Eerder vandaag konden we al lezen op EE Times over de vorderingen die Motorola maakt met het ontwerp van hun finFET. Maar EE Times laat het niet bij dat ene bericht, want er zijn vandaag meer interessante ontwikkelingen op het gebied van microelectronica te melden. Motorola en Texas Instruments willen namelijk de polykristallijnsilicium gate van transistors vervangen door een metalen gate.
Polykristallijnsilicium is een laagje silicium met een kristalstructuur waar vreemde atomen aan toe zijn gevoegd om het beter te laten geleiden. Het probleem is echter dat deze vreemde atomen er ook voor kunnen zorgen dat de isolator die tussen de gate en het kanaal van de FET zit ook gaat geleiden. Om dit op te lossen moet de isolator dikker worden gemaakt met als bijeffect dat de transistor langzamer schakelt. Metalen daarentegen zijn goede geleiders en hoeven dus niet met vreemde atomen vervuild te worden waardoor de isolatielaag dun kan blijven. Helaas hebben de meeste metalen niet de eigenschappen van polykristallijnsilicium die nodig zijn om een gate te maken. Maar er is hoop, Motorola zal op de International Electron Devices Meeting een aantal metalen presenteren die wel de goede eigenschappen hebben.