Wetenschappers van UC Berkeley hebben de naar eigen zeggen kleinste transistor tot nu toe ontwikkeld. Ze wisten een transistor met een gatelengte van 1 nanometer te maken, door gebruik te maken van materiaal dat ook wordt gebruikt voor smeermiddelen.
De minuscule transistor van de onderzoekers bevat een gate van molybdeendisulfide, of MoS2, een anorganische verbinding van zwavel en molybdeen, dat vooral bekend is als onderdeel van smeermiddelen. Het verbetert de wrijvingseigenschappen van smeervet. In de halfgeleiderindustrie maakt het materiaal naam als alternatief voor silicium.
Voordeel van MoS2 is dat het een tweedimensionale halfgeleider is die in atoomdunne laagjes met een dikte van ongeveer 0,65 nanometer zijn elektrische eigenschappen behoudt. Bovendien is de stroom elektronen goed te controleren en leiden de dunne MoS2-lagen tot lage lekstromen. Die lekstromen zijn een obstakel bij silicium. Bij transistorgates korter dan 5nm nemen de lekstromen zover toe, dat het materiaal niet meer efficiënt in te zetten is op deze schaal. Bij andere siliciumalternatieven, zoals grafeen, zijn de elektronen minder beheersbaar en die zijn vaak ook lastig op grote schaal te produceren.
De onderzoekers van Berkeley Labs Materials Science Division combineerden hun MoS2-gate met een gate-elektrode op basis van een koolstofnanobuis. Deze combinatie vertoont volgens de makers uitstekende schakelcapaciteiten. De gatelengte bedroeg in de uitstand ongeveer 4nm en in de aanmodus een enkele nanometer.
Het team van Berkeley benadrukt dat het een proof-of-concept is, die nog lang niet rijp is om in de praktijk toegepast te worden. "Dit werk is belangrijk om te laten zien dat we niet langer beperkt zijn door de gate van 5 nanometer voor onze transistors. Moore's Law kan nog wat langer voortduren door het op de juiste manier ontwikkelen van halfgeleidermateriaal en de architectuur van onderdelen", zegt Ali Javey van Berkeley Labs. Hij en zijn collega's publiceren het onderzoek in Science onder de titel 'MoS2 transistors with 1-nanometer gate lengths'.