel mee op een omzet van 1,6miljard en daarbij 6500 mensen aan het werk houdend. Najah.. de getallen spreken voor zich. Verlies is verlies, maar dood gaan ze er niet aan.
Handig om hier even bij te vermelden, dat het hierboven de jaarcijfers van 2009 betreft.
De meest dramatische cijfers sinds tijden.

Het ontgaat mij echter even, waarom juist 2009 er uit gepikt is in deze discussie.

Zet dan ook 2008 en 2007 er even naast (bron: asml.com):
2008) omzet: 3.0 miljard Euro; winst: 377 MEuro
2007) omzet: 3.8 miljard Euro; winst: 715 MEuro

En dan ziet het er ineens heel anders uit. Toch?
2010 dreigt overigens een herhaling van 2007 te worden :P

BTW: geen 117 MEuro verlies dus in 2009, zoals iets verder hierboven vermeld, maar 151.
prachtig deze ontwikkeling, maar wel een kleine aantekening... We zijn er al bijna! Uit laboratoriumonderzoek blijkt dat geen kleinere afmetingen dan 10Nm mogelijk zijn....
hmmm klinkt me vreemd in de oren, als de techniek verder gaat zal kleiner ook mogelijk zijn. heb je daar een linkje voor? Of bedoel je dat met de huidige techniek dit niet mogelijk zal zijn?
daarbij wordt nu natuurlijk iedere nm kleiner procentueel gezien interessanter dan vroeger
Wat kleiner dan 10nm zal nog wel lukken, maar daarna ga je echt tegen de grensen aanlopen van de grootte van een atoom.
Silicium-atomen zijn in de ordegrootte van 0,1-0,25nm. Dus dat zal niet zozeer het probleem zijn. Ik denk dat quantummechanische effecten een grotere impact hebben in de buurt van de grootte die je noemt. :)
Nee hoor,

volgens mij is er al een planning om naar 2 tot 5nm te gaan
Roadmap van Intel is 4nm node in 2022.
Maar ja, helaas gaat intel daar niet over... dat hebben hun niet in de hand.
Zeg dat maar niet tegen intel :+

Ze vinden vast wel weer een manier om nog een stukje verder te kunnen gaan, ze moeten wel anders kunnen ze een groot deel van hun bedrijf sluiten :P
10 jaar geleden zeiden ze ook al dat het fysiek niet kleiner meer kon... en nog steeds blijft het maar kleiner en kleiner worden

enuhhhh:
nieuws: Onderzoekers ontdekken nanosupergeleider
Echt? wie zijn jullie dan? en waarom niet kleiner dan 10nm?
Met de contracten zit het wel goed denk ik. Hoewel veel dingen nog steeds in de testfase zitten. Toen er vorig jaar een dip kwam in de chipindustrie heeft ASML veel geld in Research & Development gestopt. Hiermee hebben ze toch een aardige voorsprong op de andere fabrikanten gecreëerd. Met de 32nm-node wordt ook nog volop geproduceerd en ASML levert toch weer een deel van de machines aan Intel. Dus de strijd duurt voort...
Afgelopen week heb ik een rondleiding door een Intel fab gekregen en dan realiseer je je hoe belangrijk de positionering is bij een nieuw procede. Intel hanteert namelijk het principe dat fabs van een bepaalde generatie gelijk uitgerust worden. Als je dan in een fab rij na rij Nikon machines ziet staan (tientallen in totaal per fab dus) en dan realiseert dat er flink wat vergelijkbare fabs zijn dan is een enkele vendorkeuze heel belangrijk voor een bedrijf als ASML.

Gelukkig stonden er nog wel een paar hele dure electronenmicroscopen van FEI ;) Uitgedrukt in geld is dat echter helaas maar te vergelijken met een enkele waferstepper van ASML.

