Onderzoekers hebben een lithografische technologie ontwikkeld die gebruikmaakt van plakband. De tape wordt gebruikt om een laagje van een wafer af te pellen, zodat nanostructuren gevormd worden die niet te maken zijn met standaard technieken.
Teams van onder andere de universiteiten van Minnesota en Seoel en het Argonne National Laboratory hebben de fabricagetechniek ontwikkeld. Met de methode kunnen nanostructuren gemaakt worden op chipwafers die niet met bestaande, reguliere lithografische technieken gerealiseerd kunnen worden. Plakband speelt een sleutelrol in een van de laatste stappen van de productie. De onderzoekers wisten zo structuren te maken met ruimtes van een nanometer groot. Chips met dergelijke kleine 'gaatjes' zouden vooral voor optische toepassingen van belang zijn.
De onderzoekers maakten de chips door eerst een patroon op een chip aan te brengen met standaard lithografische technieken. Vervolgens werd daar via opdamping een zeer dun laagje, van slechts één of enkele atomen dik, aangebracht. De ruimtes tussen de originele patronen worden opgevuld door metaal, dat ook bovenop de patronen terecht komt. Met plakband wordt dat bovenste metaallaagje verwijderd. Het zeer dunne opgedampte laagje tussen het originele patroon en het metaal zorgt voor zeer kleine ruimtes op nanometerschaal, waarvan de afmetingen zeer precies gecontroleerd kunnen worden.
Voor optische toepassingen kan licht door de 'nanogaatjes' gevoerd worden. Daarbij wordt het licht extreem versterkt. De onderzoekers maakten een testwafer met doorsnede van 4 inch met 150.000 structuren die over lichtversterkende eigenschappen beschikten. De gaten die met deze 'atomic layer lithography' werden gemaakt, waren daarbij slechts 1,1nm groot, een prestatie die met standaard lithografie nooit gehaald kan worden.