WK 2026: Scoor de beste deals! Stel jouw winnende opstelling samen met behulp van ons advies.

Euv

Nieuws over Euv uit 2024

Verfijn resultaten

Categorieën

ofen

Onderwerpen

ofen

Artikeltypes

Trefwoord

Imec print succesvol eerste structuren met nieuwe high-NA-euv-machine van ASML

08-'24 - Imec heeft succesvol de eerste logic- en dram-structuren op een wafer afgebeeld met een high-NA-euv-machine van ASML. Dat gebeurde in het gedeelde lab van ASML en imec. Deze nieuwe…

34

DigiTimes: TSMC wil ASML's high-NA-euv-machines gebruiken voor A14P-node

07-'24 - TSMC wil mogelijk gebruikmaken van ASML's volgende generatie euv-machines voor een A14P-procedé. Dat claimt de Taiwanese krant DigiTimes. De massaproductie moet in 2028 beginnen. TSMC…

86

Bloomberg: ASML en TSMC kunnen euv-machines op afstand uitschakelen

05-'24 - ASML kan de chipmachines van TSMC op afstand uitschakelen, zeggen bronnen tegen Bloomberg. Het gaat dan ook om de euv-machines, die kunnen worden uitgeschakeld in het geval van een…

103

ASML print eerste beelden met high-NA-euv-testmachine en behaalt 10nm-resolutie

04-'24 - ASML heeft de eerste beelden geprint met zijn high-NA-euv-testmachine in Veldhoven. De geprinte lijntjes hadden voor het eerst een resolutie van 10nm. De huidige euv-machines van ASML…

39

.Geek - Veldhovense chipmachinefabrikant ASML bestaat veertig jaar

04-'24 - ASML bestaat maandag veertig jaar. Op 1 april 1984 begon de chipmachinemaker in Eindhoven met 40 werknemers. Inmiddels is het bedrijf uitgegroeid tot belangrijke wereldspeler met meer…

106

ASML levert eerste TwinScan NXE:3800E-euv-machine met verhoogde productiviteit

03-'24 - ASML heeft de eerste Twinscan NXE:3800E-machines geleverd aan een klant. De productiviteit van dit euv-systeem zou minstens 195 wafers per uur bedragen, hoger dan de 160 wafers per uur…

40

ASML bereikt 'first light' met eerste high-NA-euv-machine

02-'24 - ASML heeft 'first light' bereikt met zijn eerste lithografiemachine voor high-NA-euv. Dat bevestigde Intel-technologiemanager Ann Kelleher tijdens de SPIE Lithography-conferentie in…

57