TSMC gaat Nvidia's cuLitho-platform gebruiken voor het ontwerpen van chips. Dit platform gebruikt Nvidia's gpu's, in plaats van de cpu's die nu worden gebruikt, en kunstmatige intelligentie. Nvidia zegt dat cuLitho sneller en efficiënter is dan bestaande technieken.
CuLitho is een computational lithography-platform dat wordt gebruikt bij het maken van de zogeheten fotomaskers, waarvan er meerdere gebruikt worden tijdens het chipproductieproces. De maskers vormen de patronen voor de belichtingsstappen in het chipproductieproces. De chipontwerpen worden met licht op de wafer afgebeeld. Die fotomaskers moeten 'vervormd' worden om optische problemen als diffractie te compenseren en dat simuleren vergt veel rekenwerk.
Nvidia claimt dat het cuLitho-platform die berekeningen efficiënter kan uitvoeren door gpu's te gebruiken, in plaats van de datacenter-cpu's die nu worden ingezet. Nvidia claimt dat 350 H100-systemen het werk kunnen overnemen van 40.000 cpu-systemen, al meldt Nvidia niet om wat voor cpu's dit precies gaat. Zo kunnen maskers dus sneller geproduceerd worden, óf energiezuiniger.
Daarnaast zegt Nvidia algoritmes te hebben gemaakt die gebruikmaken van generatieve AI voor gebruik met het cuLitho-platform. Dit algoritme zou het cuLitho-platform tot twee keer versnellen. Met die generatieve AI kunnen chipontwerpers ook 'bijna perfecte' inverse masks of inverse solutions gebruiken. Deze techniek wordt volgens Nvidia al twee decennia besproken onder wetenschappers, maar kon tot dusver niet in de praktijk gebruikt worden omdat er niet genoeg rekenkracht voor was. Met cuLitho zou dit volgens Nvidia wél kunnen, waardoor nieuwe fotomaskers nog sneller gemaakt kunnen worden. Naast TSMC en Nvidia hebben ook ASML en Synopsys meegewerkt aan de ontwikkeling van cuLitho.
Correctie, 15.17 uur - In de kop van dit artikel stond aanvankelijk vermeld dat cuLitho kan helpen om chips sneller te ontwerpen. Dat gaat echter specifiek om fotomaskers. Dit is aangepast.