ASML neemt Duitse fabrikant van keramische en optische vezels over

De in Veldhoven gevestigde chipmachinebouwer ASML heeft een goed tweede kwartaal achter de rug en is voornemens Berliner Glas over te nemen. Deze fabrikant maakt keramische en optische modules, en die zijn belangrijk voor de machines van ASML.

In een toelichting op de kwartaalcijfers zegt ASML dat het is overeengekomen om alle aandelen van het private bedrijf Berliner Glas over te nemen. Het Veldhovense bedrijf zegt dat de keramische en optische modules belangrijk zijn om de toekomstige roadmap van euv- en duv-producten te ondersteunen. De overname is echter nog geen feit; dat is pas het geval als alle relevante toezichthouders hun zegen hebben gegeven. Dat wordt voor het einde van dit jaar verwacht. ASML deelt geen financiële details over de transactie. De bedrijven werken al langere tijd nauw samen.

ASML meldt verder dat het tijdens het vorige kwartaal negen euv-machines heeft geleverd en van die negen verscheepte systemen omzet heeft gerealiseerd voor in totaal zeven machines. Dat komt doordat in twee gevallen de klanten hebben aangegeven de factory acceptance tests uit te stellen tot in hun fabrieken, in plaats van die tests al uit te voeren voordat ze geleverd worden. Daarmee dragen deze twee systemen pas in een volgend kwartaal bij aan de omzet. Die vertraging schrijft topman Wennink toe aan de covid-19-situatie tijdens het tweede kwartaal, waardoor er aan het begin van het tweede kwartaal enkele vertragingen optraden in de productie.

De omzet kwam uit op 3,3 miljard euro, terwijl dat cijfer in het eerste kwartaal van dit jaar nog uitkwam op 2,44 miljard euro. De nettowinst kwam uit op 751 miljoen euro, terwijl dat een kwartaal eerder op 391 miljoen euro zat. De 3,3 miljard euro aan omzet was volgens Wennink op 3,6 miljard euro uitgekomen als de levering van de hierboven genoemde twee euv-systemen wel al geheel zou zijn afgerond, inclusief de acceptatietests.

In totaal verkocht het bedrijf 57 nieuwe lithografiesystemen. ASML boekte voor 1,1 miljard aan orders, waarbij het onder meer om drie euv-machines gaat. Het orderboek bedroeg in het eerste kwartaal nog iets meer dan 3 miljard euro, wat destijds was te verklaren door een flinke order van negen euv-machines. Wennink stelt echter dat dat geen reden voor negativiteit is, aangezien het orderboek nu net onder de tien miljard euro zit met 54 euv-systemen.

In een video-interview ging Wennink ook kort in op de progressie die ASML met de euv-technologie boekt. Hij zegt dat euv nu echt op het punt van high-volume manufacturing komt en dat het dus deel van het normale operationele profiel wordt. Hij licht toe dat in het tweede kwartaal goede voortgang is geboekt met het leveren van de modular vessel, wat hij omschrijft als een nieuwe oplossing voor euv, met een in-line tin refill. Deze module schiet laserpulsen op een stroom van tindruppels om breedbandlicht te genereren. De jaarcapaciteit van euv-machines, zoals de NXE:3400C, zal volgens Wennink volgend jaar op 45 tot 50 systemen uitkomen.

Door Joris Jansen

Redacteur

15-07-2020 • 15:00

40

Reacties (40)

40
39
17
5
0
18
Wijzig sortering
"Hij licht toe dat in het tweede kwartaal goede voortgang is geboekt met het leveren van de modular vessel, wat hij omschrijft als een nieuwe oplossing voor euv, met een in-line tin refill. "

Dat is iets teveel "marketing speak", maar ik ben gebonden aan een arbeidscontract ;-)

In-line refill betekent simpel dat de vooraad Tin voor het deel van de machine dat druppeltjes schiet in een vacuum kamer (denk aan inkjet printer) en door EUV pulsen wordt geraakt, kan worden bijgevuld zonder dat de hele machine plat hoeft, dus scheelt down time en geld.
Het tin is toch waar het EUV uit komt? Door energie die daar als infrarood in gaat meen ik. Het tin verdampt (daar gaat je vacuum) al zullen ze wle manierne hebben om dat af te buiten en op te vangen. Je wil geen tinaanslag op je EUV-spiegels, dat lijkt me veel duurder qua downtime dan een tinpatroon bijvullen.
Je maakt een tin plasma met CO2 laserpulsen die je op de tin druppeltjes knalt. Dat plasma wordt zo verhit tot paar honderduizend Kelvin en zend o.a. 13.5 nm licht uit. Heb zelf 10 jaar aan de EUV source gewerkt, alle onderdelen, vanaf het begin in Veldhoven.

