Het Nederlandse ASM International en het Japanse Hitachi hebben een overeenkomst getekend die Hitachi de mogelijkheid biedt om voor de productie van wafers bepaalde ASM-patenten te gebruiken.
Het gaat in dit geval om patenten met betrekking tot de zogeheten 'atomic layer deposition'-technologie. Met behulp van dit chemische proces kan een zeer dunne coating op oppervlakten, zoals wafers, aangebracht worden. Het voordeel van ASM's techniek is dat er meerdere wafers tegelijk van een coating voorzien kunnen worden, waardoor de kosten relatief laag kunnen blijven.
De afgelopen jaren maakte Hitachi al gebruik van deze technologie in de apparatuur die voor zijn klanten gebouwd wordt, maar tot op heden waren hierover geen afspraken gemaakt met ASM. Albert Hasper, algemeen directeur van het Nederlandse bedrijf, is blij dat Hitachi een patentovereenkomst met zijn bedrijf is aangegaan. ASM beschikt over een goedgevulde patentportfolio met betrekking tot de atomic layer deposition-techniek, en de nieuwe overeenkomst zal dan ook de nodige extra inkomsten in het laatje brengen. Cijfers werden echter niet bekendgemaakt.