ASML introduceert 100nm waferstepper/scanner

PcDealer schrijft: "ASM Lithography uit Veldhoven (30 minuten van mijn huis ) heeft via een press release laten weten dat zij de PAS 5500/1100TM op de markt brengen. Dit machientje van boven de 100 miljoen US dollar maakt het fabrikanten mogelijk om in hoog tempo IC-tjes met 100 nanometer connecties te bakken.":

VELDHOVEN, The Netherlands, November 7, 2000 -- ASML today introduced its newest 193nm Step & Scan lithography tool for high-volume production of semiconductor devices at the 100nm technology node. The PAS 5500/1100TM system provides the highest value of ownership for leading-edge IC makers by combining a 0.75 numerical aperture (NA) lens, improved leveling performance and industry-leading overlay with an exposure capacity exceeding 90 200mm wafers per hour at a dose of 20 mJ/cm2.

ASML entered the 193nm lithography equipment market two years ago when it introduced its PAS 5500/900TM tool, the semiconductor industry's first wide-field, 193nm Step & Scan system. Leveraging the process experience gained from its predecessor, the PAS 5500/1100 makes the next productivity leap in 193nm volume manufacturing.

The PAS 5500/1100 Step & Scan tool utilizes Carl Zeiss’ new StarlithTM 1100 lens, whose 0.75 NA equals the industry's largest. High-quality optical materials and coatings result in high transmission of 193nm-wavelength light. The illumination source is a 2 kHz, 10 W laser with a bandwidth of 0.35 pm.

The PAS 5500/1100 is ASML’s first lithography system to feature reticle alignment at actinic (blue) wavelength, using the 193nm exposure light. The PAS 5500/1100 also includes ASML’s patented ATHENATM wafer alignment system, enabling the tool to deliver industry-leading overlay accuracy. In addition, the wafer-leveling system has been substantially enhanced over previous PAS 5500 models to ensure depth-of-focus process latitude.

"Our new PAS 5500/1100 product supports the imaging requirements of the world’s leading-edge IC makers as they migrate to 100nm volume production," said Martin van den Brink, executive vice president of marketing and technology at ASML. "This newest addition to our product portfolio is one of the most advanced 193nm lithography tools available today, providing tighter resolution, better process overlay and higher throughput than any other system currently available on the global market."

Initial shipments of the PAS 5500/1100 will begin in March 2001.

Reacties (23)

[Molybdenum]

mooi mooi mooi!
hoe kleiner hoe beter.

de dosis is inderdaad 20 mJ/cm2 (milliJoule/cm2). dit is de hoeveelhied licht (UV, 193 nm) per oppervlak voor het belichten van de fotolak.

ik heb op www.eet.com/story/technology/OEG20001103S0017 gelezen dat de 70 nm gate ook al is ontwikkeld!

[Juup]

Ok voor de bollebozen onder ons:
a dose of 20 mJ/cm2
is dat milli Joule per vierkante centimeter? Ik d8 eerst zelf aan Mega Junctions maar dat zal wel nergens op slaan.

[Verwijderd]

is dat een serieuse vraag?
ik hoop het niet, als tweaker ben je natuulijk de beste van de klas bij natuurkunde geweest en dan weest je uiteraard dat :
m=milli (M=mega)
J=joule (zou ook magnetische inductie- polaristatie, kunnen zijn)(bron binas, ofcource)
ik heb het artikel nog niet gelezen maar ik denk dat het wel milli joule is hoor

[Verwijderd]

Het zijn milliJoules. Het geeft de hoeveelheid energie aan die op de wafer terecht komt in de vorm van licht. De hoeveelheid licht wordt gedoseerd in een aantal lichtpulsen van een ArF (argonfluoride) excimer laser met (volgens de gegevens) een pulsenergie van 5 mJ.

[Verwijderd]

Kijk dit maakt mijn nederlandse hartje trots, zeker als je dit over een jaar gecopieerd ziet terug komen uit de states!!!! Nu zorgen dat zo'n mooie nieuwe waferstepper bij DIMES Delft komt!!

[GraasGast]

Gekopieerd in de states??? ik denk echt wel dat Intel en AMD wat van deze machines gaan bestellen hoor! Met die recente overname daar zijn ze nu marktleider in de wereld, ook in de states.

[Verwijderd]

Zoals je mischien weet zijn er 3 grote fabrikanten van deze machines, het feit is dat bij ASML vaak de nieuwste technologie ligt die daarna wordt overgenomen door de anderen, net zoals Phillips bijvoorbeeld.

Maar inderdaad dit zijn niet Intel en AMD, wat dit zijn chippenbakkers en ik dacht niet dat zij waffersteppers produceerde......

[Verwijderd]

Voor zover ik weet werkt AMD inderdaad met ASML machines(in iedergeval in Dresden waar het HiPL6 proces op ASML machines draait). Intel haalt haar wafersteppers bij een andere (Amerikaanse) fabrikant.


* 786562 ThaVinny

[delyver]

In dresden staan idd ASML maschines
ASML levert idd ook niet aan intel maar wel indirect want ASML heeft namelijk net het bedrijf wat aan intel levert overgenomen!!!

Nu zijn er nog maar 3 concurenten Nikon en Canon en een een of ander vaag klein bedrijfje uit amerika


* 786562 delyver

[Verwijderd]

Nederlanders letten op de kleintjes, maar dat kon je wel opmaken uit het bericht denk ik.

[Verwijderd]

1 woord: WOW!!!
Knap gedaan jongens! Op naar nog kleiner zou ik zo zeggen! Wanneer zouden we nu officieel het nanotijdperk betreden??

[Verwijderd]

Is dat nou een teletijdmachine

[Helox-in-a-box]

ff eentje halen morge, kannik zelf mn computer "in elkaar zetten" hmm, meer geheugen nodig? ff mn ASML PAS 5500/900TM aanzetten

[Verwijderd]

Het laserlicht komt door een reticle (soort negatief), en dat beeld wordt belicht op de wafer. Bij een scanner bewegen wafer en reticle continue (om de hele wafer te belichten), bij de oudere steppers wordt er steeds een stukje belicht.

(ik werk bij ASML, vandaar *-)

[delyver]

Het knappe van die machines is dus dat ze zo snel op zo'n nauwkerigheid kunnen werken!!

Op zo'n wafer gaan afhankelijk van de groote zo'n 80 chips. steeds word er een nieuw stukje belicht daarna word ie gebakken (zo ongeveer met een bepaalde stof ik weet het niet precies meer)
om de laag niet meer lichtgevoelig te maken want er gaan immers meedere lagen in een chip. Dus nu gaat ie naar de volgende laag op dezelfe manier.


* 786562 delyver

[Verwijderd]

Weet iemand nou hoe zo'n ding precies werkt?
Wordt er met een laser een beeld in fotolak (op de wafer) belicht, of wordt er met een laser een negatief belicht dat op de wafer wordt geprojecteerd (als bij fotografie).
Dus direct met een laser of indirect met een negatief?

[irrelevant]

www.asml.com/profile/micrfr.htm

Het belichtte deel blijft dus zitten, rest wordt weggewassen.
---------------
devos: als het belichtte deel blijft zitten is het masker (reticle) toch een positief ipv negatief?
Laat ook maar, als het proces maar duidelijk is.

[Verwijderd]

Ja me optiessssssssss