Tweakers maakt gebruik van cookies, onder andere om de website te analyseren, het gebruiksgemak te vergroten en advertenties te tonen. Door gebruik te maken van deze website, of door op 'Ga verder' te klikken, geef je toestemming voor het gebruik van cookies. Je kunt ook een cookievrije versie van de website bezoeken met minder functionaliteit. Wil je meer informatie over cookies en hoe ze worden gebruikt, bekijk dan ons cookiebeleid.

Meer informatie

Door , , reacties: 9, views: 7.538 •

Nikon is een samenwerking aangegaan met een bedrijf uit Singapore om gezamenlijk lithografieapparatuur te ontwikkelen waarmee kleinere transistors kunnen worden geproduceerd dan tot nu toe mogelijk was. In een testlab zal 193nm-lithografie worden ontwikkeld.

De onderzoeksactiviteiten van Nikon en het A*STAR Institute of Microelectronics worden ondergebracht in een r&d-laboratorium. De Japanners en Singaporezen zullen samen lithografische technieken ontwikkelen om 193nm-licht te gebruiken voor halfgeleiderproductie. Daarbij zouden argonfluoride-lasers gebruikt worden voor het uitzenden van diep-ultraviolet licht om wafers te produceren. Daarbij moeten technieken als multiple patterning en zelforganisatie een rol spelen.

Met de lithografische technieken moeten wafers met transistors van minder dan 20nm worden geproduceerd. De kleinste transistors die momenteel op 22nm geproduceerd worden, zouden met de huidige technieken lastig kleiner gemaakt kunnen worden. Met technieken als multi patterning en met nanobolletjes die het fotomasker spontaan vormen, moeten kleinere transistors mogelijk gemaakt worden.

Een concurrerende techniek, die fijnere patronen kan produceren door licht met een kleinere golflengte te gebruiken, is eveneens in ontwikkeling. Die euv-techniek laat echter vooralsnog op zich wachten; concurrent ASML heeft die techniek in ontwikkeling, net als Nikon zelf.

Reacties (9)

Nikon and IME will extend ArF deep-ultraviolet (DUV) dry and immersion lithography by further developing multiple patterning and directed self-assembly techniques
Optical lithography at 193 nm has been around for years and is used, for example, in the production of Intel's current 22 nm Ivy Bridge CPU chips.
Nikon and IME's other approach -- directed self-assembly -- is a radical departure from conventional lithography; in this technique, nanosized building blocks (such as nanospheres) are made to assemble to create the photomask required for exposure. This is called a "bottom-up" technique, as opposed to conventional lithography's "top-down" approach.
Rechtstreeks uit het artikel, ze gaan de bestaande technieken met 193nm licht verder ontwikkelen.

[Reactie gewijzigd door Mraedis op 3 januari 2013 13:55]

Op dit item kan niet meer gereageerd worden.