InternetNews meldt dat Intel een financiële injectie heeft gegeven aan Cymer. Dit bedrijf mag twintig miljoen dollar spenderen aan de ontwikkeling van EUV-lithografie. EUV staat voor 'extreem-ultraviolet'; de term wordt in de chipindustrie gebruikt voor golflengtes van iets meer dan 10 nanometer. De huidige machines werken op basis van DUV of diep-ultraviolet, wat neerkomt op 193nm. Intel was van plan eerst over te stappen naar 157nm voor EUV in beeld kwam, maar die plannen zijn vorig jaar gewijzigd.
De eerste commerciële EUV-scanners zullen waarschijnlijk in 2009 worden geïntroduceerd. Daarmee loopt Intel voor op de International Technology Roadmap for Semiconductors (ITRS), die de technologie pas in 2013 op de agenda heeft staan. De scanners zullen gebruikt worden voor het 32-nanometerprocédé - voor 45 en 65 nanometer zullen de huidige DUV-machines worden gebruikt. Voor de chipfabrikanten is het te hopen dat de prijs van EUV-scanners nog wat daalt: de prijs voor het lithografiegedeelte bedraagt op dit moment ongeveer dertig miljoen dollar, terwijl voor elke zogeheten cel - waarvan de producent er waarschijnlijk meer dan een nodig heeft - een slordige vijftig miljoen mag worden neergeteld.
