Cookies op Tweakers

Tweakers maakt gebruik van cookies, onder andere om de website te analyseren, het gebruiksgemak te vergroten en advertenties te tonen. Door gebruik te maken van deze website, of door op 'Ga verder' te klikken, geef je toestemming voor het gebruik van cookies. Wil je meer informatie over cookies en hoe ze worden gebruikt, bekijk dan ons cookiebeleid.

Meer informatie

Door , , 10 reacties
Submitter: The mindkiller

Het Nederlandse ASM International en het Japanse Hitachi hebben een overeenkomst getekend die Hitachi de mogelijkheid biedt om voor de productie van wafers bepaalde ASM-patenten te gebruiken.

ASM InternationalHet gaat in dit geval om patenten met betrekking tot de zogeheten 'atomic layer deposition'-technologie. Met behulp van dit chemische proces kan een zeer dunne coating op oppervlakten, zoals wafers, aangebracht worden. Het voordeel van ASM's techniek is dat er meerdere wafers tegelijk van een coating voorzien kunnen worden, waardoor de kosten relatief laag kunnen blijven.

De afgelopen jaren maakte Hitachi al gebruik van deze technologie in de apparatuur die voor zijn klanten gebouwd wordt, maar tot op heden waren hierover geen afspraken gemaakt met ASM. Albert Hasper, algemeen directeur van het Nederlandse bedrijf, is blij dat Hitachi een patentovereenkomst met zijn bedrijf is aangegaan. ASM beschikt over een goedgevulde patentportfolio met betrekking tot de atomic layer deposition-techniek, en de nieuwe overeenkomst zal dan ook de nodige extra inkomsten in het laatje brengen. Cijfers werden echter niet bekendgemaakt.

Moderatie-faq Wijzig weergave

Reacties (10)

Altijd gunstig voor de Nederlandse economie natuurlijk :)

Wat me wel opvalt, Hitachi gebruikte deze technologie al zonder een licentie, waarom is er dan geen rechtszaak begonnen? Of denken Nederlanders wat dat betreft nuchterder en zien ze in dat dat geld kost en dit geld op kan leveren? Opmerkelijk, gezien de patentoorlogen je overal om de oren vliegen.
Misschien maakten ze gebruik van dezelfde technologie, maar heeft ASM een patent genomen om die specifieke technologie makkelijker/beter te maken?

[Reactie gewijzigd door Destralak op 30 november 2007 12:33]

wellicht zijn ze gecompenseerd door gunstige voorwaarden bij een andere overeenkomst ofzo. ze zullen niet zomaar toestaan dat iemand hun patenten zo schend lijkt me.
De Nederlandse lobby is meer toegespitst op onderhandelen dan dreigen. Ik denk ook dat dat een van de krachten is van het hele Nederlandse bedrijfsleven en nog steeds een motivatie voor veel buitenlandse bedrijven om zich hier te vestigen :)
Wellicht omdat men bekent raakt met nieuwe technologieen uit wetenschappenlijke stukken en omdat men in de chipfabricage er werkelijk zeer kort op zit met het implementeren hiervan. Ik kan me zo voorstellen dat het een enkele keer mogelijk is dat de technologie zo effectief is dat deze al goed toepasbaar is lang voordat alle patenten en marktonderzoeken voor licensering zijn afgerond.
Ze zullen over en weer patenten van elkaar gebruiken en daarover communiceren.

Om zonder discussie vooraf een rechtzaak te beginnen heeft in zo'n geval geen nut.
Zie boven voor de diverse opties maar ook: als ze dit eerst uitproberen om te zien of het voor hun werkt en het blijkt niets te zijn kost het ze geen moeilijke onderhandelingen. Waarschijnlijk hebben ze daar zelfs nog toestemming voor gekregen van ASM.
Nu ze weten dat ze dit kunnen implementeren en het duidelijk voordelen voor ze oplevert is de stap naar een licentie nemen niet zo groot meer.
Het gaat hier over een techniek die zowiezo al breed gebruikt word en in princiepe dus niet gepatenteerd kan worden. atomic layer deposistion (atd) is een onderdeel van het zogeheten spin coating. alleen is ASM wereld leider op dit gebied en heeft dus de techniek heel erg verfijnd en ik denk dat Hitachi gewoon iets had van als we nu verder gaan met ontwikkelen van deze techniek kunnen we hem beter kopen
Het heeft niets met spin coaten te maken. ASM maakt vertical furnaces. Het vernieuwende aan het ASM proces is juist dat er in Batch (dus 50 -125 wafers) tegleijkertijd vorzien kunnen worden van een ald laag.
Atoomlaagdepostie wordt gebruikt voor het aanbrengen van lagen op atoomniveau, op basis van oppervlaktereacties. Spin coating brengt een dunne laag aan d.m.v. het rondspinnen van een substraat met daarop een vloeistof. Deze technieken zijn geenszins 'onderdeel' van elkaar.

Op dit item kan niet meer gereageerd worden.



Apple iOS 10 Google Pixel Apple iPhone 7 Sony PlayStation VR AMD Radeon RX 480 4GB Battlefield 1 Google Android Nougat Watch Dogs 2

© 1998 - 2016 de Persgroep Online Services B.V. Tweakers vormt samen met o.a. Autotrack en Carsom.nl de Persgroep Online Services B.V. Hosting door True