Cookies op Tweakers

Tweakers maakt gebruik van cookies, onder andere om de website te analyseren, het gebruiksgemak te vergroten en advertenties te tonen. Door gebruik te maken van deze website, of door op 'Ga verder' te klikken, geef je toestemming voor het gebruik van cookies. Wil je meer informatie over cookies en hoe ze worden gebruikt, bekijk dan ons cookiebeleid.

Meer informatie

Door , , 15 reacties
Bron: ASM Lithography

Onze Hollandse trots ASM Lithography heeft aangekondigd dat het met negen grote chipfabrikanten een consortium hebben gevormd voor de ontwikkeling van 157nm lithografie apparatuur. In het clubje bevinden zich grote namen zoals AMD, Infineon, Motorola, TSMC en STMicroelectronics:

VELDHOVEN, The Netherlands, July 13, 2000 – Nine leading-edge semiconductor manufacturers have joined ASML’s industry-wide 157nm lithography technology program, which the lithography equipment leader launched 11 months ago. Advanced Micro Devices, Infineon, Motorola, Philips, Taiwan Semiconductor Manufacturing Company (TSMC), ST Microelectronics and three other top ten IC manufacturers have joined ASML and its strategic technology partners, including Carl Zeiss, in the program to extend imaging capabilities and deliver 157nm lithography systems for advanced IC manufacturing by 2003.

ASML is spearheading the effort to create a 300mm-capable, 157nm scanning system that will exceed the International Technology Roadmap for Semiconductors’ requirements for the 70nm technology node and possibly beyond. Several industry organizations including International Sematech have cited 157nm lithography as an important candidate for printing semiconductor circuit linewidths at the 70nm technology node and below.

"157nm optical lithography is the key enabler for extending Moore's Law into the next decade—and beyond,” commented Jay Deahna, semiconductor equipment analyst with Morgan Stanley Dean Witter. “This program, bringing together a blue chip group of chipmakers to develop 157nm processes, supports our thesis that ASML is increasingly being viewed as the premier supplier of advanced photolithographic technology."

The program consists of two parts. The first part relates to a 157nm exposure system, and allows IC makers to receive early 157nm imaging tools. Quarterly technical reviews enable the participating companies to give input on system design, program execution and prioritization of the program’s overall efforts. The resulting equipment is currently scheduled to begin shipping to program members by the end of 2003.

The second part of the program focuses on developing the infrastructure for 157nm lithography, including photoresists, reticles and processes. This work will use a prototype "mini-stepper" installed in Leuven, Belgium, at IMEC, a leading independent research center for state-of-the-art microelectronic technologies. Participants in this part of the program have access to the process data and experience that is generated, gain first access to integrated process knowledge for pilot production, and acquire experience with 157nm infrastructure elements ranging from reticle handling to optical enhancement techniques such as optical proximity correction and phase shift masks.

"Last July, we began to actively solicit investments of technical resources and participation from all parties that have a role in continuing to shrink the design rules of advanced semiconductor devices,” said Martin van den Brink, executive vice president of marketing & technology at ASML. "Our objective of creating a whole product solution for 157nm lithography will require highly accelerated development work in processes, equipment and materials. As the program's membership attests, this is a global, industry-wide effort to ensure a fast ramp up of 157nm technology."

In addition to this industry-wide program, ASML is also involved in another European research activity in 157nm lithography, which was recently approved by the board of directors of MEDEA (Micro-Electronics Development for European Applications). Participants in this group effort include companies from Germany, France, Belgium and The Netherlands.

Moderatie-faq Wijzig weergave

Reacties (15)

Ik ben zeer onder de indruk, ASML Litho is een goed bedrijf dat goede produkten levert, maar ik wist niet dat het ook in samenwerking met deze fabrikanten produkten ontwikkelt. Interressant.

Ik begrijp dit niet:
</div><div class=b4>
Several industry organizations including International Sematech have cited 157nm lithography as an important candidate for printing semiconductor circuit linewidths at the 70nm technology node and below.
</div><div class=b1>
Als ik het goed lees staat er dat ze met 157nm technologie 70nm willen gaan doen, maar mijn rekenmachine zegt dat 157nm 2,2429 keer zo veel is als 70nm (bij benadering). Wie kan mij dit uitleggen?