[Reactie gewijzigd door Pe Nis op 25 juli 2024 06:33]

Ik ben ook niet van de marketing-termen, maar ik denk dat hier de plank niet misgeslagen wordt. Een "in-line tin refill" dekt de lading prima (er wordt volgens mij ook niks gepretendeerd wat het niet is), alleen kan voor de leek het niet concreet overkomen. Meestal hebben degenen die een bericht van ASML volgen, wel wat voorkennis.
Lees ik dit goed tin druppels worden geraakt door EUV pulsen. :?
Nee het is de Droplet generator die tin druppels het vessel inschiet en de Trumpf Laser, die de tin druppels raakt en ja ik werk ook bij ASML.
Een EUV systeem kost minimaal 120 miljoen euro.

Met een nieuwe methode voor "inline tin refill" kunnen ze wararschijnlijk de "downtime" significant reduceren.

EUV systemen "werken" grotendeels met diep vacuüm.
Wat is diep vacuüm? Ik ken maar 1 soort vacuüm.
Alle druk onder atmosferisch is vacuüm. Maar technisch gezien kun je niet met één pomp en druk creëren van 10-7 mbar/10-5Pa ( dus millibar en Pascal). Dat zijn twee verschillende pomp(systemen) voor nodig. Dus kun je de diepte van je vacuüm opsplitsen.

Laag vacuüm: atmosferisch tot 100Pa/1mbar, Middel vacuüm: 1mbar/100pa tot 10-2mbar/1Pa. Beiden kun je bereiken met "simpele" pompen, bijv schottenpomp (zelfde principe als een waterpomp).

Hoog vacuüm: 10-2mbar/1Pa tot 10-6mbar/10-4Pa tweede pomp nodig, dus een bijv. een turbo moleculair pomp in serie met een simpele pomp.
En dan heb je nog ultrahoog vacuüm, drukken lager dan 10-6mbar.
Hogere vacua vragen hogere pompsnelheden.

Misschien iets om over na te denken: druk is onder andere afhankelijk van het aantal deeltjes in een volume. 1mbar betekent dat je 1000 keer minder deeltjes hebt per volume eenheid.
10-9mbar in mijn sputterkamer betekent dus een miljoenste van een miljoenste van het aantal deeltjes in vergelijk met de ons omringende lucht.

Edit:
De machines van ASML maken structuren van 1-5 nanometer groot. Je kan uitrekenen hoe laag je druk moet zijn om het aantal botsingen op je reticle of op het substraat (waar het patroon moet komen) voldoende laag te houden zodat je zoveel mogelijk yield overhoudt. Blijkbaar hebben ze drukken nodig van <10-6 mbar/10-4Pa.

[Reactie gewijzigd door thoenk op 25 juli 2024 06:33]

Het vacuüm is dacht ik vooral nodig omdat euv-licht niet door lucht kan reizen.
Klopt, de EUV straling (welke dichtbij röntgenstraling zit qua golflengte) wordt makkelijk geabsorbeerd door lucht, maar ook glas. Vandaar dat EUV werkt met spiegels om optische effecten te bewerkstelligen, in plaats van lenzen.
Okay. Dan zal de EUV intensiteit omgekeerd-evenredig schalen met de druk. Kan de partiële druk zijn, bijv. van water. Onze atmosfeer staat niet bekend als transmissief voor EUV, want anders werden we elke dag doorgelicht. ;)
Bedoel je dat de zon EUV uitstraalt? Dat is namelijk niet zo, de temperatuur van de zon is daar veel te laag voor.
https://www.wolframalpha....=Blackbody+spectrum+6000K om wat intuïtie te krijgen in welke golflengten de zon uitstraalt (of eigenlijk hoe snel de intensiteit afneemt als functie van de golflengte, aangezien het een continue distributie is)
De zijn zend wel degelijk Röntgen (EuV) uit.
https://iopscience.iop.or.../fulltext/50424.text.html
Misschien is deze link wel beter:
https://www.nasa.gov/miss...nce/solar-irradiance.html
Hierin wordt gesteld dat a) EUV gevaarlijk is voor astronauten (want is eigenlijk gewoon Röntgen) en b) dat de atmosfeer dit filtert. Zoals ik ook stelde.

