Canon heeft bevestigd dat zijn machines halfgeleiders kunnen maken op 11nm door gebruik te maken van nanostempellithografie. Dat wist het concern te melden op de Canon Expo 2015 in Tokyo. Canon toonde een matrijs of vorm die als model dient en de gemaakte wafer op de expo.
Dat schrijft het Japanse Nikkei Techology op zijn site. Canon doet onderzoek naar de nanostempeltechnologie samen met Toshiba om de minimale grootte van transistors en andere onderdelen op chips nog verder te verkleinen. De techniek staat internationaal bekend als nanoimprint-lithography of NIL. Doordat er geen gebruik gemaakt hoeft te worden van lithografie om de structuren op de wafers aan te brengen, wordt de lijndikte op de wafers niet bepaald door de golflengte van het licht.
Op dit moment is Canon aan het testen met nanostempelmachines om chips met een 16- tot 20nm-procedé commercieel interessant te maken. De eerste machines moeten in 2016 op de markt komen, waarna chips met het 16-20nm-formaat waarschijnlijk in 2017 verkrijgbaar zullen zijn. Canon is al langer bezig met het verder ontwikkelen van de technologie. Begin dit jaar kondigde het bedrijf al aan dat het zich nog meer bezig zou gaan houden met de productie van apparatuur voor nanostempellithografie.
Nanostempellithografie werkt door middel van een matrijs die in contact komt met een materiaal dat op glastemperatuur gebracht is met behulp van uv-licht of laser op het oppervlak van een substraat. Na het 'stempelen' van de negatieve vorm in het tijdelijk zachtere materiaal, hardt het materiaal uit en is er een positieve structuur. Omdat er geen precieze lenselementen nodig zijn zoals bij de productie van halfgeleiders door middel van lithografische technieken, zijn de bouw en het formaat van de machines simpeler bij NIL. Door dat laatste zijn de nadelen zoals tragere verwerking, minder problematisch, omdat de kosten per machine lager zijn.
In eerste instantie zal de techniek worden toegepast voor het maken van nand-flashgeheugen en niet voor logische circuits, aangezien vervuiling relatief makkelijk optreedt en stof of ingestorte patronen direct een heel circuit onbruikbaar maken.
Nanostempellithografiemachines van Canon, renders van productiesystemen in ontwikkeling