Een team van Australische en Chinese wetenschappers heeft een hologram ontwikkeld met een dikte van 25nm. De techniek kan op termijn mogelijk gebruikt worden voor holografische opslag of 3d-weergaven.
Een obstakel voor gebruik van hologrammen bij dunne elektronica is dat van relatief dik materiaal gebruikgemaakt moet worden, om de fase van licht vast te leggen. Een team van de RMIT-universiteit in het Australische Melbourne maakt gebruik van topological insulator-materiaal om zeer dunne hologrammen te kunnen maken. Het materiaal beschikt over een lage brekingsindex voor de oppervlaktelaag, maar een zeer hoge brekingsindex in de lagen eronder. Deze eigenschappen maken het tot een geschikte kandidaat voor opto-elektronische toepassingen zoals hologrammen.
De onderzoekers ontwikkelden een 60nm dun hologram van 3x3mm met 1500x1500 pixels. Ze wisten zelfs een 25nm dun hologram te creëren, maar de weergave hiervan bevatte meer ruis. Volgens het team zijn de hologramlagen eenvoudig en goedkoop te maken, omdat ze direct beschreven worden met lasers.
Ze hopen hun vinding op termijn toe te kunnen passen voor dataopslag, beveiliging en 3d-holografie. Voor dit laatste willen ze nu een sterkere laag ontwikkelen die op een lcd gelegd kan worden. Hiervoor moeten ze de pixelgrootte minstens tien keer kleiner maken.
De onderzoekers publiceren hun werk onder de noemer Nanometric holograms based on a topological insulator material in Nature Communications.