[Reactie gewijzigd door thoenk op 25 juli 2024 06:33]

Ik ben dus even gaan onderzoeken, en het blijkt dat bepaalde lagen van de zon (de corona laag, heel toepasselijk weer) een 300 keer hogere temperatuur kan hebben dan de photosfeer (waar wij het meeste licht vandaan krijgen). De corona is dus wel heet genoeg om EUV uit te stralen.
Weer wat nieuws geleerd.
Blijkbaar hebben ze drukken nodig van <10-6 mbar/10-4Pa.
Wat weinig joh :*)
Hoe hoog is het vacuum in de ruimte eigenlijk (bv waar de iss hangt).
Als ze daar die machines naar toe brengen zijn hoeven ze misschien niet meer aan dat vermaledijde vacuum te zuigen. En 'tstuift er ook minder.

[Reactie gewijzigd door Bruin Poeper op 25 juli 2024 06:33]

Het stuift daar behoorlijk met allerlei "debris". Stukjes ster enzo. ;)
Als je de interstellaire ruimte pakt, zitten er nog tientallen deeltjes per kubieke eenheid. Ter vergelijk: een mol gas geeft pakweg 6e23 druktes per gram, dus in 8 liter (als mijn middelbare school fysica mee niet in de steek laat).
Bij het ISS is de druk, dus het aantal deeltjes, aanmerkelijk hoger. Ik ga ff zoeken.
Edit: https://hypertextbook.com/facts/2002/MimiZheng.shtml

[Reactie gewijzigd door thoenk op 25 juli 2024 06:33]

Ja, de ISS hangt wel in de ruimte, maar is met 200 KM lage baan bepaald niet uit de "thin-atmosphere" en het ding valt dan ook terug naar aarde als ze hem niet op snelheid houden. Hij blijft er als het goed is tenminste tot 2028 rondjes draaien. Zal ook wel wat makkelijker zijn met de prijzen die SpaceX rekent.
Okay, ik ben een beetje een mierenneuker, maar het ISS is twee keer zo hoog, rond de 400 km. Dat maakt voor je verhaal verder niet uit trouwens.
Die zegt in outer space 1.33 × 10−11 Pa
Waar is "outer space" dan? Hij geeft het op 2 cijfers achter de komma aan...
Ergens gevonden dat "outer space" begint op 100 km, en de ISS zou op 200km zitten

Je hebt het over "10-9mbar in mijn sputterkamer". Is 10-7 Pa.
Kwa vacuum zou je in "outer space" (als dat op 100km is) dus beter af zijn. Vacuum druk is er 10.000x lager.

P.S.:
Dit lijstje geeft voor "near outer space" 100uPa. Is 10-4Pa.
In dat geval is de druk daar 1000x hoger dan in "mijn sputterkamer". :(
Maar op de maan ben je wel beter af: 1 nPa, dat is 10-9 Pa, druk is er 100x lager dan in "mijn sputterkamer".

[Reactie gewijzigd door Bruin Poeper op 25 juli 2024 06:33]

Ja, de dichtheid van de atmosfeer is het hoogst waar wij leven. De druk neemt enorm af, hoe verder weg, hoe lager. Interstellair is het nog veel lager dan tussen de sterren in onze Melkweg. Intergalactisch (tussen de sterrenstelsels in) is het nog lager.
Evacueren van alle gassen, en dat kost veel tijd en moeite.

En als ex ASML medewerker ben ik niet meer gebonden aan een NDA.

