Cookies op Tweakers

Tweakers maakt gebruik van cookies, onder andere om de website te analyseren, het gebruiksgemak te vergroten en advertenties te tonen. Door gebruik te maken van deze website, of door op 'Ga verder' te klikken, geef je toestemming voor het gebruik van cookies. Wil je meer informatie over cookies en hoe ze worden gebruikt, bekijk dan ons cookiebeleid.

Meer informatie

Imec twijfelt of 7nm-chipproductie volledig via euv gaat verlopen

Onderzoekers van technologie-instituut Imec zien nog flinke obstakels voor de inzet van de euv-technologie. Worden deze niet overwonnen, dan zal de 7nm-productie een zogenoemde half node worden waarmee de chips op dat procedé flink duurder zijn om te maken.

De onderzoekers lieten op het Imec Technology Forum weten optimistisch te zijn over het inzetten van euv voor de 7nm-productie, maar voor de mate waarin bestaat nog twijfel, schrijft EE Times. Voor het huidige nanometer-productieproces wordt immersielithografie ingezet, maar chips moeten in steeds meer stappen door de machines belicht worden om kleinere lijntjes op de wafers te krijgen. Daardoor nemen de tijden en kosten toe. De euv-machines moeten gebruikmaken van licht met een golflengte van 13,5nm, waarmee in een enkele stap de kleine structuren op wafers aangebracht kunnen worden, waar de huidige immersiemachines meerdere stappen voor nodig hebben. Volgens Imec zijn 34 lithografiestappen nodig voor 7nm via immersie en 9 via euv.

De euv-machines van ASML zijn echter nog niet gereed voor massaproductie. Om ze effectief in te zetten zijn een aantal verbeteringen nodig, aldus Imec-onderzoekers. De lichtbron moet een upgrade krijgen naar 180W, waar ASML nu nog tot maximaal 110W komt. Verder moeten de systemen 80 procent van de tijd kunnen functioneren; nu is dat gemiddeld 50 tot 60 procent. ASML meldde echter dat een klant met zijn NXE 3300B-machine een uptime van 82 procent had behaald gedurende een week en eind dit jaar moet 86 procent binnen handbereik zijn.

Verder moet ook de productie omhoog van de 70 tot 80 wafers per uur nu, naar 200 wafers per uur. Dit laatste is de snelheid waarmee de huidige immersielithografiemachines de wafers kunnen beschijnen. Heel lang hebben ASML en zijn klanten niet meer om de machines gereed te krijgen. Over 18 maanden zouden ze productierijp moeten zijn, anders beginnen de fabrikanten aan de 7nm-productie zonder euv, zegt An Steegen van Imec onderzoeks-tak voor process technology: "In dat geval wordt 7nm waarschijnlijk een half node, geen volledig shrink". De euv-machines zouden dan deels voor de node ingezet worden. Bepaalde kritische lagen worden dan via euv geproduceerd. Voor de procedé's na 7nm zullen waarschijnlijk andere technieken moeten worden ingeschakeld, waardoor euv mogelijk slechts een enkele node meegaat. Overigens werkt Imec al aan andere technieken voor transistors die de huidige finfet-technologie moeten opvolgen.

Volgens Steegen is het ook de vraag of de kosten per transistor bij de 10nm-productie voor alle fabs gaan dalen. Veel fabrikanten gaven al aan dat de kosten per transistor voor de 20nm- en 14nm/16nm-productie waren gestegen, alleen voor Intel was dit niet het geval. ASML maakte echter bekend eind dit jaar een machine voor immersielithografie te leveren die 275 wafers per uur aankan, wat de kosten zou moeten drukken.

Door Olaf van Miltenburg

Nieuwscoördinator

07-07-2015 • 15:08

31 Linkedin Google+

Submitter: witeken

Lees meer

ASML: de onbekende gigant Video van 26 januari 2014

Reacties (31)

Wijzig sortering

Apple iPhone XS Red Dead Redemption 2 LG W7 Google Pixel 3 XL OnePlus 6T (6GB ram) FIFA 19 Samsung Galaxy S10 Google Pixel 3

Tweakers vormt samen met Tweakers Elect, Hardware.Info, Autotrack, Nationale Vacaturebank en Intermediair de Persgroep Online Services B.V.
Alle rechten voorbehouden © 1998 - 2018 Hosting door True