Cookies op Tweakers

Tweakers maakt gebruik van cookies, onder andere om de website te analyseren, het gebruiksgemak te vergroten en advertenties te tonen. Door gebruik te maken van deze website, of door op 'Ga verder' te klikken, geef je toestemming voor het gebruik van cookies. Wil je meer informatie over cookies en hoe ze worden gebruikt, bekijk dan ons cookiebeleid.

Meer informatie

AMD test eerste chips gemaakt met euv-lithografie

AMD en IBM hebben een chip aan de praat gekregen door een wafer met euv-lithografie te bewerken. De techniek zou een stap op weg zijn naar 22nm-fabricagetechnieken die in 2016 gemeengoed moeten zijn.

WaferAMD is er in geslaagd een chip met behulp van euv-lithografie te bakken, schrijft Xbitlabs. Vooralsnog is het alleen gelukt de metalen interconnects van de afzonderlijke transistors op de chip via euv-lithografie te maken. In toekomstige tests moet de techniek voor alle lagen van geďntegreerde circuits gebruikt gaan worden. Het uiteindelijke doel is het fabriceren van chips met een 22nm-proces.

Volgens de Itrs, dat zich met de halfgeleidertoekomst bezighoudt, worden chips in 2016 op 22nm gefabriceerd. Tegen die tijd moet het euv-proces gebruikt kunnen worden om de gehele chip te produceren. Voor de productie van de chip, werkte AMD samen met IBM, Asml en Cnse. De chip werd middels traditionele 193nm-lithografie in de Duitse AMD-fabriek in Dresden opgebouwd, waarna IBM in het Cnse-lab met een euv-lithografie-scanner van Asml voor de metalen interconnects zorgde.

Het gebruik van uv-licht met kortere golflengte in lithografie stelt chipfabrikanten in staat kleinere componenten op een wafer te etsen. Traditionele 193nm-lithografie kan structuren tot ongeveer 50nm op de wafer overbrengen, terwijl immersie-lithografie dankzij vloeistof tussen lens en wafer tot structuren van ongeveer 32nm in staat is. Door licht met nog kortere golflengtes te gebruiken, extreem ultraviolet heeft een golflengte van 13,5nm, zouden structuren van 22nm mogelijk zijn. Overigens is Philips Extreme UV in samenwerking met Xtreme technologies erin geslaagd de energie-output van een gasontlading-euv-bron omhoog te schroeven naar 500 watt. Meer energie is wenselijk, aangezien de optische elementen in euv-lithografie-apparatuur een groot deel van de straling absorberen, waardoor onvoldoende energie voor het lithografie-proces overblijft.

EUV Lithografie

Door Willem de Moor

Redacteur componenten

28-02-2008 • 16:16

32 Linkedin Google+

Submitter: Countess

Lees meer

IBM is eerste met 22nm sram-bouwsteen Nieuws van 19 augustus 2008
IBM wil dna chips laten bouwen Nieuws van 20 februari 2008
IBM en AMD onthullen details 45nm-proces Nieuws van 13 december 2006
IBM verlegt grenzen chiplithografie Nieuws van 20 februari 2006

Reacties (32)

Wijzig sortering

Call of Duty: Black Ops 4 HTC U12+ dual sim LG W7 Google Pixel 3 XL OnePlus 6 Battlefield V Samsung Galaxy S9 Dual Sim Google Pixel 3

Tweakers vormt samen met Tweakers Elect, Hardware.Info, Autotrack, Nationale Vacaturebank en Intermediair de Persgroep Online Services B.V. © 1998 - 2018 Hosting door True