[Reactie gewijzigd door Rukapul op 17 juni 2010 17:19]

20nm ;( Heb een tijdje geleden gesproken met iemand die in de R&D zit van ASML. Voor 2015 moet de 13nm gehaald worden, dat is de roadmap althans.
Interessant,

wordt steeds kleiner, het blijft me verbazen.

ze gaan al richting de fysieke grens.
ik zou graag zien dat ze processors gaan maken van grafeen, schijnt echt super te geleiden:D.

verder mooi voor ASML dat ze de apparatuur waarschijnlijk mogen leveren, betekent vast goed geld.

FP

edit:kansloze spellingsfout.

[Reactie gewijzigd door rickyyy9 op 17 juni 2010 16:11]

Dat iets geleidt is leuk, maar je hebt toch wat andere eigenschappen nodig om er processors van te bakken. Met koper kun je ook geen transistor bouwen..
Heeft ASML een samenwerking met Mapper Lithography te Delft?
Ik dacht dat Mapper als eerste op 22nm zat.

http://www.mapperlithography.com/press-en-2009.html#20090921
Diamant scheint enorm goed te zijn. een vriend van me werkt in de halfgeleiderindustrie. Die bouwt de elektronica van zulke machines maar dan bij een concurrent in Ede.
Diamant geleidt toch helemaal niet? Tetra-eders enzo zonder vrije elektronen, dat staat tenminste in mijn scheikundeboek...
Net als silicium. Je kutn er pas wat nuttig mee doen als je gebieden 'doped' met andere atomen waardoor ze gaten ofwel electronen over hebben.
Als je het periodiek systeem of de tabel van mendeljev erbij neemt dan zie je dat in groep IV de elementen C, Si en Ge staan, deze hebben allemaal dus evenveel elektronen in de buitenste schil. Hierdoor vertonen zij voor bepaalde eigenschappen hetzelfde gedrag. Silicium heeft dus ruwweg dezelfde eigenschappen als koolstof. En diamant is gewoon koolstof met een specifiek atoomrooster.

Alle elementen uit groep IV zouden dus geschikt kunnen zijn om silicium te vervangen. Diamant heeft door zijn rooster structuur nog andere interessante voordelen.
Normale diamand niet, maar de blauwe diamanten (nog zeldzamer) wel. Pas nog iets over op discovery geweest.
Diamant is een van de beste warmtegeleiders.
Concurent van Intel bedoel je? :+
Er zijn na mijn weten maar 2 bedrijven die die wavers bouwen. Nikon en ASML.
Dus Nikon koopt onderdelen voor wavers op bij een bedrijf uit Ede?

[Reactie gewijzigd door xTmPizzaMan op 17 juni 2010 16:51]

Ik denk dat je wafers bedoelt? Maar ook die worden niet door ASML gemaakt.

Er zijn op het moment 3 bedrijven actief in de markt voor photolithografie apparatuur, Canon, Nikon en ASML, hierbij de opmerking dat Canon zich aan het terugtrekken is uit de markt.

Wat ASML doet is dat zij apparaten maken (of eigenlijk assembleren, ASML maakt zelf niet tot nauwelijks onderdelen, zij zijn alleen verantwoordelijk voor het samenstellen van de machines) waarmee doormiddel van een optisch/chemisch proces elektrische circuits op een silicium wafer "geprint" kunnen worden. De wafer is dan dus al gemaakt.

typo, dankjewel hollandismad

[Reactie gewijzigd door trippelb op 17 juni 2010 18:09]

ASML maakt de de onderdelen an sich niet zelf, maar begeleid de bedrijven die ze maken wel volledig, doet de specificatie en integreert de gemaakte onderdelen met elkaar en laat alles als geheel werken onder absurde maar toffe condities.
Die manier van vertellen is imho wel erg kort door de bocht. ASML ontwerpt toch een heel groot deel van de onderdelen zelf, het produceren ervan wordt enkel uitbesteed.

Precies net zo als dat je als hobbyist een printplaat ontwerpt, en een bedrijf etst het voor je. Jij/ASML doet het denkwerk, het externe bedrijf doet alleen het fysieke werk.

