NEC, Sony en Toshiba onthullen details 45nm-procedé

NEC, Sony en Toshiba hebben vandaag details vrijgegeven over het samen ontwikkelde 45nm-procedé. Hiermee volgen de drie bedrijven IBM en AMD die gisteren informatie publiceerden over hun 45nm-procedé.

De drie Japanse bedrijven werken samen om zich klaar te maken voor de massaproductie van 45nm-chips. Volgend jaar wil de groep twee verschillende procedés introduceren: één geoptimaliseerd voor prestaties en één geoptimaliseerd voor een laag energiegebruik. Net zoals bij het procedé van IBM en AMD maken de Japanners gebruik van immersielithografie, low-k-materialen en strained silicium. Bij immersielithografie is de lucht tussen de lens en de wafer vervangen door water wat een hogere resolutie mogelijk maakt, licht met een golflengte van 193nm in lucht heeft in water namelijk een golflengte van 134nm. Het gebruik van low-k-materialen en strained silicium zorgen voor betere elektrische eigenschappen van de transistors wat resulteert in een lager energieverbruik en een hogere maximale klokfrequentie.

Reacties (13)

[Olaf van der Spek]

Volgend jaar wil de groep twee verschillende procedés introduceren:

Gebruiken ze nu al 65 nm dan of slaan ze die stap helemaal over?

[Verwijderd]

@ Olaf van der spek;

Toshiba produceert al met 65nm.
De stap naar 45nm levert een nog veel hoger stroom verbruik op. Wil je dit tegengaan, dan zal je performance omlaag gaan.

Bij 65nm is het nog met creatief designen mogelijk om een redelijke power/performance verhouding te realiseren.

bij 45 nm wordt dit nog moeilijker en zal je dus een power geoptimaliseerde 45nm process hebben en een performance geoptimaliseerde 45nm process.

@aca

Alle exotische materialen ten spijt blijft stroom verbruik een probleem. de transitoren zijn misschien kleiner, het zijn er echter behoorlijk veel meer op een kleinere geometrie.

[Verwijderd]

De stap naar 45nm levert een nog veel hoger stroom verbruik op. Wil je dit tegengaan, dan zal je performance omlaag gaan.

Pfff... onzin... in principe vebruikt een chip op 45nm minder. Een transistor schakelt immers sneller. Het is alleen dat het standaard SiO2 meer leakage vertoont wanneer men naar de beneden schaalt. Om de leakage binnen de perken de houden worden high k dielectrica gebruikt. In 65nm wordt onder andere SiON gebruikt. Voor 45nm zouden we 'nieuwe' dielectrica kunnen zien zoals HfO2 e.d.

Bij 65nm is het nog met creatief designen mogelijk om een redelijke power/performance verhouding te realiseren.

Helemaal niet. Je kan als designer zelf kiezen waar je voor gaat. Er zijn al zelfs analoge circuits te vinden op 65nm die over t algemeen moeilijker zijn ontwerpen dan digitale circuits. Dus de term 'creatief designen' ontgaat mij een beetje..

[stewie]

Sony/Toshiba produceren zelf zonder IBM/Nvidia de cell en de RSX.
dus kunnen wij europeanen ook nog eens een energie zuinigere PS3 verwachten

[Soepstengel]

Ik denk het niet want dan moeten ze de ontwerp plannen van de PS3 gaan veranderen, de productie lijn aanpassen en er dan ook nog voor zorgen dat alle software er goed mee om kan gaan (al ben ik van dat laatste niet zeker). Als ze dit gaan doen dan zal dit pas veel later gebeuren zeker omdat dit een nieuwe techniek is en daarom veel geld gaat kosten om te ontwikkelen (wat nu al gebeurt) en om te maken/implenteren. Dus volgend jaar wordt deze techniek gebruikt in de PS3 denk ik

[Verwijderd]

Waarom gebruiken ze hier water voor? Zuiver ethanol heeft een hogere brekingsindex , dus zorgt voor meer vertraging van het licht, en dus krijg je een nog lagere golflegte dan 134nm. (of zit ik er naast?)

[Verwijderd]

Ten tijde van de belichting zit er een foto-resist laag op de wafer. Dat is een foto actief polymeer, dat je met organische oplosmiddelen kunt verwijderen.

Met aceton spoel je het zo weg. Met ethanol gaat het minder makkelijk, maar het heeft nog steeds invloed.

Zowiezo is het verschil tussen ethanol en water verwaarloosbaar klein. En dan is water veel plezieriger om mee te werken.

[Verwijderd]

ethanol tast in zekere zin de wafers aan dus lijkt me logisch dat ethanol niet word gebruikt maar gewoon zuiver water wat het spul niet aantast,water is namelijk een natuurlijk product, ethanol is een chemisch goedje

[ATS]

Ethanol, ook wel alcohol genoemd is net zo chemisch als water, of welke andere stof dan ook. Het is ook een heel natuurlijk product.

[Hensz]

Misschien verdampt ethanol te snel en lost het te goed allerlei materialen op waarmee die wafer net bedekt is. Misschien verwarmen ze dat water nog een beetje en halen ze met een beetje geluk op die manier alsnog de index van ethanol.

[amiaima]

Volgens mij laat ethanol een dunne film laag achter op de wafer. Daar komt nog eens bij dat er een gevaar optreed omdat ethanol nogal vluchtig en brandbaar is. Diverse chipbakkers hebben ook al eens een brandje gehad met dit goedje en in Taiwan zijn er nogal wat fabs helemaal in de fik gegaan. Een risco analyse zal al vast wel gedaan zijn.

Grappig is wel op te merken dat een sony veel laat produceren bij IBM.

[571Pro]

jah en wat is verschil tussen het proces van IBM en AMD?
nieuws: IBM en AMD onthullen details 45nm-proces