</div><div class=b4>
The program consists of two parts. The first part relates to a 157nm exposure system, and allows IC makers to receive early 157nm imaging tools. Quarterly technical reviews enable the participating companies to give input on system design, program execution and prioritization of the program’s overall efforts. The resulting equipment is currently scheduled to begin shipping to program members by the end of 2003. </div><div class=b1>
Als ik dit _wel_ goed begrijp ;) dan krijgen de 9 chipfabrikanten die samenwerken met ASML dus voor 2003 al apparatuur waarmee ze kunnen produceren en testen. Dat maakt het iig voor deze bedrijven een stuk interessanter om mee te werken aan de ontwikkeling van deze apparatuur.

"Wij tweakers" zijn IMHO vooral geïntresseerd in AMD/INTEL en eventueel wat geheugenfabrikanten... Maar wat ik me nu afvraag is waar Philips deze nieuwe technologie wil gaan toepassen. (Ik vraag me ook af wanneer deze apparatuur naar AMD gaat en wanneer INTEL zal beschikken over soortgelijke apparatuur van een andere fabrikant.)

* 786562 Itsme!
Philips is de grootste fabrikant (wereldwijd) voor RF (Radio Frequency) IC's. Deze worden met name toegepast in mobiele telefoons.
Ook worden veel discrete schakelingen (weerstandjes, condensators) steeds meer in IC vorm opgelost. In de telecom levert dit grote prestaties en in de handheld business kunnen o.a de stroomverbruiken van appparaten zo omlaag worden geschroefd. Het zijn dus niet alleen procs die hiervan op den duur gebruik van maken.

Groeten,

A-Rock
</div><div class=b4>
Als ik het goed lees staat er dat ze met 157nm technologie 70nm willen gaan doen, maar mijn rekenmachine zegt dat 157nm 2,2429 keer zo veel is als 70nm (bij benadering). Wie kan mij dit uitleggen?
</div><div class=b1>
Je kunt lijntjes afbeelden die kleiner zijn dan je golflengte. Dit alles volgens de formule :
</div><div class=b4>
lijnbreedte = k_1 * lambda / NA
</div><div class=b1>
met hierin lambda = golflengte van de lichtbron
NA = numerieke aperture van de lens en
k_1 = procesconstante.

De NA van de huidige generatie CaF lensen is 0.63 (uit specificaties van de /950B machine van ASML) terwijl de (huidige) ondergrens voor de k_1 gelijk is aan 0.25. Vullen we dit alles in dan komen we inderdaad onder de 70 nm lijnbreedte.
Dit zal de aandelen weer goed doen!!! :+
HOLLAND........... GAAT WEER IETS }> BETEKENEN ! ...... GO ASML GO ASML }>

Ik denk dat dit heel nutig is voor de gelegenheid om doorteblijven groeien in de Chip markt, ik denk ook dat zo'n project goed is voor de economie en werkgegenheid :+
vet goed nieuws dit.
ook erg blij dat ik aandelen asml heb. :)
</div><div class=b4>Maar wat ik me nu afvraag is waar Philips deze nieuwe technologie wil gaan toepassen.</div><div class=b1>
Wat denk je? Consumentenelektronica, zoals ze dat altijd noemen, natuurlijk. In heel veel TV's zitten Philips chips, waarom ze dan per se deze technologie denken nodig te hebben is mij ook wel een raadsel, misschien gaan ze ook palmtopjes maken?
</div><div class=b4>
Als ik het goed lees staat er dat ze met 157nm technologie 70nm willen gaan doen, maar mijn rekenmachine zegt dat 157nm 2,2429 keer zo veel is als 70nm (bij benadering). Wie kan mij dit uitleggen?
</div><div class=b1>

Daarmee bedoelen ze dat ze met licht (nou, ja UV-straling eigenlijk) met een golflengte van 157nm lijntjes van 70nm breed gaan trekken.
ThE_ED>
Niet consumentenelectronica maae PD semiconductors.
Dit zal de laatste stap zijn in optische lithografie. Als de golflengte nog korter wordt, dan heb je toch een groot probleem met materialen om lenzen en zo van te maken. Alleen CaF (calciumfluoride) is nog redelijkerwijs transparant onder de 160 nm. Verder ken ik geen intense lichtbron onder de 157 nm (157 nm is de golflengte van een fluor-laser).

Ik ben benieuwd wat de volgende ontwikkeling wordt...

Op dit item kan niet meer gereageerd worden.



Apple iOS 10 Google Pixel Apple iPhone 7 Sony PlayStation VR AMD Radeon RX 480 4GB Battlefield 1 Google Android Nougat Watch Dogs 2

© 1998 - 2016 de Persgroep Online Services B.V. Tweakers vormt samen met o.a. Autotrack en Carsom.nl de Persgroep Online Services B.V. Hosting door True