De volgende stap naar nog kleinere productieprocedés zou dankzij siliciumgeheugen vrij eenvoudig zijn. Onderzoekers hebben eenvoudige geheugencellen ontwikkeld, die slechts bestaan uit silicium en aansluitingen.
Het nieuwe type geheugen werd ontwikkeld na observaties van dunne stroken grafiet, van ongeveer tien nanometer breed. Onder invloed van een stroompuls kon de strook worden gebroken en weer verbonden, wat het equivalent van een geheugenbit vormde. Nader onderzoek wees echter uit dat dit effect niet afhankelijk is van grafiet; ook silicium vertoont dit fenomeen. Aangezien silicium het hoofdbestanddeel van vrijwel alle processors is en goed in halfgeleiderproducten kan worden verwerkt, zou het siliciumgeheugen snel in productieprocessen kunnen worden geïntegreerd.
Het siliciumgeheugen werkt door een laagje siliciumoxide, een elektrische isolator, tussen twee lagen geleidend polykristallijn silicium te klemmen. Bij het aanbrengen van een stroom worden oxide-atomen van het silicium gestript, wat zorgt voor de vorming van geleidende siliciumkristallen. Eenmaal gevormd kunnen deze kristalsporen, net als het grafiet eerder, steeds opnieuw worden verbonden en verbroken. De lagen 'poly' dienen hierbij als elektrodes. Flashgeheugen is complexer en heeft drie elektrodes nodig.
De zo gevormde geheugenbits kunnen bijzonder eenvoudig worden geproduceerd en gezien hun samenstelling laten zij zich eenvoudig in bijvoorbeeld processors verwerken. Bovendien zijn de structuren zeer klein. De kristaldraden zijn tussen de vijf en tien nanometer groot, veel kleiner dan de featuresize waaraan de huidige geheugenproductietechnieken met hun 20 tot 30nm toe zijn. De siliciumoxide-geheugenbits zijn tevens in driedimensionale structuren te stapelen en schakelen in minder dan 100ns. De onderzoekers van de Rice-universiteit werken samen met verschillende bedrijven en hebben al een werkende prototype-geheugenchip met duizend elementen. Deze wordt nu getest.
