Silicon Strategies meldt ons dat ASML MaskTools met een nieuw product op de markt komt, waarmee bestaande optische lithografische technieken een stukje beter getweakt kunnen worden. Nu worden gereedschappen van 193nm gebruikt om 90nm (0,09 micron) chips te maken. Met het nieuwe product Chromeless Phase Lithography (CPL) kunnen deze gereedschappen worden gebruikt om 70nm chips te produceren. ASML MaskTools, dat een dochteronderneming is van ASML Holding, zal de CPL technologie samen met eigen analyse en simulatiesoftware gaan leveren. Verwacht wordt dat met behulp van CPL technieken de optische lithografie nog een tijd vooruit kan:
SANTA CLARA, Calif. -- During the SPIE Microlithography conference here, ASML MaskTools Inc. entered the phase-shift software photomask market with a product that promises to extend optical lithography tools for next-generation devices.
The company's product, known as Chromeless Phase Lithography (CPL), is based on "soft" or attenuating phase-shift technology. CPL is a "full-chip" solution aimed to extend 193-nm lithography tools down to the 70-nm (0.070-micron) node. At present, 193-nm tools are generally geared for processing chips at the 90-nm (0.09-micron) node.
Onze dank gaat uit naar RawPeanut voor het melden van dit nieuws.