De Verenigde Staten gaan een onderzoekscentrum bouwen voor extreemultravioletlithografie of euv. Dat komt in het Albany NanoTech Complex in de staat New York te staan. De overheid stimuleert het r&d-centrum met 825 miljoen dollar.
Het Amerikaanse ministerie van Handel kondigt het nieuwe onderzoekscentrum aan, samen met National Semiconductor Technology Center of Natcast. Het centrum wordt in Albany opgebouwd, een onderdeel van de staat New York. Het valt daar onder het Albany NanoTech Complex dat daar al wordt uitgebaat door NY Creates, een ander onderzoekscentrum.
Het nieuwe onderzoekscentrum gaat research and development doen rond de ontwikkeling van extreemultravioletlithografie of euv. De VS wil met het onderzoek 'zijn technologisch leiderschap vergroten', de tijd en kosten beperken om prototypes van euv-machines te maken, en helpen bij het opzetten van de halfgeleiderindustrie. Het ministerie en Natcast verwachten dat het centrum de eerste prototypes van euv-systemen in 2025 kan tonen. High-na-euv-systemen moeten in 2026 verschijnen.
Het onderzoekscentrum krijgt een subsidie van 825 miljoen dollar van de federale overheid, omgerekend zo'n 760 miljoen euro. Dat geld komt beschikbaar vanuit de Chips Act, die president Joe Biden in 2022 ondertekende. Met die Chips Act komen er tientallen miljarden dollars beschikbaar om te investeren in onderzoek en productie van chips en halfgeleiders. Het was al duidelijk dat onderdeel daarvan was om geavanceerdere chipmachines te kunnen bouwen op Amerikaanse grond. Het nieuwe onderzoekscentrum is een van de grootste projecten onder dat plan.