Nieuwe doorbraak in productie elektronica

ScienceDaily schrijft dat de aanzienlijke hoeveelheid eventuele doorbraken in de productieprocessen van hightech apparatuur weer is aangevuld met een nieuwe ontwikkeling. Het gaat om de zogenaamde 'crystalline oxide films', dunne laagjes gekristalliseerd materiaal die gebruikt worden bij onder andere het maken van halfgeleiderchips en flatpanels. In plaats van dat er een zeer hoge temperatuur en vacuüm nodig is, werkt het nieuwe proces al bij een paar honderd graden Celsius. Daarnaast kan het gewoon in een waterbad uitgevoerd worden, wat behoorlijk in positieve zin in de kosten kan schelen.

Aardig wat apparatuur bevat de laagjes, bijvoorbeeld voor isolatie, het geleiden van stroom of een bepaald doel dat samenhangt met de optische kernmerken ervan. Niet voor niets wordt het project van de Oregon State University dan ook door Hewlett Packard gesponsord met 1,25 miljoen dollar. Wat de toekomst zal bieden is vanzelfsprekend nog erg onduidelijk, aangezien er een hevige strijd is in deze branche. Ondanks dat ziet een woordvoerder het toch allemaal best zitten:

According to John Wager, a co-author on the study and professor of electrical and computer engineering at OSU, it may take further research and increased collaboration with private industry to implement the new approach in large-scale commercial manufacturing processes. But the possibilities seem promising, he said.

"It's always difficult to predict exactly how a new technology will be received and used in manufacturing products," Wager said. "But clearly this offers some ways to reduce costs or create new products that never were possible before." The OSU researchers said it may now be more practical to place electronic devices on a plastic substrate, such as a credit card or for other uses. There may be applications with flat panel displays, insulating glass, storage batteries, use of these films as a corrosion barrier, in liquid crystal displays, or in some of the exciting new products made possible by transparent electronics.

Met dank aan Verwijderd voor de tip.

Reacties (12)

[Verwijderd]

Heeft HP ook de rechten op deze techniek? Dan zullen we er voorlopig niet veel van merken, vrees ik.

Edit:

OSU has applied for a patent on the new advance.

Nee dus. Dan vraag ik me toch af waarom HP daar $1,25m in investeerd?

[GreeTz]

Wanneer een bedrijf als HP investeerd in zulke innovatieve technieken zullen ze deze eerder toepassen in nieuwere producten, waaronder in de prof. meetapparatuur waar alle elektronici HP van kennen (en niet die printer die bij iedereen op het bureau staat). Deze meetapparatuur zal goedkoper en geavanceerder worden zodat er weer nieuwere technieken en daaropvolgend nieuwere en goedkopere producten ontwikkeld kunnen worden.

Net als de eerste cpu's welke ingezet worden om een opvolger te calculeren, waarna dit proces zich volgens de wet van Moore voort zal zetten.

[Verwijderd]

Dan vraag ik me toch af waarom HP daar $1,25m in investeerd?

De techniek is ontwikkeld bij Oregon State University, maar kwam door sponsering van HP pas van de grond. Dus zonder sponsering had het onderzoek al helemaal niet kunnen gebeuren. En doordat OSU de rechten in handen heeft, kunnen ze deze techniek gaan verkopen. En ik neem aan dat HP een stuk minder gaat betalen als de concurrentie. Bovendien zal ongetwijfeld HP een zekere inbreng hebben in het converteren van een laboratorium opstelling naar een massaproductielijn. En daar valt denk ik voor HP ook nog wel geld mee te verdienen. Al met al dus niets vreemd aan deze manier van sponseren.
Ook in Nederland wordt aan de universiteiten gesponserd onderzoek gedaan overigens.

[EfBe]

paar honderd graden, waterbad? klinkt niet echt plausibel

[Verwijderd]

To achieve crystallinity, it's usually necessary to manufacture the films in high vacuum conditions and at extraordinarily high temperatures of more than 1,800 degrees. Sophisticated equipment is needed to achieve both the vacuum condition and high temperature, and the process is expensive.

By contrast, the new approach discovered by OSU scientists and engineers uses a simple, water-based chemistry to deposit and crystallize these films at dramatically lower temperatures, about 250 degrees, or just slightly hotter than boiling water. No vacuum is necessary.

[The Bad Seed]

Het zal wel graden Fahrenheit zijn: Water kookt bij 212 °F
250 °F is gelijk aan 121°C

[bitflusher]

als je water onder hoge druk zet gaat het pas later koken

[Verwijderd]

paar honderd graden, waterbad? klinkt niet echt plausibel

Zekers wel! Onder druk kan water probleemloos hoger dan honderd graden worden.

[The Dutch Dude]

Ut water zal wel nodig zijn om de kristallen in op te lossen tot ze echt kristalliseren op de films..

[pinockio]

Juist, water met zouten erin opgelost heeft een hoger kookpunt. En verder kun je ook nog de druk verhogen, kookt het ook op hogere temperaturen.

[SkoolieDie]

Er zijn de laatste jaren heel veel rolutionaire uitvindingen gedaan (holo, biotech, nanochips, quantumprocessing, etc. etc.) die stuk voor stuk nog jaren weg zijn van produktie.
Daarom vind ik het leuk om ook eens wat te lezen over doorbraken in prodktietechnieken, want dat is voor ons eindgebruikers natuurlijk essentieel om alle nieuwigheden in onze computers te krijgen.

[The Dutch Dude]

Ja, ze klinken allemaal even goed, maar ik hoop ook dat ze allemaal ook zoen wat de makers beweren dat ze doen....