Het Chinese bedrijf Prinano Technology heeft zijn eerste nano-imprintmachines aan een klant geleverd. Dit is zover bekend het tweede bedrijf dat een dergelijke machine heeft afgeleverd; Canon deed dat in 2023 al. De machine is bedoeld voor geheugenchips en siliciumfotonica.
Het nano-imprintlithografiesysteem PL-SR van Prinano is volgens het bedrijf gemaakt om chips te 'stempelen' door een mal van kwarts met daarin het nanocircuitontwerp op een wafer te drukken. Op de wafer wordt een dun laagje 'resist' met een inkjetsysteem aangebracht. Deze laag wordt na het drukken met de stempel aan UV-licht blootgesteld en uitgehard. In tegenstelling tot bij gebruikelijke fotolithografie wordt er dus geen gebruik gemaakt van het projecteren van licht op een lichtgevoelige resistlaag.
Prinano gebruikt naar eigen zeggen 300mm-wafers. Deze worden uitgelijnd met de mal op een nauwkeurigheid van 10nm of minder, waarna het systeem 'lijnbreedtes van minder dan 10nm' kan produceren. Canon had het in 2023 over lijnbreedtes van 14nm. Na iedere stempelstap wordt de wafer opnieuw uitgelijnd om het proces te herhalen.
Het bedrijf claimt dat de machine gebruikt kan worden voor de productie van 'geheugenchips, siliciummicrodisplays, siliciumfotonica en geavanceerde packaging', mogelijk verwijzend naar geavanceerde microchips. Volgens Tom's Hardware is het PL-SR-systeem echter niet in staat om op grote schaal chips te produceren. De machines zouden tientallen wafers per uur kunnen produceren, tegenover tweehonderd wafers door een moderne EUV-machine. Het is overigens niet duidelijk wat de yields van een PL-SR-systeem zijn.