Samsung meldt dat de euv-productie van chips volgens plan verloopt en dat in de tweede helft van 2018 de eerste 7nm-chips met de techniek worden geproduceerd. Daarnaast komt het bedrijf met het 11LPP-procedé voor chips van midrangesmartphones.
Samsung spreekt van 'initiële productie'. Het gaat daarom nog niet om massaproductie, maar de aankondiging wijst erop dat er voldoende vorderingen zijn geboekt om verder uitstel van de euv-productie te voorkomen. Zo haalt Samsung inmiddels een yield van tachtig procent voor de euv-productie van 256Mbit-sram. Verdere details over de voortgang van de overstap naar euv geeft Samsung tijdens zijn Samsung Foundry Forum, dat deze week in Japan plaatsvindt. Op eerdere roadmaps van het bedrijf stond de 7nm-massaproductie voor de tweede helft 2019 en waarschijnlijk handhaaft Samsung deze planning.
De aankondiging is een opsteker voor ASML, dat het vertrouwen in zijn euv-lithografiemachines ziet groeien bij fabrikanten. De fabrikanten willen op euv overstappen om rendabel kleinere structuren op het silicium aan te kunnen brengen. De inzet van de huidige 193nm-immersielithografie wordt vanaf 7nm te duur en tijdrovend. De euv-machines van ASML maken gebruik van extreem ultraviolet licht met een aanzienlijk kortere golflengte van 13,5nm, om dunnere lijntjes te kunnen beschrijven. ASML ondervond grote problemen bij de ontwikkeling van de technologie. Al in 2006 moesten de eerste euv-machines productierijp zijn, maar keer op keer werd tot uitstel besloten.
Samsung kondigt verder aan een 11LPP-procedé tussen zijn 14LPP- en 10LPP-varianten te schuiven, waarbij LPP voor low power plus staat. De 11nm-productie is bedoeld om chips voor midrange-smartphones te maken. Voor de high-end socs blijft Samsung 10LPP gebruiken. Volgens het bedrijf leidt 11LPP ten opzichte van 14LPP tot een prestatietoename van vijftien procent en afname van het chipoppervlak van tien procent bij een gelijk verbruik. De productiestart vind in de eerste helft van 2018 plaats. Niet bekend is hoe 11LPP zich verhoudt tot het vorig jaar aangekondigde 14LPU. Ook deze verbetering van de 14nm-productie moest hogere prestaties bij gelijk verbruik mogelijk maken. De 14LPU-generatie staat nog altijd niet op de site van Samsung; de kans bestaat dat het bedrijf nu simpelweg de naam in 11LPP heeft veranderd.
FinFET-lithographie-roadmap, start van massaproductie | ||||||||||||
2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | |||||||
1H | 2H | 1H | 2H | 1H | 2H | 1H | 2H | |||||
GlobalFoundries | 14LPP | 7nm duv | 7nm met euv* | |||||||||
Intel | 14 nm 14 nm+ |
14 nm++ 10 nm |
10 nm+ 10 nm++ |
|||||||||
Samsung | 14LPP 14LPC |
10LPE | 10LPP 11LPP |
8LPP 10LPU |
7LPP met euv | 6nm* (?) | ||||||
SMIC | 28nm | 14nm | ||||||||||
TSMC | CLN16FF+ CLN16FFC | CLN10FF CLN16FFC |
CLN7FF CLN12FFC |
CLN12FFC/ CLN12ULP |
CLN7FF+ | 5nm* (?) | ||||||
UMC | 28nm | 14nm | niet bekend | |||||||||
*Exacte datum niet aangekondigd |
Overzicht van roadmaps, opgesteld door AnandTech