Een groep onderzoekers van de Harvard-universiteit heeft een methode ontwikkeld om ijs te gebruiken voor de productie van nanoapparaten, zoals transistors van koolstof nanobuisjes. De techniek is schoner dan gangbare alternatieven.
De ijslithografie, zoals de hoofdauteur van het onderzoek Daniel Branton de techniek heeft genoemd, kan worden ingezet voor de productie van nanoapparatuur, waaronder fet's van koolstof nanobuizen, of cnt's. De nanostructuren zouden eenvoudiger van de ondergrond te verwijderen zijn zonder ze te beschadigen. Bovendien zou geen residu achterblijven van hars, dat normaal als fotoresistlaag wordt gebruikt. Het ijs smelt gewoon weg.
In een sterk gemodificeerde scanning electron microscope wordt het ijs aangebracht in de vorm van waterdamp dat in het vacuüm van de sem tot 110K wordt gekoeld. Het ijs wordt opgedampt op een ondergrond van het siliciumoxide- en siliciumsubstraat met daarop de nanobuizen. De elektronenstraal van de microscoop wordt vervolgens gebruikt om patronen in het ijs en de onderliggende cnt's te etsen. Op de plekken waar het ijs is weggeëtst wordt vervolgens metaal opgespoten om zo de benodigde palladiumelektrodes te realiseren.
Ten slotte wordt het overtollige metaal van het ijs weggespoeld en blijft het gewenste patroon over. Op deze manier wisten de onderzoekers van Harvard fet's van singlewalled cnt's te produceren met enkel hun gemodificeerde microscoop. 'Traditionele' nanocontructies vergen tot zes apparaten.
Aangezien het laagje ijs van slechts enkele tientallen nanometers dik transparant is, kunnen de juiste locaties voor de metalen onderdelen door het ijs worden gevisualiseerd. Met normale fotoresistlagen van hars is dat niet mogelijk. Dat maakt de vervaardiging van toekomstige, complexere nanostructuren mogelijk, aldus Branton.