Processors kunnen mogelijk aanzienlijk kleiner gemaakt worden dankzij een nieuw ontwerp voor transistors. De onderzoekers vonden een methode om de junction van de transistors te vervangen en zo de productie ervan te vereenvoudigen.
In een mosfet, het meestvoorkomende type transistor in processors, worden de polen van de transistor - de source en de drain - door middel van zogeheten junctions met het substraat verbonden. Deze junctions zijn zeer belangrijk in de halfgeleiderindustrie en krijgen dan ook speciale aandacht van de ontwerpers om de schakelsnelheid van de transistors te optimaliseren, de weerstand te verlagen en het verbruik te minimaliseren. Dat laatste aandachtspunt betreft vooral de zogeheten lekstroom, ofwel de stroom die vloeit wanneer de transistors in de 'uit'-toestand staan. Om een goede geleiding mogelijk te maken, worden junctions gedoteerd met hoge concentraties doteringsmateriaal, wat duur en lastig realiseerbaar is.
Onderzoekers van het Ierse Tyndall National Institute hebben echter een transistor ontwikkeld die niet van speciaal ontworpen junctions is voorzien, wat de fabricage van de halfgeleiders aanzienlijk zou vereenvoudigen. Bovendien zou de doorbraak de productie van transistors met een feature size van omstreeks 10nm mogelijk maken. Dergelijke transistors zouden in theorie de lekstroom in het channel tussen de source en de drain minimaliseren.
De Ierse onderzoekers bouwden hun transistors zonder junctions door de gate - het schakelende onderdeel van een mosfet - te vervaardigen van een zeer dunne siliciumdraad van ongeveer 30nm breed en 10nm dik. De transistor wordt aan- of uitgezet door een ringstructuur om de siliciumdraad de gate te laten aansturen. Door de weerstand van de gate te moduleren, kunnen de transistors in de 'aan'- of 'uit'-toestand worden gezet. De op deze manier geschakelde transistors hebben zeer goede elektrische eigenschappen en geleiden stroom dankzij dotering met arseen of boorfluoride.
De siliciumdraad kan nog worden verkleind tot ongeveer 10 bij 10nm. Het aantal productiestappen is relatief gering en de benodigde dotering is lager dan bij normale transistors, terwijl de eigenschappen beter zijn, zowel wat betreft schakelsnelheid als wat betreft het energiegebruik. Verwacht wordt dat commerciële productie op 20nm mogelijk zal worden.
