Intel is van plan om later dit decennium glazen substraten in te zetten voor zijn grootste en geavanceerdste chips. Dat moet het mogelijk maken om grotere en complexere chips te bouwen en sneller met de chips te communiceren.
Intel heeft vooralsnog vier opties voor packaging, ofwel de manier waarop een silicium die met de buitenwereld verbonden wordt. De bekendste daarvan zijn de fcbga- en fclga-chips. Vrijwel alle consumentenprocessors maken gebruik van die techniek, waarbij de daadwerkelijke silicium dies verbonden zijn met een substraat van verlijmde glasvezellaagjes. Dat substraat wordt door Intel een organisch substraat genoemd en lijkt sterk op een stukje printplaat. Laptopprocessors zitten meestal op een fcbga-substraat en socketed desktopprocessors op een fclga-substraat, kort voor flip-chip ball-grid array en flip-chip land grid array. De fcbga-chips worden direct op een moederbord gesoldeerd en de fclga-chips zijn socketed.
Voor geavanceerdere chips, bijvoorbeeld als verscheidene chiplets met elkaar gecombineerd moeten worden, heeft Intel een paar jaar geleden de EMIB-package ontwikkeld, waarbij kleine stukjes organisch substraat worden vervangen door stukjes silicium, waarin veel geavanceerdere verbindingen als through-silicon via's en verbindingen met hogere dichtheid gerealiseerd kunnen worden. Foveros-packaging is een soort verdere ontwikkeling daarvan, waarbij krachtige chiplets op een simpel silicium substraat worden geplaatst dat eenvoudigere taken uitvoert. Het geheel wordt weer op een package gezet.
De organische substraten zijn beperkt in hun vermogen om chiplets of dies op hoge snelheid met elkaar te verbinden. De 'printplaatjes' kunnen niet oneindig complex gemaakt worden en de dichtheid van het aantal verbindingen, en daarmee hun aantal en bandbreedte, is beperkt. Ook is de totale footprint gelimiteerd tot 120 bij 120mm. Ook EMIB is wat beperkt wat afmetingen betreft. Momenteel zijn chips van 4,5 maal de reticleafmetingen mogelijk, met een upgrade van 6 maal die afmetingen in het verschiet. Wel zijn de afmetingen van de verbindingsaansluitingen, de zogeheten bumps, veel kleiner dan bij organische substraten. Die zijn nog 55μm groot, maar schalen naar 36μm, terwijl ze bij organische substraten niet veel kleiner dan 100μm worden. Foveros heeft nog veel kleinere contactbumps van 36 tot 25μm, terwijl Foveros Direct zelfs kleiner dan 10μm schaalt.
Met de ontwikkeling van glazen substraten wil Intel de voordelen van alle substraten combineren en grotere chips maken met hogesnelheidinterconnects. Het wil zelfs grotere chips maken met optische communicatie naar buiten, door middel van wave guides die optical computing mogelijk maken. De glazen interconnects moeten bovendien betere mechanische en optische eigenschappen hebben en zouden goedkoper te implementeren én zuiniger zijn.
Een van de eigenschappen van glas is dat de uitzetcoëfficient beïnvloed kan worden, waardoor het net zo hard uitzet of krimpt als de silicium dies waarmee het verbonden wordt. De heel kleine onderlinge verbindingen zouden verbroken worden als de die en het substraat verschillend op warmte reageren. Ook kunnen veel meer gaten, die analoog aan through silicon via's nu through glass via's of tgv's genoemd worden, gerealiseerd worden dan in organische substraten. Intel spreekt van een tien keer zo hoge tgv-dichtheid als bij organische substraten, al is dat verschil met siliciumopties als EMIB of Foveros veel kleiner.
Glas heeft ook isolerende eigenschappen die energie- en signaalverlies beperken, waardoor hogere communicatiesnelheden mogelijk zijn. Volgens Intel is 480Gbit/s mogelijk door de tgv's. Die tgv's zouden een pitch van minder dan 100μm kunnen krijgen en features als elektronische verbindingen in het glas zouden een pitch van slechts 5μm en een lijnbreedte van 5μm kunnen krijgen. Ter vergelijking: in een organisch substraat is dat ongeveer 10μm. Nog een belangrijk voordeel van heel veel en heel kleine bumps is de mogelijkheid het substraat wat functies van de chip over te laten nemen. Een heel complex aspect van chipontwerp is de powerdistributionlaag, de metaallagen die alle transistors van stroom voorzien. Met glazen substraten zou een deel van die metaallagen weggelaten kunnen worden en naar het substraat verplaatst kunnen worden.
Kortom, Intel voorziet dat de overstap naar glas als substraat voordelen oplevert voor de scaling van interne bedrading en tgv's, silicium dies kunnen met meer en fijnere bumps verbonden worden, communicatie met hoge snelheid wordt mogelijk en de stroomtoevoer wordt verbeterd. Glazen packages kunnen tot acht keer de reticleafmetingen of tot 240 bij 240mm geschaald worden, wat voor monsterchips in datacentra, en dan met name voor AI-chips, een gewenste eigenschap is.
Het team dat ook EMIB heeft ontwikkeld, werkt al pakweg tien jaar aan glazen substraten. Inmiddels is een werkende testchip opgeleverd met tgv's met een doorsnede van 75μm en drie metaallagen aan weerszijden van het glas. Intel heeft een onderzoekscentrum en fabricagelijn in Arizona staan, waarin inmiddels een miljard dollar is geïnvesteerd en Intel werkt samen met leveranciers en partners om een compleet ecosysteem op te zetten. Het bedrijf verwacht later dit decennium voor heel grote chips voor AI- en datacentratoepassingen op glas over te stappen. Voor de consumentenproducten blijven organische substraten zoals we die nu in onze pc of laptop hebben, gewoon gebruikt worden.