Onderzoekers denken een alternatieve manier te hebben gevonden om de patronen voor data-opslag van harde schijven te produceren. Zij gebruiken polymeren die automatisch de gewenste structuren vormen.
In samenwerking met de opslagtak van Hitachi hebben wetenschappers van de universiteit van Wisconsin-Madison een alternatieve manier gevonden om de magnetische regionen van harde schijven te fabriceren. Door standaard lithografische technieken te combineren met zogenoemde blok-copolymeren, slaagden zij erin de structuren spontaan te laten vormen. De polymeren hechten zich aan door lithografie gevormde patronen op het substraat, waarna de samenstelling van de polymeren ervoor zorgt dat de gewenste structuren worden gevormd. De resulterende structuren zouden een hogere dichtheid en meer uniforme afmetingen hebben dan traditionele productiemethodes kunnen opleveren.
De onderzoekers hopen met hun polymeer-methode in eerste instantie de oppervlakte-structuren van harde schijven verder te verkleinen en daarmee de opslagcapaciteit van platters te vergroten. De polymeren kunnen dankzij hun zelfassemblerend vermogen kleinere structuren vormen dan met lithografie mogelijk is. Bovendien zouden de structuren op platters voor harde schijven goedkoper en sneller te produceren zijn. Er hoeft in vergelijking met traditionele productiemethodes namelijk slechts een kwart van de lithografische patronen gevormd te worden om de gewenste structuren te vormen. De huidige methode van de onderzoekers zou enkel voor de productie van structuren voor harde schijven geschikt zijn, maar in de toekomst zou de techniek voor de productie van chips kunnen worden ingezet.