[Reactie gewijzigd door obimk1 op 25 juli 2024 06:33]

Dus gewoon vacuüm.
Vacuüm bestaat niet echt, het is iets wat nooit te bereiken is. Er is dus sprake van flinke onderdruk, en daarin zijn ongeveer de volgende typen vacuüm te identificeren:
  • Rough vacuum (from 10 3 mbar to 1 mbar)
  • Medium vacuum (1 mbar to 10 -3 mbar)
  • High vacuum (10 -3 mbar to 10 -7 mbar)
  • Ultra-high vacuum (10 -7 mbar to 10 -12 mbar)
  • Extreme high vacuum (less than 10 -12 mbar)
Ik weet niet welke ASML gebruikt,maar ik kan me voorstellen dat dat Ultra-high vacuum zou moeten zijn.
Duidelijk, mijn dank er voor
Het is een beetje als bij mondkapjes. Er zijn "medische" (die schilders ook hebben...) die werken, en kapjes die wellicht niet werken omdat ze onder minder wetenschappelijke normering gemaakt zijn, namelijk thuis. :)
High vacuum is genoeg.
Gewoon vacuüm bestaat niet. Je kan alleen proberen zo dicht mogelijk in de buurt proberen te komen van een perfect vacuüm.
Interessante stap. Vraag me meteen af wat de volgende zou worden. Carl Zeiss?
Dan kunnen we gaan klagen dat alle Duitse industrie wordt overgenomen door buitenlandse bedrijven :-)
Nope, dat is een stichting. Niet te koop. Eigenaars zijn werknemers.
Een stichting heeft geen eigenaren/aandeelhouders.
Het is een speciale constructie.
Dat is elke stichting, dat maakt het zo mooi. Maar dat de medewerkers ook eigenaar zijn is niet correct.
Uit:
https://de.m.wikipedia.org/wiki/Carl-Zeiss-Stiftung

“ Die Stiftung war also keine Holding, die Anteile an rechtlich selbständigen Unternehmen hielt, sondern sie betrieb selbst als Unternehmerin die Geschäfte über ihre beiden rechtlich unselbständigen Stiftungsunternehmen.”

Enige wat de medewerkers kunen is wijzigingen is statuten op noodzakelijkheid te laten testen.

“ Danach dürfen Veränderungen nur vorgenommen werden, wenn sich die rechtlichen, technischen oder ökonomischen Rahmenbedingungen so gravierend verändert haben, dass eine Aufrechterhaltung der Bestimmungen des Statuts entweder nicht möglich, mit Blick auf die absehbaren Folgen undurchführbar oder aber unter Berücksichtigung der erkennbaren Absichten des Stifters zweckwidrig sein würde. Um die Einhaltung dieser Voraussetzungen zu gewährleisten, räumt das Stiftungsstatut den Mitarbeitern der Stiftungsunternehmen das Recht ein, Änderungen des Stiftungsstatuts gerichtlich auf ihre Notwendigkeit hin überprüfen zu lassen.”
Zeiss is al voor een gedeelte ingelijft door ASML.
Begin dit jaar was er in het nieuws veel te doen over het exporteren van EUV-technologie naar China met een exportblokkade.
Vreemd genoeg kan ik nergens vinden hoe dit is afgelopen met de tweestrijd die gaande was tussen Amerika die liever niet zag dat deze technologie naar China zou gaan en China die de machines gewoon geleverd wilt krijgen.
Weet iemand daar meer over? Heeft dit op dit moment (financiële) consequenties voor ASML?
Je kunt het eigenlijk in dit bericht al lezen. In het order portfolio staan op dit moment 54 EUV systemen in bestelling. De productie capaciteit wordt verwacht volgend jaar zo'n 40-50 EUV systemen te zijn. Kortom op dit moment is de productiecapaciteit voor EUV machines al voor meer dan een jaar compleet uiverkocht. De bottle neck zit dus niet in de vraag naar EUV machines en een eventuele wegvallende vraag ui China, maar aan de kant van de productie capaciteit van ASML. Het lijkt erop dat ASML dan ook nagenoeg geen (financiele) problemen ondervindt van de export beperkingen van EUV technologie naar China. Een eventuele boete clausule in een contract daar gelaten natuurlijk.
Maakt deze overname het bedrijf onafhankelijk van VS technologie, of blijft het onder controle van de VS, zodat het kan gebruikt worden voor de VS sanctie/chantage praktijken ?

Op dit item kan niet meer gereageerd worden.