Het Belgische onderzoeksinstituut Imec heeft een samenwerkingsverband met lithografiebedrijf ASML aangekondigd. In de researchfaciliteiten van het Imec zal een Advanced Patterning Center gevestigd worden om onderzoek te doen naar nieuwe lithografische technieken.
In het nieuwe lab zal onderzoek gedaan worden naar nieuwe lithografische technieken en verbeteringen van technieken om kleinere transistors te maken. ASML en Imec zullen gezamenlijk werken aan technologie om chips te maken die over twee tot drie generaties beschikbaar moeten komen. Lithografische technieken die chips met transistors van 10nm, 7nm en 5nm moeten in het Advanced Patterning Center ontwikkeld worden. Daarbij is de foutmarge dermate klein, dat nieuwe en continue controlemethodes nodig zijn. Die stappen zijn nodig om de overstap naar euv-lithografie te maken.
De ontwikkeling wordt uitgevoerd met behulp van Imecs testfaciliteiten, waaronder een cleanroom met een 300mm-waferproductielijn. In de toekomst wordt die testproductielijn uitgebreid met een 450mm-waferlijn. ASML zal zijn nieuwste lithografische apparatuur leveren, waaronder euv-machines. De machines krijgen bovendien inspectiehardware in de lithografiemachines in de vorm van een techniek die Yieldstar genoemd wordt. De betere controle en bijsturing op fouten en defecten is essentieel om de overstap naar euv-lithografie te maken, waarbij de transistors en features nog kleiner gemaakt kunnen worden.