Tuurlijk zijn er ook onderdelen die zo van een leverancier komen die door de leverancier uitgedacht zijn. Maar het idee van trek een moederbord/videokaart/voeding uit de kast van de leverancier en prop het samen zonder erbij na te denken is n.v.t. bij een dergelijke machine.

[Reactie gewijzigd door Engineer op 18 juni 2010 21:33]

"Not even a waffer-thin mint?"

En we weten allemaal hoe dat afliep...
het is ook foto en niet photo......
Nikon, Canon en ASML zijn de 3 (grote jongens) die bij jou bekend zijn bedoel je

Mapper Lithography uit Delft is bijvoorbeeld een ander
http://www.mapperlithography.com/technology-mapper.html

die ontwikkelen momenteel apparatuur waarmee de wavers ge-etst worden met een electronenbeam.
Mapper maakt niet de etsapparatuur maar tools voor zg. 'maskless litho'. Het te etsen patroon wordt mbv de electronbeam direct in de fotolak geschreven.
Dit in tegenstelling tot de ASML tools waarbij UV licht door een masker wordt geschenen en waarbij dus het patroon gedefineerd wordt door het selectief maskeren van bepaalde gedeeltes van de chip.

[Reactie gewijzigd door g32rt op 18 juni 2010 17:43]

In de ASML machines vinden op de wafer geen chemische processen plaats. En er worden in een ASML machines ook geen elektrische (of electronische) curcuits gemaakt
Er worden uitsluitend wafers belicht, die buiten de ASML machine van een foto gevoelige laag is voorzien.
Zie een ASML machine als een luxe diaprojector, waarbij het origineel op de wafer geprojecteerd wordt.
Bij welk bedrijf precies als ik vragen mag?
tegen dat ik 50 ben,zit er een gsm met nanotechnologie in mijn zak die even groot is als een bankkaart met een 3D touchscreen die edge to edge is :D
(of zitten we allemaal al in de matrix :( )

[Reactie gewijzigd door Dr.TS op 17 juni 2010 16:10]

Tja, dat duurt nog 33 Jaar. haha.

tegen die tijd zullen we idd wel een stuk verder zijn.

20nm zou trouwens ook mooi zijn voor mobiele processors, sneller, zuiniger en kleiner.

ideaal voor portable's zoiezo. eigenlijk voor alle apparaten.

[Reactie gewijzigd door rickyyy9 op 17 juni 2010 16:10]

Omdat de Matrix zich in 2043 afspeelt of omdat Dr. TS 17 jaar oud is?
omdat ie 17 jaar oud is haha
20, maar soms wou ik dat weer 17 was :'(
( examens waren toen veel leuker dan nu )

[Reactie gewijzigd door Dr.TS op 17 juni 2010 20:07]

Offtopic:
Imo waren de examens best leuk hoor (A)
waren relaxed en heb de dagen voor m'n examen nog heerlijk gewerkt
(ben uiteraard wel geslaagd, HAVO)

Ontopic:
Waarom zouden ze van deze strategie afstappen? 2 bedrijven uitspelen tegen elkaar is zeer slim van Intel (minder voor de economie...).
En het wordt nu pas echt klein, ik weet nog wel dat ik een CPU had op 90nm :+
correctie, zelfs 130nm!

[Reactie gewijzigd door Smoerel op 17 juni 2010 21:30]

Ze hebben de twee bedrijven al tegen elkaar uitgespeeld. Ze zijn nu voor ASML gegaan omdat ze een superstrakke goed aanbod hebben gedaan waar Nikon niet onder wilde of kon gaan. Hier is al een lange concurrentiestrijd aan vooraf gegaan hoor ;-)
Het gaat goed met de maasvlakte van Brabant!

Op dit item kan niet meer gereageerd worden.



Apple iOS 10 Google Pixel Apple iPhone 7 Sony PlayStation VR AMD Radeon RX 480 4GB Battlefield 1 Google Android Nougat Watch Dogs 2

© 1998 - 2016 de Persgroep Online Services B.V. Tweakers vormt samen met o.a. Autotrack en Carsom.nl de Persgroep Online Services B.V. Hosting door True